Electron microscopy. For transmissi

Electron microscopy. For transmission electron microscopy
(TEM) observation, cultured cells (50 ll) were collected into a
1.5 ml tube, embedded the cells in iPGell (GenoStaff, Japan) according
to the manufacturer’s instructions. The cells were fixed at 4 C
in 6% glutaraldehyde (TAAB, UK) in 0.1% phosphate buffer (Wako,
Japan) at pH 7.2 for 2 days, then rinsed 3 times for 5 min each at
room temperature in the same buffer. After three additional rinses
at room temperature, samples were fixed at room temperature in
1% osmium tetroxide (Nisshin EM, Japan) in the same buffer.
After three rinses of 5 min each in the same buffer, and in distilled
water at the room temperature, dehydration was conducted using
ethanol (Wako, Japan) with different concentrations of 40%, 50%,
70% at 4 C, 90%, 99.5%, and 3 times of 100% at room temperature
for 10 min each. Following three rinses in 100% acetone (Wako,
Japan), samples were infiltrated with Epon 812 resin (TAAB, UK)
according to the following schedules: 1 h in 3:1 acetone: resin;
1 h in 1:1; 1 h in 1:3, then 1 h, overnight, and 5 h in pure resin.
Samples were embedded in resin with accelerator and polymerized
at 60 C for 3 days. 70 nm sections were cut using an UC6 ultra
microtome (Leica), post-stained with 2% uranyl acetate followed
by Reynold’s lead citrate. The sections were imaged in an H-7650
(Hitachi, Japan) operated at 80 kV

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อิเล็กตรอน microscopy การ สำหรับการส่งผ่านอิเล็กตรอน microscopyการสังเกต (ยการ) เซลล์อ่าง (50 จะ) ถูกรวบรวมไว้ในการ1.5 ml หลอด ฝังเซลล์ใน iPGell (GenoStaff ญี่ปุ่น) ตามให้คำแนะนำของผู้ผลิต เซลล์ได้คงที่ 4 Cใน 6% glutaraldehyde (TAAB, UK) ใน 0.1% ฟอสเฟตบัฟเฟอร์ (Wakoญี่ปุ่น) ที่ pH 7.2 วัน 2, rinsed แล้ว 3 ครั้งใน 5 นาทีแต่ละที่อุณหภูมิห้องในบัฟเฟอร์ที่เดียวกัน หลังจาก rinses เพิ่มเติมสามอุณหภูมิ ห้องตัวอย่างได้คงที่อุณหภูมิห้องใน1% ออสเมียมเทโตรไซด์ (Nisshin EM ญี่ปุ่น) ในบัฟเฟอร์เดียวกันหลังจาก rinses 3 5 นาทีแต่ละ ในบัฟเฟอร์เดียว และกลั่นน้ำที่อุณหภูมิห้อง คายน้ำได้ดำเนินการโดยใช้เอทานอล (Wako ญี่ปุ่น) กับความเข้มข้นแตกต่างกัน 40%, 50%70% ที่ 99.5%, 90%, 4 C และ 3 ครั้ง 100% ที่อุณหภูมิห้องสำหรับ 10 นาทีแต่ละ Rinses สามต่อไปนี้ใน 100% อะซีโตน (Wakoมีตัวอย่างญี่ปุ่น), infiltrated กับ Epon 812 ยาง (TAAB สหราชอาณาจักร)ตามกำหนดการต่อไปนี้: 1 h ในอะซีโตน 3:1: resinh 1 ใน 1:1 h 1 ใน 1:3 แล้ว 1 h ค้างคืน และ h 5 เรซินบริสุทธิ์ตัวอย่างฝังอยู่ในยาง มีตัวเร่ง และ polymerizedที่ C 60 วัน 3 70 nm ส่วนถูกตัดใช้เป็นอัลตร้า UC6microtome (ไล), หลังสีกับ acetate uranyl 2% ตามโดยซิเตรต Reynold ของลูกค้าเป้าหมาย ส่วนถูก imaged ในการ H-7650ดำเนินการ (ฮิตาชิ ญี่ปุ่น) ที่ 80 kV

