Characterization of photocatalystsT

Characterization of photocatalystsThe crystalline of photocatalysts was analyzed by RigakuM03XHF Ultima IV X-ray diffractometer (XRD) in the diffractionangle (2) between 10◦and 80◦, using Cu-K radiation as theX-ray source. The X-ray (wavelength  = 1.5418 Å) tube equippedwith a copper target was operated at 40 mA and 40 kV. The UV–visabsorption spectrum of photocatalysts was measured by the UV–visspectrometer (Varian Cary-100) in the wavelength range between200 and 800 nm. Field emission scanning electron microscopy(FE-SEM) was carried out on a JEOL JSM-7000 FE-SEM. The pho-tocatalysts were sputtered with a thin layer of Pt film to preventsurface charging. The morphology of Pt/WO3photocatalyst wasobserved by Philips FEI Tecnai F20 G2high-resolution transmis-sion electron microscope (HR-TEM) at an acceleration voltage of200 kV. The specimen was prepared by ultrasonically dispersing thesample into ethanol, depositing droplets of the suspensions onto acopper mesh (200 meshes), and keeping 24 h in a vacuum dry oven(DOV30). For surface analysis, X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) was conducted to identify the composition and chemical sta-tus of photocatalysts by the Theta Probe XPS (Thermo Scientific)with Mg target as the X-ray source of 1253.6 eV.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สมบัติของผลึกของ photocatalysts photocatalystsThe ถูกวิเคราะห์ โดย RigakuM03XHF สไพร์ IV X-ray diffractometer (XRD) ใน diffractionangle (2) ระหว่าง 10◦and 80◦ ใช้ Cu K รังสีเป็นแหล่ง theX เรย์ X-ray (ความยาวคลื่น = 1.5418 Å) หลอดประกอบด้วยโทรทัศน์ทองแดงเป้าหมายดำเนินการใน 40 mA และ 40 kV สเปกตรัมรังสียูวี – visabsorption ของ photocatalysts โดยวัดจากการ UV – visspectrometer (Varian Cary 100) ใน between200 ในช่วงความยาวคลื่นและ 800 nm การปล่อยอิเล็กตรอน microscopy(FE-SEM) การสแกนดำเนินการบนแบบ JEOL JSM-7000 FE-เชม โพธิ์-tocatalysts ถูก sputtered ด้วยชั้นบาง ๆ ของ Pt ฟิล์ม preventsurface ที่ชาร์จ สัณฐานวิทยาของ Pt/WO3photocatalyst wasobserved โดยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน transmis-sion Tecnai F20 เฟย Philips G2high-ความละเอียด (HR-TEM) ที่แรงดันการเร่ง of200 kV ชิ้นงานถูกเตรียม ultrasonically สลาย thesample ลงในเอทานอล ฝากหยดของสารแขวนลอยลงบนตาข่าย acopper (ตาข่าย 200), และการรักษา 24 ชั่วโมงในสุญญากาศแห้ง oven(DOV30) สำหรับวิเคราะห์พื้นผิว X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) ดำเนินการเพื่อระบุองค์ประกอบและ sta tus เคมีของ photocatalysts โดยทีโพรบ XPS (เทอร์โมวิทยาศาสตร์) กับเป้าหมายมก.เป็นแหล่ง X-ray ของ 1253.6 eV

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลักษณะของ photocatalystsThe ผลึกของโฟโตคะถูกวิเคราะห์โดย RigakuM03XHF Ultima IV X-ray diffractometer (XRD) ใน diffractionangle (2?) ระหว่าง10◦and80◦ใช้ Cu-K? การฉายรังสีเป็นแหล่ง theX-ray X-ray (ความยาวคลื่น? = 1.5418 A) หลอด equippedwith เป้าหมายทองแดงได้รับการดำเนินการใน 40 mA และ 40 กิโลโวลต์ สเปกตรัม UV-visabsorption ของโฟโตคะโดยวัดจากรังสี UV-visspectrometer (Varian Cary-100) ใน between200 ช่วงความยาวคลื่น 800 นาโนเมตรและ สนามการปล่อยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (FE-SEM) ได้ดำเนินการใน JEOL JSM-7000 FE-SEM The-tocatalysts โพธิ์ถูกพ่นด้วยชั้นบาง ๆ ของฟิล์ม Pt เพื่อ preventsurface ชาร์จ ลักษณะทางสัณฐานวิทยาของ Pt / WO3photocatalyst wasobserved โดยฟิลิปส์เฟ Tecnai F20 G2high ละเอียด transmis-Sion กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (HR-TEM) ที่แรงดันไฟฟ้าอัตราเร่ง of200 กิโลโวลต์ ตัวอย่างที่ได้รับการจัดทำขึ้นโดย ultrasonically กระจาย thesample เข้าเอทานอลฝากละอองแขวนลอยลงบนตาข่าย acopper (200 ตาข่าย) และการรักษา 24 ชั่วโมงในเตาอบแห้งสูญญากาศ (DOV30) สำหรับการวิเคราะห์พื้นผิว, X-ray โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโทรสโก (XPS) ได้ดำเนินการในการระบุองค์ประกอบทางเคมีและ STA-TUS ของโฟโตคะโดยที Probe XPS (Thermo Scientific) โดยมีเป้าหมาย Mg เป็นแหล่ง X-ray ของ 1,253.6 eV