In CVD, gaseous reactants are admit

In CVD, gaseous reactants are admitted into a reactor (see Fig. 7.1).
Near or on a heated substrate surface, a chemical reaction of the following type
occurs:
Gaseous reactants → Solid material + Gaseous products
Because of the gas flows as well as the temperature used in CVD, five
important reaction zones are developed during the CVD process (see Fig. 7.2).
The properties of CVD materials are affected by the interacting processes
occurring in these reaction zones. In a CVD process, a main gas flow (the
reaction gas mixture) passes over the substrate/coating surface. For fluid
dynamical reasons, a more or less stagnant boundary layer occurs in the vapor
adjacent to the substrate/coating. During the deposition process, the
gaseous reactants and the gaseous reaction products are transported across
this boundary layer. In reaction zone 1 (see Fig. 7.2) as well as in the main
gas stream, homogeneous reactions in the vapor may occur. These reactions
may lead to an undesirable homogeneous nucleation resulting in a flaky and
non-adherent coating. In some cases however, these reactions, when not
accompanied by homogeneous nucleation, are favorable to the CVD process
(for instance CVD of Al2O3,
[1] of B13C2,
[2] and of Si,[3] respectively). The
heterogeneous reactions occur in the phase boundary vapor/coating (zone 2).
These reactions determine, in many systems, the deposition rate and the
properties of the coating.
Relatively high temperatures may be used during CVD. This means that
various solid state reactions (phase transformations, precipitation, recrystallization,
grain growth, for example) may occur during the process (the zones
3 - 5). In zone 4, which is a diffusion zone, various intermediate phases may
be formed. The reactions in this zone are important for the adhesion of the
coating to the substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

In CVD, gaseous reactants are admitted into a reactor (see Fig. 7.1).Near or on a heated substrate surface, a chemical reaction of the following typeoccurs:Gaseous reactants → Solid material + Gaseous productsBecause of the gas flows as well as the temperature used in CVD, fiveimportant reaction zones are developed during the CVD process (see Fig. 7.2).The properties of CVD materials are affected by the interacting processesoccurring in these reaction zones. In a CVD process, a main gas flow (thereaction gas mixture) passes over the substrate/coating surface. For fluiddynamical reasons, a more or less stagnant boundary layer occurs in the vaporadjacent to the substrate/coating. During the deposition process, thegaseous reactants and the gaseous reaction products are transported acrossthis boundary layer. In reaction zone 1 (see Fig. 7.2) as well as in the maingas stream, homogeneous reactions in the vapor may occur. These reactionsmay lead to an undesirable homogeneous nucleation resulting in a flaky andnon-adherent coating. In some cases however, these reactions, when notaccompanied by homogeneous nucleation, are favorable to the CVD process(for instance CVD of Al2O3,[1] of B13C2,[2] and of Si,[3] respectively). Theheterogeneous reactions occur in the phase boundary vapor/coating (zone 2).These reactions determine, in many systems, the deposition rate and theproperties of the coating.อาจจะใช้อุณหภูมิค่อนข้างสูงระหว่างผิว CVD นี้หมายความ ว่าปฏิกิริยาของแข็งต่าง ๆ (ขั้นตอนการแปลง ฝน recrystallizationข้าวเจริญเติบโต ตัวอย่าง) อาจเกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ (โซน3 - 5) ในเขต 4 ซึ่งเป็นโซนแพร่ ระยะกลางต่าง ๆ อาจจะเกิดขึ้น ปฏิกิริยาในโซนนี้มีความสำคัญต่อการยึดเกาะของการเคลือบพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในซีวีดี, สารตั้งต้นก๊าซจะเข้าไปในเครื่องปฏิกรณ์ (ดูรูปที่ 7.1)..
ใกล้หรือบนพื้นผิวอุ่นปฏิกิริยาทางเคมีประเภทดังต่อไปนี้เกิดขึ้น: สารตั้งต้นก๊าซ→วัสดุแข็ง + ผลิตภัณฑ์ก๊าซเพราะของก๊าซไหลเช่นเดียวกับอุณหภูมิที่ใช้ในการ CVD ห้าโซนปฏิกิริยาที่สำคัญที่มีการพัฒนาในระหว่างกระบวนการCVD (ดูรูปที่. 7.2). คุณสมบัติของวัสดุ CVD รับผลกระทบจากกระบวนการปฏิสัมพันธ์ที่เกิดขึ้นในโซนปฏิกิริยาเหล่านี้ ในกระบวนการ CVD เป็นการไหลของก๊าซหลัก (คนส่วนผสมของก๊าซปฏิกิริยา) ผ่านพื้นผิว / เคลือบพื้นผิว สำหรับของเหลวเหตุผลพลังมากหรือน้อยนิ่งบริเวณชั้นที่เกิดขึ้นในไอที่อยู่ติดกับพื้นผิว/ เคลือบ ในระหว่างขั้นตอนการสะสมของสารตั้งต้นและผลิตภัณฑ์ก๊าซปฏิกิริยาก๊าซจะถูกส่งไปทั่วบริเวณชั้นนี้ ในเขตปฏิกิริยาที่ 1 (ดูรูปที่ 7.2.) เช่นเดียวกับในหลักกระแสก๊าซปฏิกิริยาที่เป็นเนื้อเดียวกันในไออาจเกิดขึ้น ปฏิกิริยาเหล่านี้อาจนำไปสู่การเป็นเนื้อเดียวกันนิวเคลียสที่ไม่พึงประสงค์ที่เกิดในขุยและเคลือบไม่สานุศิษย์ ในบางกรณี แต่ปฏิกิริยาเหล่านี้เมื่อไม่ได้มาพร้อมกับนิวเคลียสเหมือนกันเป็นอย่างดีกับกระบวนการซีวีดี(ซีวีดีสำหรับตัวอย่างของ Al2O3, [1] ของ B13C2, [2] และศรี [3] ตามลำดับ) ปฏิกิริยาที่แตกต่างกันเกิดขึ้นในขอบเขตระยะไอ / เคลือบ (โซน 2). ปฏิกิริยาเหล่านี้ตรวจสอบในระบบจำนวนมากอัตราการสะสมและคุณสมบัติของสารเคลือบผิว. อุณหภูมิค่อนข้างสูงอาจจะถูกใช้ในช่วงซีวีดี ซึ่งหมายความว่าปฏิกิริยาของรัฐที่มั่นคงต่างๆ (แปลงเฟสฝน recrystallization, การเจริญเติบโตของเมล็ดพืชเป็นต้น) อาจเกิดขึ้นระหว่างกระบวนการ (โซน3-5) ใน 4 โซนซึ่งเป็นเขตการแพร่กระจายเป็นขั้นตอนกลางต่างๆอาจจะเกิดขึ้น ปฏิกิริยาในโซนนี้มีความสำคัญสำหรับการยึดเกาะของเคลือบพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ใน CVD ก๊าซตั้งต้นสัมภาษณ์ลงในเครื่องปฏิกรณ์ ( ดูรูปที่ 1 ) .
อยู่ใกล้หรือบนพื้นผิวพื้นผิวร้อน ปฏิกิริยาทางเคมีของดังต่อไปนี้ประเภท :

