The presence of sulfuriscaused by i

The presence of sulfuris
caused by in complete wash-off of process impurities(see
above). The concentration of oxygen was18–25 at%(the
concentration scatter is caused by sampling in 4 points
having visual differences).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การปรากฏตัวของ sulfurisมีสาเหตุมาจากสมบูรณ์ล้างออกของกระบวนการสิ่งสกปรก (ดูข้างบน) ความเข้มข้นของออกซิเจน was18 – 25% (กระจายความเข้มข้นเกิดจากการสุ่มตัวอย่างใน 4 จุดมีความแตกต่างของภาพ)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การปรากฏตัวของ sulfuris
เกิดจากในสมบูรณ์ล้างออกของสิ่งสกปรกกระบวนการ (ดู
ด้านบน) ความเข้มข้นของออกซิเจนที่ was18-25% (คน
กระจายความเข้มข้นมีสาเหตุมาจากการสุ่มตัวอย่างใน 4 จุด
ที่มีความแตกต่างของภาพ)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การปรากฏตัวของ sulfurisเกิดจากที่สมบูรณ์ของกระบวนการล้างสิ่งสกปรก ( ดูข้างบน ) ความเข้มข้นของออกซิเจน was18 – 25 % ( ที่สมาธิกระจายเกิดจากการสุ่มตัวอย่างใน 4 จุดมีความแตกต่างของภาพ )