Based on the silicatechemistry [25]

Based on the silicate
chemistry [25], Si(OH)4 leaves a solid silicon surface as the
pH value exceeds 11–12. The dissolution of Si(OH)4 into the slurry
enhances the etching process. The following complex is formed by
the detachment of two protons:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คะแนนเฉลียจากซิลิเกตเคมี [25], ศรี (OH) 4 ใบพื้นผิวซิลิโคนไม้เป็นค่า pH เกิน 11-12 การสลายตัวของ Si (OH) 4 ลงในสารละลายช่วยเพิ่มกระบวนการแกะสลัก ซับซ้อนต่อไปนี้จะเกิดขึ้นโดยออกของโปรตอนที่สอง:

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขึ้นอยู่กับซิลิเกต
เคมี [25] ศรี (OH) 4 ใบพื้นผิวซิลิกอนที่เป็นของแข็งเป็น
ค่าพีเอชสูงกว่า 11-12 การสลายตัวของศรี (OH) 4 ลงไปในสารละลาย
ช่วยเพิ่มกระบวนการการแกะสลัก ที่ซับซ้อนต่อไปนี้จะเกิดขึ้นโดย
ไม่แยแสของสองโปรตอน:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

บนพื้นฐานของซิลิเกตเคมี [ 25 ] Si ( OH ) 4 ใบพื้นผิวของแข็ง เช่น ซิลิคอนค่า pH เกินกว่า 11 – 12 การสลายตัวของ Si ( OH ) 4 ลงในสารละลายช่วยเพิ่มกระบวนการกัด . ต่อไปนี้เป็นรูปแบบโดยซับซ้อนกองสองโปรตอน :