With the assistance of an oxygen vacancy, the diffusion barrier for Ga atoms decreased from 1.26 to0.85 eV, resulting in a two orders of magnitude increase in the surface diffusion coefficient.
ด้วยความช่วยเหลือของตำแหน่งที่ออกซิเจน อุปสรรคการกระจายสำหรับ Ga อะตอมลดลงจาก 1.26 to0.85 eV ผลเป็นอันดับสองของขนาดการเพิ่มค่าสัมประสิทธิ์การกระจายพื้นผิว