high substrate bias as a compensati

high substrate bias as a compensation for low plasma density may lead to defect structure and undesirable stress in the coating

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความโน้มเอียงของพื้นผิวสูงเป็นค่าตอบแทนสำหรับความหนาแน่นของพลาสมาต่ำอาจทำให้ defect โครงสร้างและระวังความเครียดในการเคลือบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อคติพื้นผิวสูงถึงค่าชดเชยสำหรับความหนาแน่นของพลาสม่าต่ำอาจนำไปสู่​​โครงสร้างข้อบกพร่องและความเครียดที่ไม่พึงประสงค์ในการเคลือบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความลำเอียงสูงกว่าเป็นค่าตอบแทนสำหรับความหนาแน่นพลาสมาต่ำอาจนำไปสู่โครงสร้างข้อบกพร่องและความเครียดที่ไม่พึงประสงค์ในการเคลือบ