The percent removal (h%) of metal i

The percent removal (h%) of metal ions on the active groups
such as OH and NH2 depends on the molecular structure of the
sorbent compounds, which bind to the metal ions by coordination
bonds.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เอาเปอร์เซ็นต์ (h %) ของประจุโลหะในกลุ่มใช้งานอยู่เช่น OH และ NH2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างระดับโมเลกุลของการสารดูดซับ ซึ่งผูกกับประจุโลหะ โดยการประสานงานพันธบัตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลบร้อยละ (h%) ของโลหะไอออนในกลุ่มที่ใช้งาน
เช่น OH NH2 และขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
สารดูดซับซึ่งผูกกับโลหะไอออนโดยการประสานงาน
การออกพันธบัตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

และการกำจัด ( H ) ของไอออนโลหะในกลุ่มงาน
เช่นโอ้และ nh2 ขึ้นอยู่กับโครงสร้างโมเลกุลของ
ดูดซับสารประกอบซึ่งผูกกับโลหะไอออน โดยพันธบัตรประสานงาน