In general, the sputtered area diam

In general, the sputtered area diameter increases with
increasing gap distance as depicted by the relationship between
sputtered area diameter and Gd in Fig. 4(a). The shape of gas flow
(Fig. 1(d)) could be used for predicting the size of sputtered area.
When the gap distance is increased, the dense gas profile reached at
the irradiated area before being evacuated and bounced at the
target is expanded. This is the reason why the sputtered area
diameter increased when the gap distance is increased.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เส้นผ่าศูนย์กลางตั้ง sputtered เพิ่มขึ้นด้วยทั่วไปเพิ่มช่องว่างของระยะทางตามที่แสดง โดยความสัมพันธ์ระหว่างเส้นผ่าศูนย์กลางตั้ง sputtered และ Gd ใน Fig. 4(a) รูปร่างของกระแสก๊าซ(Fig. 1(d)) สามารถใช้สำหรับการคาดการณ์ขนาดของพื้นที่ sputteredเมื่อเพิ่มระยะห่างช่องว่าง ค่าแก๊สหนาแน่นถึงที่ตั้ง irradiated ก่อนอพยพ และเด้งที่มีขยายเป้าหมาย นี่คือเหตุผลทำไมตั้ง sputteredเส้นผ่าศูนย์กลางเพิ่มขึ้นเมื่อเพิ่มระยะห่างช่องว่าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยทั่วไปแล้วการเพิ่มขึ้นของขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางพื้นที่ sputtered กับ
ระยะช่องว่างที่เพิ่มขึ้นบรรยายโดยความสัมพันธ์ระหว่าง
ขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางพื้นที่ sputtered และ Gd ในรูป 4 (ก) รูปร่างของการไหลของก๊าซ
(รูปที่ 1. (ง)) สามารถนำมาใช้ในการทำนายขนาดของพื้นที่ sputtered.
เมื่อระยะช่องว่างที่เพิ่มขึ้นรายละเอียดก๊าซหนาแน่นถึงที่
บริเวณฉายรังสีก่อนที่จะถูกอพยพและเด้งที่
เป้าหมายจะขยายตัว . นี่คือเหตุผลว่าทำไมพื้นที่ sputtered
เส้นผ่าศูนย์กลางเพิ่มขึ้นเมื่อระยะช่องว่างที่เพิ่มขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยทั่วไป , sputtered พื้นที่ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางเพิ่มขึ้นด้วย
เพิ่มช่องว่างระยะห่างเป็นภาพความสัมพันธ์ระหว่าง
sputtered พื้นที่เส้นผ่าศูนย์กลางและ GD ในรูปที่ 4 ( ) รูปร่างการไหลของก๊าซ
( รูปที่ 1 ( D ) สามารถใช้เพื่อทำนายขนาดของ sputtered พื้นที่ .
เมื่อช่องว่างระยะทางเพิ่มขึ้น หนาแน่นก๊าซ โปรไฟล์ที่ฉายรังสีบริเวณก่อนถึง

อพยพและเด้งที่เป้าหมายคือการขยาย นี่คือเหตุผลว่าทำไม sputtered บริเวณ
เส้นผ่าศูนย์กลางเพิ่มขึ้นเมื่อช่องว่างระยะทางเพิ่มขึ้น