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน สำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน
(TEM) สังเกตเซลล์เพาะเลี้ยง (50 LL)
ที่ถูกเก็บรวบรวมเป็นหลอด1.5 มล. ฝังเซลล์ใน iPGell (GenoStaff ญี่ปุ่น)
ตามคำแนะนำของผู้ผลิต เซลล์ที่ได้รับการแก้ไขที่ 4
องศาเซลเซียสในglutaraldehyde 6% (TAAB สหราชอาณาจักร) ในฟอสเฟตบัฟเฟอร์ 0.1% (Wako,
ญี่ปุ่น) ที่มีค่า pH 7.2 เป็นเวลา 2 วันล้างแล้ว 3 ครั้งเป็นเวลา 5
นาทีในแต่ละที่อุณหภูมิห้องในบัฟเฟอร์เดียวกัน หลังจากสาม rinses
เพิ่มเติมที่อุณหภูมิห้องตัวอย่างได้รับการแก้ไขที่อุณหภูมิห้องใน
1% ออสเมียม tetroxide (Nisshin EM, ญี่ปุ่น) ในบัฟเฟอร์เดียวกัน.
หลังจากสาม rinses 5 นาทีในแต่ละบัฟเฟอร์เดียวกันและในกลั่นน้ำที่อุณหภูมิห้องภาวะขาดน้ำได้รับการดำเนินการโดยใช้เอทานอล(Wako, ญี่ปุ่น) ที่มีความเข้มข้นแตกต่างกันของ 40%, 50%, 70% ที่ 4 องศาเซลเซียส, 90%, 99.5% และ 3 เท่าของ 100% ที่อุณหภูมิห้องเป็นเวลา10 นาทีในแต่ละ ต่อไปนี้สาม rinses ในอะซีโตน 100% (Wako, ญี่ปุ่น) ตัวอย่างที่ถูกแทรกซึมกับเพ่ 812 เรซิน (TAAB สหราชอาณาจักร) ตามตารางต่อไปนี้: 1 ชั่วโมงใน 3: 1 อะซีโตน: เรซิน; 1 ชั่วโมง 1: 1; 1 ชั่วโมง 1: 3. แล้ว 1 ชั่วโมงข้ามคืนและ 5 ชั่วโมงในเรซินบริสุทธิ์ตัวอย่างที่ฝังอยู่ในเรซินกับคันเร่งและpolymerized ที่ 60 C เป็นเวลา 3 วัน? 70 นาโนเมตรส่วนที่ถูกตัดออกโดยใช้อัลตร้า UC6 microtome (Leica) โพสต์ย้อมด้วยสีอะซิเตท 2% uranyl ตามโดยนำซิเตรตของReynold ส่วนที่ได้รับการถ่ายภาพใน H-7650 (ฮิตาชิญี่ปุ่น) ดำเนินการที่ 80 กิโลโวลต์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน ส่งกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน
( TEM ) การสังเกต การเพาะเลี้ยงเซลล์ ( 50 จะถูกเก็บลงในหลอด 1.5 ml
ฝังเซลล์ใน ipgell ( genostaff , ญี่ปุ่น ) ตาม
คําแนะนําของผู้ผลิต เซลล์ที่ถูกยึดที่ 4  C
6 % glutaraldehyde ( taab , UK ) ใน 0.1% ฟอสเฟตบัฟเฟอร์ ( Wako
ญี่ปุ่น ) ที่ pH 7.2 2 วัน แล้วล้าง 3 ครั้งเป็นเวลา 5 นาทีในแต่ละที่
อุณหภูมิของห้องในบัฟเฟอร์เดียวกัน หลังจากที่สามเพิ่มเติม rinses
ที่อุณหภูมิห้องจำนวนคงที่ที่อุณหภูมิห้อง
1 % ออสเมียม tetroxide ( นิชชิน em , ญี่ปุ่น ) ในบัฟเฟอร์เดียวกัน
หลังจากสาม rinses 5 นาทีในแต่ละบัฟเฟอร์เดียวกันและในน้ำที่อุณหภูมิห้องกลั่น
dehydration จำนวน
เอทานอล ( Wako , ญี่ปุ่น ) ที่มีความเข้มข้นต่างกัน 40% , 50% ,
70% ใน 4  C , 90% , 99.5% และครั้งที่ 3 ของ 100% ที่
อุณหภูมิห้องเป็นเวลา 10 นาทีในแต่ละ ต่อไปนี้สาม rinses 100% อะซิโตน ( Wako , ญี่ปุ่น ,
) จำนวนแทรกซึมด้วยเรซิ่นเกรด 812 ( taab , UK )
ตามตารางเวลาดังต่อไปนี้ : 1 ชั่วโมง 3 : 1 ) : เรซิน ;
1 H ในอัตราส่วน 1 : 1 ; 1 ชม. ใน 1 : 3 , 1 ชั่วโมง ค้างคืน และ 5 ชั่วโมงในเรซินบริสุทธิ์ .
จำนวนฝังตัวในเรซินโพลิเมอร์
คันเร่ง และ60  C เป็นเวลา 3 วัน 70 nm ส่วนที่ถูกตัดด้วยเครื่องตัดชิ้นเนื้อ ( Leica ) uc6 อัลตร้า
โพสต์เปื้อน 2% ยูเรนิลอะซิเตตตาม
โดยเรโนลด์นำซิเตรต . ส่วนที่เป็นภาพลักษณ์ใน h-7650
( ฮิตาชิ ประเทศญี่ปุ่น ) ดำเนินการ 80 กิโลโวลต์