That's quite an improvement. But in

That's quite an improvement. But in principle, spatial resolutions of a few tens of nanometers (beyond that you're starting to reach the molecular scale) should he possible using 800-nm light. Pushing the resolution of this lithography down to such a scale will require more work. The problem is no longer optics: it's the photoresists that we use. For reasons that are still being explored- Perhaps the diffusion of the photoresist molecules themselves- attempts to make smaller structures typically result in ill-defined features. If you try to make two features closer together than 175 nm, for example, you can end up curing areas that aren't supposed to be part of the final shape.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ที่ได้ปรับปรุงเป็น แต่หลัก แจ้งมติปริภูมิกี่สิบ nanometers (อื่น ๆ ที่คุณกำลังเริ่มต้นไปถึงระดับโมเลกุล) ควรได้เขาใช้ไฟ 800 nm ผลักดันความละเอียดของภาพพิมพ์หินนี้ลงไปที่ระดับดังกล่าวจะต้องทำงานเพิ่มเติม ปัญหาไม่ได้รับแสง: เป็น photoresists ที่เราใช้ เหตุผลที่มีอยู่บางทีอุดมแพร่ของ photoresist โมเลกุลตัวเองความพยายามที่จะทำให้โครงสร้างขนาดเล็กโดยทั่วไปทำในลักษณะ ill-defined ถ้าคุณพยายามที่จะทำให้คุณลักษณะที่สองใกล้ชิดกันกว่า 175 nm ตัวอย่าง คุณสามารถท้ายบ่มพื้นที่ที่ไม่ควรจะเป็นส่วนหนึ่งของรูปร่างสุดท้าย ได้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่ค่อนข้างดีขึ้น แต่ในหลักการความละเอียดเชิงพื้นที่ของไม่กี่สิบนาโนเมตร (เกินกว่าที่คุณจะเริ่มต้นที่จะไปถึงระดับโมเลกุล) เขาควรจะไปได้โดยใช้แสง 800 นาโนเมตร ผลักดันความละเอียดของการพิมพ์หินนี้ลงไปที่ระดับดังกล่าวจะต้องมีการทำงานมากขึ้น ปัญหาคือไม่มีเลนส์อีกต่อไป: มัน photoresists ที่เราใช้ ด้วยเหตุผลที่ว่ายังคงมีการสำรวจบางทีแพร่กระจายของสารไวแสงโมเลกุลตัวเอง-ความพยายามที่จะทำให้โครงสร้างมีขนาดเล็กมักจะส่งผลในลักษณะที่ไม่ดีที่กำหนดไว้ ถ้าคุณพยายามที่จะทำให้สองคุณสมบัติใกล้กันกว่า 175 นาโนเมตรตัวอย่างเช่นคุณสามารถสิ้นสุดการรักษาพื้นที่ที่ไม่ควรจะเป็นส่วนหนึ่งของรูปร่างสุดท้าย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มันเป็นโครงการ แต่ในหลักการมติของพื้นที่ไม่กี่สิบของนาโนเมตร ( เกินกว่าที่คุณจะเริ่มต้นถึงระดับโมเลกุล ) เขาได้ใช้ 800 nm แสง ผลักดันความละเอียดของรุ่นนี้ลงเช่นขนาดจะต้องทำงานมากขึ้น ปัญหาคือไม่มีเลนส์ : มัน photoresists ที่เราใช้เหตุผลที่ยังคงมีการสํารวจ - บางทีการแพร่ของโมเลกุลที่ตัวเองพยายามสร้างระบบโครงสร้างขนาดเล็กโดยทั่วไปจะส่งผลให้ป่วยกำหนดคุณลักษณะ ถ้าคุณพยายามที่จะให้สองคุณสมบัติใกล้กันกว่า 175 nm , ตัวอย่างเช่นคุณสามารถสิ้นสุดการพื้นที่ที่ไม่ควรเป็นส่วนหนึ่งของรูปสุดท้าย