The concept of plasma-based physica

The concept of plasma-based physical vapor deposition (PVD) is today widely used for depositing thin films.PVD is a general term describing how films are deposited by the condensation of a vaporized form of a material onto any surface. The vapor of the thin film material is created by physical means from a solid deposition source.
One such PVD method is sputter deposition,which has proven to be a robust and upscalable coating method. The most commonly used tool for sputter deposition is magnetron sputtering,which essentially is a diode sputtering configuration where a magnet pack is placed behind the target (cathode) to better confine the plasma close to the sputtering region.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วันนี้อย่างกว้างขวางมีใช้แนวคิดของพลาสม่าตามไอจริงสะสม (PVD) สำหรับฝากบาง filmsPVD เป็นคำทั่วไปที่อธิบายวิธีฝาก films โดยการสรุปแบบฟอร์มแก้ไขวัสดุลงบนพื้นผิวใด ๆ ไอวัสดุบาง film จะถูกสร้างขึ้น โดยวิธีทางกายภาพจากแหล่งสะสมที่เป็นของแข็ง
วิธีการ PVD เช่นหนึ่งคือ sputter สะสมซึ่งได้พิสูจน์แล้วว่าเป็น วิธีการเคลือบแข็ง และ upscalable เครื่องมือที่ใช้บ่อยที่สุดสำหรับสะสม sputter มี magnetron พ่น ซึ่งเป็นเป็น configuration แบบ sputtering ไดโอดที่มีชุดแม่เหล็กอยู่ด้านหลังเป้าหมาย (แคโทด) จะดีกว่า confine พลาใกล้กับภูมิภาค sputtering

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แนวคิดของพลาสม่าที่ใช้การสะสมไอกายภาพ (PVD) คือวันนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในการฝาก films.PVD บางเป็นคำทั่วไปที่อธิบายถึงวิธีภาพยนตร์ที่มีการฝากโดยการรวมตัวของรูปแบบการระเหยของวัสดุลงบนพื้นผิวใด ๆ ไอของวัสดุฟิล์มบางถูกสร้างขึ้นโดยวิธีทางกายภาพจากแหล่งสะสมของแข็ง
วิธีหนึ่ง PVD ดังกล่าวเป็นพยานพ่นซึ่งได้พิสูจน์แล้วว่าเป็นวิธีการเคลือบที่แข็งแกร่งและ upscalable เครื่องมือที่ใช้กันมากที่สุดสำหรับการสะสมพ่นเป็นสปัตเตอร์แมกซึ่งเป็นหลักคือการกำหนดค่าไดโอดสปัตเตอร์ที่ชุดแม่เหล็กที่วางอยู่ด้านหลังเป้าหมาย (ขั้วลบ) ที่ดีกว่าพลาสม่า จำกัด ใกล้กับภูมิภาคปัตเตอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แนวคิดของพลาสมาที่ใช้สะสมไอทางกายภาพ ( PVD ) วันนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายเพื่อฝากบางจึง lms.pvd เป็นศัพท์ทั่วไปที่อธิบายถึงวิธีการสอนจึงจะฝากโดยการควบแน่นของระเบิดฟอร์มของวัสดุลงบนพื้นผิวใด ๆ ไอผอมจึง LM วัสดุถูกสร้างขึ้นโดยวิธีทางกายภาพจากแหล่งสะสมของแข็ง .
เช่น PVD วิธีมิดหมีสะสม ,ซึ่งได้พิสูจน์ให้เป็นประสิทธิภาพและวิธีเคลือบ upscalable . ส่วนใหญ่นิยมใช้เครื่องมือสำหรับละล่ำละลักคำให้การของพยานเป็นแมกนีตรอนสปัตเตอริงซึ่งเป็นหลักเป็นไดโอดทำงานคอน จึง guration ที่แม่เหล็กแพ็ควางอยู่ตามเป้าหมาย ( แคโทด ) ดีกว่าคอนเน่พลาสมาจึงปิดพื้นที่ทำงาน .