The layer of Co-based precursor on

The layer of Co-based precursor on the substrate surfaces was reduced
to Co(0) by dipping in 0.26 M NaBH4+0.25 M NaOH (denoted
as a borohydride solution) at 25 or 46 °C for 5 min.
The copper plating bath used for electroless metallization was the
Shipley® CIRCUPOSIT 3350 copper plating solution, containing formaldehyde
as a reducing agent and operating at a temperature of 43–
50 °C. In our experiments electroless copper deposition was carried
out at 46 °C for 2 min.
Analytical grade chemicals were used to prepare solutions.
The microgravimetric studies were performed with a microbalance
QCM922 (Princeton Applied Research, USA), two digital voltmeters B7-
46/1 connected to a PC through the GPIB-USB-2 cable, a programmingpotentiostat PI-50-1 and a sweep generator PR-8 (Russia). AT-cut quartz
crystals of 6 MHz frequency (from Intellemetrics Ltd., UK) sputtered by
gold from both sides were used. A standard three-electrode configurationwas
employedwith one side of the quartz crystal, as aworking electrode,
an Ag/AgCl/KClsat electrode as reference, and a Pt-wire as a counter
electrode. The geometric area of the working electrode was 0.636 cm2.
Elemental analysis of deposits was studied by X-ray photoelectron
spectroscopy. The XPS analysis was performed by using an “ESCALAB
MK II” spectrometer (VG Scientific, UK) equipped with a Mg Kα X-ray
radiation source (1253.6 eV) operated at 280W and at a fixed pass
energy of 20 eV. The pressure of 1.33×10−7 Pa was kept in the
UHV analysis chamber. The XPS spectra were recorded for Co2p3/2,
O1s and Cu2p3/2. The sensitivity factors of these elements were
taken from [20]. The spectra obtained were compared with the standard
ones [21–23].
The surface morphology and composition of the samples were examined
using a Scanning Electron Microscope EVO-50 EP (Carl Zeiss
SMT AG, Germany) with Energy Dispersive and Wave dispersion Xray
Spectrometers (Oxford, UK).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ชั้นของสารตั้งต้นที่ใช้ร่วมกันบนพื้นผิวพื้นผิวลดลงการ Co(0) โดยจุ่มใน 0.26 M NaBH4 + 0.25 M NaOH (เขียนแทนเป็นโซลูชันโบโรไฮไดรด์) ที่ 25 หรือ 46 ° C 5 นาทีทองแดงชุบน้ำที่ใช้สำหรับไฟฟ้า metallization ถูกทองแดง Shipley® CIRCUPOSIT 3350 ชุบ ประกอบด้วยฟอร์มาลดีไฮด์แทนลดและการใช้งานที่อุณหภูมิ 43-50 องศาเซลเซียส ดำเนินทองแดงสะสมในไฟฟ้าทดลองของเราออกที่ 46 ° C สำหรับ 2 นาทีสารเคมีเกรดวิเคราะห์ที่ใช้ในการเตรียมแก้ไขปัญหาดำเนินการศึกษา microgravimetric กับเครื่องชั่งระดับการQCM922 (ปรินซ์ตันใช้วิจัย สหรัฐอเมริกา), สองดิจิตอล voltmeters B7 -46/1 เชื่อมต่อกับคอมพิวเตอร์ผ่านสายเคเบิล GPIB-USB-2, programmingpotentiostat PI-50-1 และเครื่องกำเนิดไฟฟ้ากวาด PR-8 (รัสเซีย) ควอตซ์ AT-ตัดผลึกของความถี่ 6 MHz (จาก Intellemetrics Ltd., UK) sputtered โดยใช้ทองจากทั้งสองด้าน Configurationwas สามอิเล็กโทรดมาตรฐานemployedwith ด้านหนึ่งของผลึก เป็น aworking อิเล็กโทรดอิเล็กโทรด Ag/AgCl/KClsat เป็นการอ้างอิง และ Pt ลวดเป็นตัวนับอิเล็กโทรด พื้นที่รูปทรงเรขาคณิตของอิเล็กโทรดทำงานถูก 0.636 cm2เป็นศึกษาวิเคราะห์ธาตุของเงินฝาก โดย X-ray photoelectronมิก วิเคราะห์ XPS ถูกดำเนินการ โดยใช้ "ESCALABเอ็มเค II"สเปกโตรมิเตอร์ (VG วิทยาศาสตร์ UK) มีการ X-ray Kα มิลลิกรัมแหล่งรังสี (1253.6 eV) ดำเนิน 280W และผ่านถาวรพลังงานของ 20 eV ความดันของ 1.33 × 10−7 ป่าถูกเก็บไว้ในห้องวิเคราะห์ UHV สเป็ค XPS ถูกบันทึกใน Co2p3/2O1s และ Cu2p3/2 ปัจจัยความไวต่อองค์ประกอบเหล่านี้ได้นำมาจาก [20] สเป็คได้ถูกเปรียบเทียบกับมาตรฐานคน [21-23]สัณฐานวิทยาที่พื้นผิวและองค์ประกอบของตัวอย่างจะถูกตรวจสอบโดยใช้การ EP EVO 50 กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (Carl ZeissSMT AG เยอรมนี) มีการกระจายตัวของพลังงาน Dispersive และคลื่นเอ็กซ์เรย์สเปกโทรมิเตอร์ (Oxford, UK)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชั้นของสารตั้งต้น Co-based บนพื้นผิวพื้นผิวก็ลดลง
ไปร่วม (0) โดยการจุ่มใน 0.26 M NaBH4 + 0.25 M NaOH (แสดง
เป็นวิธีแก้ปัญหา borohydride ก) ณ วันที่ 25 หรือ 46 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 5 นาที.
