Kinetics of Sorption.The rate of up

Kinetics of Sorption.The rate of uptake of metal ions on
Amberlite XAD-2-HAPTSC was studied by batch method. Fifty
micrograms of individual metal ion solutions was added to 1.0
g of resin and stirred for 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90, and
120 min at room temperature. The metal ions on the resin
surface were eluted with2MHNO3and analyzed by ICPAES
as described in the recommended procedure. The saturation of
resin with time is graphically presented inFigure 3. The loading
half-time,t1/2, needed to reach 50% sorption of the total loading capacity (estimated fromFigure 3) has been found to be less
than 5 min for each metal ion (Cd, 3.4; Cu, 4.2; and Ni, 4.0
min, respectively). The kinetics of the resin-metal interaction
is sufficiently rapid for all of the metal ions at optimum pH.
The faster uptake of these metal ions on Amberlite XAD-2-HAPTSC reflects a good accessibility of the chelating sites of
the resin to metal ions.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

จลนพลศาสตร์ของประจุโลหะในอัตรา Sorption.The
Amberlite XAD-2-HAPTSC ถูกศึกษา โดยวิธีการชุดงาน 50
micrograms โลหะไอออนแต่ละโซลูชั่นเพิ่ม 1.0
g ของเรซิน และคนใน 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90 และ
120 นาทีที่อุณหภูมิห้อง ประจุโลหะบนยางไม้
ผิวถูกวิเคราะห์ โดย ICPAES with2MHNO3and eluted
ตามที่อธิบายไว้ในขั้นตอนแนะนำ ความเข้มของ
resin เวลาภาพแสดง inFigure 3 โหลด
ครึ่งวัน t1/2 ต้องไปถึง 50% ดูดกำลังโหลดรวม (ประเมิน fromFigure 3) พบน้อย
กว่า 5 นาทีสำหรับแต่ละไอออนโลหะ (Cd, 3.4 Cu, 4.2 และ Ni, 4.0
นาที ตามลำดับ) จลนพลศาสตร์ของการโต้ตอบยางโลหะ
เป็นอย่างรวดเร็วของประจุโลหะที่ค่า pH ที่เหมาะสมแก่การ
ดูดซับเร็วของประจุเหล่านี้โลหะบน Amberlite XAD-2-HAPTSC สะท้อนให้เห็นถึงความดีของอเมริกา chelating ของ
เรซิ่นกับประจุของโลหะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จลนพลศาสตร์ของอัตรา Sorption.The ของการดูดซับไอออนของโลหะใน
Amberlite XAD-2-HAPTSC ได้รับการศึกษาโดยวิธีการแบทช์ ห้าสิบ
ไมโครกรัมของการแก้ปัญหาของแต่ละโลหะไอออนถูกบันทึกอยู่ 1.0
กรัมของเรซินและคนสำหรับ 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90 และ
120 นาทีที่อุณหภูมิห้อง ไอออนของโลหะในเรซิน
พื้นผิวถูกชะ with2MHNO3and วิเคราะห์โดย ICPAES
ที่อธิบายไว้ในขั้นตอนที่แนะนำ อิ่มตัวของ
เรซินที่มีเวลาที่จะนำเสนอกราฟิก inFigure 3 โหลด
ครึ่งเวลา t1 / 2, จำเป็นที่จะไปถึง 50% การดูดซับของความจุในการโหลดรวม (fromFigure ประมาณ 3) มีการค้นพบจะน้อย
กว่า 5 นาทีสำหรับแต่ละโลหะ ไอออน (Cd, 3.4; Cu, 4.2 และ Ni, 4.0
นาทีตามลำดับ) จลนศาสตร์ของการปฏิสัมพันธ์เรซินโลหะ
พออย่างรวดเร็วสำหรับทุกไอออนของโลหะที่พีเอชที่เหมาะสมใน
การดูดซึมได้เร็วไอออนของโลหะเหล่านี้ใน Amberlite XAD-2-HAPTSC สะท้อนให้เห็นถึงการเข้าถึงที่ดีของเว็บไซต์ของคีเลต
เรซินไอออนโลหะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

จลนพลศาสตร์ของการดูดซับ อัตราการดูดซึมของไอออนโลหะในสารละลาย
xad-2-haptsc ศึกษาโดยวิธีการแบทช์ ห้าสิบ
ไมโครกรัมของโซลูชั่นไอออนโลหะแต่ละเพิ่ม 1.0
g เรซิ่นและกวน 2 , 5 , 10 , 20 , 30 , 40 , 50 , 60 , 90 และ
120 นาที ที่อุณหภูมิห้อง โลหะไอออนบนพื้นผิวเรซินมีตัวอย่างวิเคราะห์โดย icpaes with2mhno3and

ตามที่อธิบายไว้ในขั้นตอนที่แนะนำ .ความอิ่มตัวของเรซินกับกราฟิกแสดงเวลา
infigure 3 โหลด
ครึ่งเวลา , T1 / 2 ต้องไปถึง 50% การดูดซับของความจุในการโหลดทั้งหมด ( ประมาณ fromfigure 3 ) มีพบได้น้อย
กว่า 5 นาทีสำหรับแต่ละโลหะไอออน ( CD 3.4 4.2 ; ทองแดง ; ni 4.0
นาทีตามลำดับ ) จลนพลศาสตร์ของปฏิกิริยาของโลหะเรซิน
เพียงพออย่างรวดเร็วเพื่อทั้งหมดของไอออนโลหะที่เหมาะสม
.เร็วขึ้นปริมาณของไอออนโลหะในสารละลาย xad-2-haptsc เหล่านี้สะท้อนให้เห็นถึงการเข้าถึงที่ดีของชนิดของเรซิ่นที่เว็บไซต์
ไอออนโลหะ