3.5a. Effect of plasma treatment on

3.5a. Effect of plasma treatment on
viability of B. subtilis 168 endospores. Purified
spores were lyophilized on glass slides and
exposed to plasma at a distance of 5 cm to the
plasma source. Error bars indicate ± one
standard error. Initial spore count (N0) was
1.2 × 108 cfu per substrate. The line represents
the biphasic model fitted to the data. The
experiments were performed on the DSA701
plasma system using the following
parameters: microwave power 4 kW; pressure
70 Pa, process gas mixture 80% nitrogen and
20% oxygen

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3.5a. ผลของพลาสม่าบำบัดชีวิตของ endospores subtilis เกิด 168 บริสุทธิ์ที่เพาะเฟิร์นถูก lyophilized บนกระจกสไลด์ และสัมผัสกับพลาสมาในระยะทาง 5 ซม.เพื่อการแหล่งพลาสม่า แถบข้อผิดพลาดบ่งชี้±หนึ่งข้อผิดพลาดมาตรฐาน มีจำนวนสปอร์เริ่มต้น (N0)1.2 × 108 cfu ต่อพื้นผิว แสดงบรรทัดแบบ biphasic พอดีกับข้อมูล ที่ดำเนินการทดลองในการ DSA701ระบบพลาสม่าที่ใช้ต่อไปนี้พารามิเตอร์: ไมโครเวฟพลังงาน 4 kW ความดัน70 Pa กระบวนการก๊าซผสม 80% ไนโตรเจน และออกซิเจน 20%

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3.5a ผลของการรักษาพลาสม่าในการมีชีวิตของ B. subtilis 168 สปอร์ บริสุทธิ์สปอร์แห้งบนสไลด์แก้วและสัมผัสกับพลาสม่าที่ระยะ5 ซม. จะเป็นแหล่งที่มาของพลาสม่า แถบข้อผิดพลาดบ่งบอกถึง±หนึ่งในข้อผิดพลาดมาตรฐาน สปอร์นับเป็นครั้งแรก (N0) เป็น1.2 × 108 โคโลนีต่อพื้นผิว สายหมายถึงรูปแบบ biphasic พอดีกับข้อมูล ทดลองดำเนินการใน DSA701 ระบบพลาสม่าดังต่อไปนี้โดยใช้พารามิเตอร์: พลังไมโครเวฟ 4 กิโลวัตต์; ความดัน70 ป่าส่วนผสมของก๊าซไนโตรเจนกระบวนการ 80% และออกซิเจน20%