Figure 2. a) Typical current–time (

Figure 2. a) Typical current–time (j–t) characteristics after a voltage step in the absence (a) and presence (c) of fluoride ions in the electrolyte. Either compact oxide (fluoride free) or porous/tubular metal oxide formation (containing fluoride) forms by different morphological stages (I–III). The inset shows typical linear sweep voltammograms (j–U curves) for different fluoride concentrations resulting in either electropolished metal (high fluoride concentration), compact oxide (very low fluoride concentration), or tube formation (intermediate fluoride concentration). b,c) Schematic drawing showing fieldaided transport of mobile ions through the oxide layers in the absence and presence of fluoride ions: rapid fluoride migration leads to accumulation at the metal–oxide interface.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 2 ) ลักษณะทั่วไปปัจจุบัน – เวลา (j – t) หลังจากแรงดันไฟฟ้าขั้นตอนในการขาดงาน (a) และสถานะการออนไลน์ (c) ของฟลูออไรด์ไอออนในอิเล็กโทรไลท์ ทั้งกระชับออกไซด์ (ฟลูออไรด์ฟรี) หรือแบบฟอร์ม (ประกอบด้วยฟลูออไรด์) ก่อตัวพรุนท่อโลหะออกไซด์ โดยด่านสัณฐาน (I – III) แทรกการแสดง voltammograms กวาดเชิงเส้นทั่วไป (j – U โค้ง) สำหรับใน electropolished โลหะ (ความเข้มข้นของฟลูออไรด์สูง), กะทัดรัดออกไซด์ (ความเข้มข้นของฟลูออไรด์ต่ำมาก), หรือก่อตัวหลอด (ความเข้มข้นของฟลูออไรด์ระดับกลาง) ความเข้มข้นของฟลูออไรด์ที่แตกต่างกัน b, c) วาดแผนผังแสดงการขนส่งไอออนเคลื่อนที่ผ่านชั้นออกไซด์ fieldaided ในการขาดงานและสถานะการออนไลน์ของฟลูออไรด์ไอออน: โยกย้ายฟลูออไรด์อย่างรวดเร็วนำไปสู่การสะสมที่รอยต่อโลหะ – ออกไซด์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 2) โดยทั่วไปในปัจจุบันเวลา (J-T) ลักษณะหลังจากขั้นตอนที่แรงดันไฟฟ้าในกรณีที่ไม่มี (ก) และการปรากฏตัว (ค) ของไอออนฟลูออไรในอิเล็กโทรไล อย่างใดอย่างหนึ่งที่มีขนาดกะทัดรัดออกไซด์ (ฟลูออไรฟรี) หรือรูพรุน / ท่อก่อโลหะออกไซด์ (ที่มีฟลูออไร) รูปแบบตามลำดับขั้นตอนที่แตกต่างกันทางสัณฐานวิทยา (I-III) ภาพประกอบแสดงให้เห็นโดยทั่วไป voltammograms เชิงเส้นกวาด (เส้นโค้ง J-U) สำหรับความเข้มข้นของฟลูออไรที่แตกต่างกันส่งผลให้ในโลหะทั้งเคมีไฟฟ้า (ความเข้มข้นของฟลูออไรสูง) ขนาดกะทัดรัดออกไซด์ (ความเข้มข้นของฟลูออไรต่ำมาก) หรือการก่อ Tube (ความเข้มข้นของฟลูออไรกลาง) B, C) วาดแผนผังแสดงการขนส่ง fieldaided ของไอออนมือถือผ่านชั้นออกไซด์ในกรณีที่ไม่มีและการปรากฏตัวของไอออนฟลูออไร: การโยกย้ายฟลูออไรอย่างรวดเร็วนำไปสู่​​การสะสมที่อินเตอร์เฟซโลหะออกไซด์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 2 โดยทั่วไปในปัจจุบัน ) และเวลา ( J ) t ) ลักษณะหลังจากที่แรงดันขั้นตอนในการขาดงาน ( ) และสถานะ ( C ) ของไอออนในอิเล็กโทรไลต์ฟลูออไรด์ ให้กระชับ ออกไซด์ ( ฟลูออไรด์ฟรี ) หรือรูพรุน / ท่อโลหะออกไซด์ก่อตัว ( ที่มีฟลูออไรด์ ) รูปแบบโดยขั้นตอนลักษณะทางสัณฐานวิทยาที่แตกต่างกัน ( ผม ( 3 ) สิ่งที่ใส่เข้าไปจะแสดงเส้นกวาด ( J ) U voltammograms ปกติโค้ง ) ที่แตกต่างกันส่งผลให้ฟลูออไรด์ electropolished โลหะ ( ความเข้มข้นของฟลูออไรด์สูง ขนาดกะทัดรัด ออกไซด์ ( ต่ำมากฟลูออไรด์ ) หรือการสร้างหลอด ( ความเข้มข้นฟลูออไรด์กลาง ) B , C ) วาดแผนผังแสดง fieldaided การขนส่งไอออนเคลื่อนที่ผ่านชั้นออกไซด์ในการปรากฏตัวของฟลูออไรด์และฟลูออไรด์ไอออน : อย่างรวดเร็วการย้ายถิ่นนำไปสู่การสะสมที่โลหะออกไซด์และอินเตอร์เฟซ