using a 30 μmaperture, at a working

using a 30 μmaperture, at a working distance of 3–6 mm, with a secondary electron detector at high-vacuum or an immersion lens secondary electron detector at low vacuum (water vapor pressure of 0.38 mTorr).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใช้ 30 μmaperture ที่ทำงานทางไกล 3-6 มม. จับสองอิเล็กตรอนในสุญญากาศสูงหรือการแช่เลนส์อิเล็กตรอนรองเครื่องตรวจจับที่สุญญากาศต่ำ (ความดันไอน้ำของ 0.38 mTorr)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยใช้ 30 μmapertureที่ระยะการทำงานของ 3-6 มมกับเครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนทุติยภูมิที่สูญญากาศสูงหรือแช่เลนส์ตรวจจับอิเล็กตรอนทุติยภูมิที่ต่ำสูญญากาศ (น้ำแรงดันไอ 0.38 mTorr)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การใช้ 30 μ maperture , ที่ระยะทางการทำงานของ 3 – 6 มม. กับรองอิเล็กตรอนตรวจจับที่สูญญากาศสูงหรือเลนส์แช่เครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนในสุญญากาศระดับต่ำ ( ความดันไอน้ำ 0.38 mtorr )