อาบน้ำทองแดงชุบใช้ สำหรับไฟฟ้า metallization เป็น
Shipley® CIRCUPOSIT แก้ปัญหาชุบทองแดง 3350 มีไฮด์
เป็นตัวแทนการลดและการดำเนินงานที่อุณหภูมิ 43-
50 องศาเซลเซียส ในการทดลองของเราตะกอนทองแดงไฟฟ้าได้ดำเนินการ
ออกมาที่ 46 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 2 นาที.
สารเคมีเกรดวิเคราะห์ถูกนำมาใช้เพื่อเตรียมความพร้อมการแก้ปัญหา.
การศึกษา microgravimetric ได้ดำเนินการกับไมโคร
QCM922 (พรินซ์ตันวิจัยประยุกต์, USA) สองมัลติมิเตอร์แบบดิจิตอล B7-
46 / 1 เชื่อมต่อกับคอมพิวเตอร์ผ่านสาย GPIB-USB-2 เป็น programmingpotentiostat PI-50-1 และเครื่องกำเนิดไฟฟ้ากวาด PR-8 (รัสเซีย) AT-ตัดควอตซ์
คริสตัล 6 MHz ความถี่ (จาก Intellemetrics จำกัด , UK) พ่นโดย
ทองจากทั้งสองฝ่ายถูกนำมาใช้ มาตรฐาน configurationwas สามขั้วไฟฟ้า
employedwith ด้านหนึ่งของผลึกคริสตัลที่เป็นขั้วไฟฟ้า aworking,
ขั้ว AG / AgCl / KClsat เป็นข้อมูลอ้างอิงและ PT-ลวดเป็นเคาน์เตอร์
อิเล็กโทรด พื้นที่ทางเรขาคณิตของขั้วไฟฟ้าทำงานเป็น 0.636 cm2.
การวิเคราะห์ธาตุของเงินฝากได้รับการศึกษาโดย X-ray โฟโตอิเล็กตรอน
สเปกโทรสโก การวิเคราะห์ XPS ได้ดำเนินการโดยใช้ "ESCALAB
MK II" สเปกโตรมิเตอร์ (VG วิทยาศาสตร์สหราชอาณาจักร) พร้อมกับ Mg Kα X-ray
กำเนิดรังสี (1,253.6 EV) ดำเนินการใน 280W และที่ผ่านการแก้ไข
การใช้พลังงานของ 20 eV ความดันของ 1.33 × 10-7 ป่าถูกเก็บไว้ใน
ห้องวิเคราะห์ UHV XPS สเปกตรัมถูกบันทึกไว้ Co2p3 / 2
O1s และ Cu2p3 / 2 ปัจจัยความไวขององค์ประกอบเหล่านี้ถูก
นำมาจาก [20] สเปกตรัมที่ได้ถูกนำมาเปรียบเทียบกับมาตรฐาน
คน [21-23].
สัณฐานพื้นผิวและองค์ประกอบของกลุ่มตัวอย่างมีการตรวจสอบ
โดยใช้กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน EVO-50 อี (Carl Zeiss
SMT เอจีเยอรมนี) กับกระจายพลังงานและการกระจายตัวของคลื่น Xray
สเปกโตรมิเตอร์ (ฟอร์ดสหราชอาณาจักร)