The key procedureof this process is

The key procedure
of this process is the encapsulation of the SiO2 nanoparticles
with PDDA and NRL layers, aiming at suppressing
the self-aggregation of SiO2 nanoparticle caused by strong
particle–particle interactions

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนสำคัญของกระบวนการนี้เป็น encapsulation เก็บกัก SiO2ชั้น PDDA และ NRL เล็งที่ปราบปรามการรวมตัวของ SiO2 nanoparticle สูงที่เกิดจากแรงโต้ – อนุภาคอนุภาค

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนที่สำคัญ
ของกระบวนการนี้คือการห่อหุ้มของอนุภาคนาโน SiO2
กับ PDDA และ NRL ชั้นเป้าหมายในการปราบปราม
การรวมตนเองของ SiO2 อนุภาคนาโนที่เกิดจากการที่แข็งแกร่ง
ปฏิสัมพันธ์อนุภาคอนุภาค

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนหลักของกระบวนการนี้คือ การห่อหุ้มของ SiO2 นาโนกับ pdda NRL ชั้นและมุ่งปราบปรามด้วยการรวมตัวของอนุภาคนาโนซิลิกาที่เกิดจากแรงและอนุภาคของอนุภาค