Microfluidic chips made from polydi

Microfluidic chips made from polydimethylsiloxane (PDMS) were prepared by using a mold created by soft photolithography mainly according to the procedure described by Whitesides [24]. The channel pattern was printed as a high-resolution (4000 dpi) photomask. In order to get a thickness of around 100 μm (that is, much thicker than usual in microfluidics), the negative type photoresist (SU-8 2025, Microchem, Newton, MA) was spin-coated onto a 3″ silicon wafer only with 500 rpm for 30 s. The PDMS chip was fabricated by a cast molding of a 10:1 mixture of PDMS oligomer and cross-linking agent (Sylgard 184, Dow Corning, Midland, MI). The PDMS chip was sealed onto a glass slide of 1.2 mm thickness after oxygen plasma treatment (PDC-32G, Harrick, Ithaca, NY).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ชิ Microfluidic ทำจาก polydimethylsiloxane (PDMS) ถูกเตรียมไว้ โดยใช้แม่พิมพ์ที่สร้างขึ้น โดย photolithography นุ่มส่วนใหญ่ตามขั้นตอนที่อธิบายไว้ โดย Whitesides [24] รูปแบบช่องที่พิมพ์เป็น photomask ความละเอียดสูง (4000 dpi) เพื่อให้ได้ความหนาของ μm ประมาณ 100 (นั่นคือ มากหนากว่าปกติใน microfluidics), photoresist ชนิดลบ (2025 SU-8 Microchem นิวตัน MA) ถูกหมุนเคลือบลงบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอน 3 ″เท่ากับ 500 รอบต่อนาทีสำหรับ 30 s ชิ PDMS ถูกหลังสร้าง โดยการหล่อปั้นผสมระหว่าง 10:1 ยับยั้ง PDMS และ cross-linking แทน (Sylgard 184 คอร์นทำดาว คอร์ปอร์เร MI) ชิ PDMS ถูกปิดผนึกลงบนสไลด์แก้วของความหนา 1.2 มม.หลังจากรักษาออกซิเจนพลาสมา (PDC - 32G, Harrick, Ithaca, NY)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชิป microfluidic ทำจากเซน (PDMS) มีการจัดทำโดยใช้แม่พิมพ์ที่สร้างขึ้นโดย photolithography อ่อนส่วนใหญ่เป็นไปตามขั้นตอนที่อธิบายโดย Whitesides [24] รูปแบบช่องทางที่ได้รับการพิมพ์เป็นความละเอียดสูง (4000 dpi) photomask เพื่อให้ได้ความหนาประมาณ 100 ไมโครเมตร (นั่นคือมากหนากว่าปกติใน microfluidics) ประเภทลบสารไวแสง (SU-8 2025, MICROCHEM, นิวตัน, MA) เป็นสปินเคลือบลงบนแผ่นเวเฟอร์ 3 "ซิลิกอนเท่านั้นที่มี 500 รอบต่อนาทีนาน 30 วินาที PDMS ชิปประดิษฐ์โดยการปั้นหล่อของ 10:01 ส่วนผสมของโอลิโกเม PDMS และข้ามการเชื่อมโยงตัวแทน (Sylgard 184, Dow Corning, มิดแลนด์, มิชิแกน) PDMS ชิปถูกปิดผนึกลงบนสไลด์แก้ว 1.2 มม. ความหนาหลังการรักษาพลาสม่าออกซิเจน (PDC-32G, Harrick, อีทากา)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ชิปไมโครฟลูอิดิกทำจาก O ( PDMS ) เตรียมได้โดยการใช้แม่พิมพ์ที่สร้างขึ้นโดยนุ่ม 43 ส่วนใหญ่ตามขั้นตอนที่อธิบายไว้โดย ไวต์ไซด์ส [ 24 ] ช่องพิมพ์เป็นรูปแบบความละเอียดสูง ( 4000 dpi ) โฟโต้มาสค์ . เพื่อให้ได้ความหนาประมาณ 100 μ M ( คือมากข้นกว่าปกติในระบบไมโครฟลูอิดิก ) , ลบ ( ประเภท SU-8 2025 ,microchem นิวตัน , MA ) คือปั่นบนเวเฟอร์เคลือบ 3 เพลงซิลิคอนเพียง 500 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 30 วินาที โดยชิปที่ถูกสร้างขึ้นมาจากการโยน ปั้นเป็น 10 : 1 ผสมโอลิโกเมอร์แรง ( PDMS และตัวแทนของต้น 184 , Dow Corning , ภาคกลาง , มิ ) โดยชิปที่ถูกปิดผนึกลงบนกระจกสไลด์ ความหนา 1.2 มม. หลังการรักษาด้วยพลาสมาออกซิเจน ( pdc-32g harrick Ithaca , NY , , )