The TiO2–WO3 films were prepared by

The TiO2–WO3 films were prepared by the spin coating technique from 3 M bis(2,4-pentanedionato) titanium oxide (Tokyo Kasei) in ethanol containing WO3 (crystalline WO3 particles; ⩾99.5%; diameter observed by SEM was from a few tens of nm to ca. 500 nm, Japan New Metals) (W/Ti mole ratio = 0.3, 0.6 or 1.0). In order to obtain almost the same thickness (film mass ∼40 mg) for different film compositions, spin coating was performed at different rates as shown in Table 1. Then, the substrates were annealed at 400 °C for 1 h. The thickness of the films measured by SEM was about 1 μm. In the study of film thickness dependence, the coating was repeated a few times

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์ม TiO2 – WO3 ถูกเตรียม โดยเทคนิคเคลือบหมุนจาก 3 M bis(2,4-pentanedionato) ไทเทเนียมออกไซด์ (โตเกียว Kasei) เอทานอลประกอบด้วย WO3 (ผลึก WO3 อนุภาค ⩾99.5% เส้นผ่าศูนย์กลางในการตรวจสอบ โดย SEM มีกี่สิบ nm ca 500 nm โลหะใหม่ญี่ปุ่น) (W/ตี้ โมลอัตราส่วน = 0.3, 0.6 หรือ 1.0) เพื่อรับเกือบเดียวกันความหนา (ฟิล์มโดยรวม ∼40 mg) สำหรับฟิล์มต่างองค์ หมุนเคลือบที่ดำเนินการในอัตราต่าง ๆ ดังแสดงในตารางที่ 1 แล้ว พื้นผิวถูก annealed ที่ 400 ° C สำหรับ 1 h ความหนาของฟิล์มที่วัด โดย SEM มี μm ประมาณ 1 ในการศึกษาการพึ่งพาความหนาฟิล์ม เคลือบที่ถูกทำซ้ำกี่ครั้ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์ TiO2-WO3 ถูกจัดทำขึ้นโดยใช้เทคนิคการเคลือบปั่นจาก 3 M ทวิ (2,4-pentanedionato) ไทเทเนียมออกไซด์ (โตเกียว Kasei) ในเอทานอลที่มี WO3 (ผลึกอนุภาค WO3; ⩾99.5% เส้นผ่าศูนย์กลางสังเกตโดย SEM เป็นจากไม่กี่ นับนาโนเมตรเพื่อแคลิฟอร์เนีย 500 นาโนเมตร, ญี่ปุ่นโลหะใหม่) (W / Ti อัตราส่วนโดยโมล = 0.3, 0.6 หรือ 1.0) เพื่อให้ได้ความหนาเกือบเดียวกัน (ภาพยนตร์มวล ~40 มก.) สำหรับองค์ประกอบที่แตกต่างกันฟิล์มเคลือบหมุนได้ดำเนินการในอัตราที่แตกต่างกันดังแสดงในตารางที่ 1 จากนั้นพื้นผิวที่ไ​​ด้รับการอบที่อุณหภูมิ 400 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 ชั่วโมง ความหนาของฟิล์มวัดจาก SEM มีประมาณ 1 ไมโครเมตร ในการศึกษาของการพึ่งพาอาศัยความหนาของฟิล์มเคลือบซ้ำกี่ครั้ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นํา wo3 –ฟิล์มที่เตรียมโดยเทคนิคการเคลือบ ปั่นจาก 3 M bis ( 2,4-pentanedionato ) ไทเทเนียมออกไซด์ ( โตเกียว ) ในเอทานอลที่มี wo3 ( อนุภาค ; wo3 ผลึก⩾ 99.5% เส้นผ่าศูนย์กลาง สังเกตได้จาก SEM คือจากไม่กี่สิบนาโนเมตรประมาณ 500 nm , ญี่ปุ่นโลหะใหม่ ) ( w / Ti อัตราส่วนโมล = 0.3 , 0.6 และ 1.0 )เพื่อให้ได้ความหนาเดียวกัน ( เกือบ∼มวลภาพยนตร์ 40 มก. ) ประกอบด้วยภาพยนตร์ที่แตกต่างกัน , เคลือบหมุนได้ในอัตราที่แตกต่างกัน ดังแสดงในตารางที่ 1 จากนั้นเมื่อได้อบที่ 400 องศา C เป็นเวลา 1 ชั่วโมง โดยวัดจากความหนาของฟิล์มนี้ได้ประมาณ 1 μเมตร ในการศึกษา การพึ่งพาความหนาฟิล์ม , เคลือบกันไม่กี่ครั้ง