เกิดก๊าซตั้งต้น→ keyboard - key - name ผลิตภัณฑ์ก๊าซวัสดุของแข็ง
เพราะกระแสก๊าซเช่นเดียวกับอุณหภูมิที่ใช้ในโรคหัวใจและหลอดเลือด , 5
โซนปฏิกิริยาที่สําคัญคือ พัฒนาในระหว่างกระบวนการ CVD ( ดูรูปที่ 7.2 )
คุณสมบัติของวัสดุที่ได้รับผลกระทบ โดยมีกระบวนการ CVD
ที่เกิดขึ้นในโซนปฏิกิริยาเหล่านี้ ในกระบวนการ CVD , อัตราการไหลของแก๊สหลัก (
ปฏิกิริยาก๊าซผสม ) ผ่านพื้นผิวพื้นผิว / เคลือบ สำหรับเหตุผลที่ของเหลว
, มากหรือน้อยนิ่งขอบชั้นเกิดขึ้นในไอ
ติดกับพื้นผิว / เคลือบ ในระหว่างกระบวนการสะสม ,
สารตั้งต้นและผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาก๊าซก๊าซจะถูกขนส่งข้าม
นี้ขอบชั้น . ปฏิกิริยาในโซน 1 ( ดูรูปที่ 7.2 ) รวมทั้งในกระแสก๊าซหลัก
เอกพันธ์ ปฏิกิริยาในไอระเหยที่อาจเกิดขึ้น ปฏิกิริยาเหล่านี้
อาจนําไปสู่ nucleation เป็นเนื้อเดียวกันไม่พึงประสงค์ที่เกิดในติ๊งต๊องและ
ไม่ติดเคลือบ ในบางกรณี แต่เหล่านี้เมื่อไม่ได้
ปฏิกิริยาพร้อมด้วยเนื้อเดียวกันขนาด เป็นมงคลกับกระบวนการ CVD
( เช่นโรคหัวใจและหลอดเลือดของ Al2O3
, [ 1 ] ของ b13c2
[ 2 ] , [ 3 ] และ ซี ตามลำดับ
ปฏิกิริยาวิวิธพันธุ์เกิดขึ้นในระยะขอบเขตไอน้ำ / เคลือบ ( โซน 2 ) .
ปฏิกิริยาเหล่านี้ ศึกษาในระบบหลายอัตราการเคลือบ และคุณสมบัติของผิวเคลือบ
.
อุณหภูมิค่อนข้างสูง อาจใช้ในโรคหัวใจและหลอดเลือด . ซึ่งหมายความว่า
ปฏิกิริยาสถานะของแข็งต่างๆ ( ขั้นตอนการแปลงด้วยการตกผลึก
เม็ด , การเจริญเติบโต , ตัวอย่างเช่น ) อาจเกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ ( โซน
3 - 5 ) ในโซนที่ 4 ซึ่งเป็นเขตการแพร่กระจาย ระยะกลางต่าง ๆอาจ
เป็นรูปแบบ ปฏิกิริยาในโซนนี้เป็นสิ่งสำคัญสำหรับการยึดเกาะของ
เคลือบพื้นผิว .