The thickness of the ITO layer was

The thickness of the ITO layer was about 60 nm. After that, ZnO nanorods were electrodeposited in 0.005 M Zn(NO3)2 and 0.005 M hexamethylenetramine aqueous solutions. The deposition was carried out in a configured glass cell at 90 1C, in which the ITO substrate, a platinum plate, and an Ag/AgCl electrode in a saturated KCl solution served as the working electrode, the counter electrode and the reference electrode, respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความหนาของชั้นอิโตะได้ประมาณ 60 nm หลังจากนั้น ZnO nanorods ได้ electrodeposited ใน 0.005 M Zn (NO3) 2 และโซลูชั่นอควี hexamethylenetramine 0.005 M สะสมที่ถูกดำเนินการในเซลล์แก้วกำหนดไว้ที่ 90 1C ซึ่งพื้นผิวอิโตะ แผ่นแพลตตินั่ม และอิเล็กโทรด Ag/AgCl ในอิ่มตัว KCl โซลูชันบริการอิเล็กโทรดทำงาน ไฟฟ้าเคาน์เตอร์ และอิเล็กโท รดอ้างอิง ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความหนาของชั้น ITO ประมาณ 60 นาโนเมตร หลังจากนั้นแท่งนาโนซิงค์ออกไซด์ถูก electrodeposited ใน 0.005 M Zn (NO3) 2 และ 0.005 M hexamethylenetramine สารละลาย การสะสมได้ดำเนินการในเซลล์แก้วการกำหนดค่าที่ 90 1C ซึ่งพื้นผิว ITO แผ่นทองคำและ Ag / อิเลคโทร AgCl ในอิ่มตัวแก้ปัญหา KCl ทำหน้าที่เป็นขั้วไฟฟ้าทำงานขั้วเคาน์เตอร์และขั้วอ้างอิงตามลำดับ .

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความหนาของชั้นนี้ประมาณ 60 นาโนเมตร หลังจากนั้น nanorods ด้วยไฟฟ้าใน 0.005 M P และ Zn ( 3 ) 2 และ 0.005 m hexamethylenetramine สารละลายน้ำ การสะสมข้อมูลในเซลล์ที่ปรับกระจก 90 1C ซึ่งใน Ito พื้นผิวแพลทินัม จาน และแบงก์ 0.46% โพแทสเซียมในสารละลายอิเล็กโทรดและทำหน้าที่เป็นขั้วไฟฟ้าทำงานเคาน์เตอร์ไฟฟ้าและขั้วไฟฟ้าอ้างอิงตามลำดับ