UV-100 curing systems come with a l

UV-100 curing systems come with a large lamp (Figure 8.15) that covers a large area with UV lights. Thus, its more uniform energy distribution is more suitable for curing large samples. The working zone is based on a rotating belt with 10 speeds, and the system has three power levels (125, 200, and 300 W/in.).

Figure 8.15.
Ultraviolet lamp of UV-100 curing system.
Figure options
Spin-Curing Method
Small sample pieces of resin–abrasive mixture are easy to make because the small area is easy to control and ultraviolet energy distribution is more uniform. For a large area of resin–abrasive mixture that needs to be cured, the curing process is much more complicated. A spin-coating method is proposed in previous studies, and the idea is illustrated in Figure 8.16.

Figure 8.16.
Spin-coating method.
Figure options
In a spin-coating process, the resin mixture is spread on the cast iron plate and cured at one time. Although it seems like this method would reduce curing time and generate a uniform distribution of the mixture, two mainly problems arise during the process; First, a great deal of heat is generated on the surface of the mixture film within the curing process, and the uneven distribution of the heat absorption causes deformation of the surface, resulting in surface waviness. The waviness of the whole plate is difficult to deal with before lapping has taken place. Second, it is impossible for the ultraviolet lamp to produce uniform energy distribution due to the large surface area of the plate. The distance from the UV lamp to the center of the plate is different from the distance from UV lamp to the periphery area of the plate; therefore, the cure depth can vary in one plate. Besides these two problems, whether the contact area of the resin–abrasive mixture and the cast iron plate is cured remains uncertain. Even if it is cured, whether the adhesive force is strong enough to handle the lapping process is still a problem.
Slice-Curing Method
In this experiment, another curing method to build a lapping plate with resin–abrasive mixture is introduced. The plate is divided evenly into 12 slices, with the size of each slice suitable for mounting in the curing system to obtain a uniform energy distribution from the UV light. Figure 8.17 shows the steel pattern used for curing slices of lapping plate

Figure 8.17.
Curing pattern designed for slice of lapping plate.
Figure options
The cured pieces are then agglutinated together on the cast iron plate as shown in Figure 8.18. The finished lapping plate consists of 12 slices. Because the agglutinating process is done by hand, it is difficult to keep the adhesive film thickness exactly the same, and a dressing process is necessary before the plate is used for the lapping experiment (Figure 8.19). A grinding wheel is applied to the face of the plate to ensure its flatness. This process also can be done with a conditioning ring and slurry, based on a conventional lapping process. However, the efficiency of grinding is preferable to lapping.

Figure 8.18.
12 slices of plate.
Figure options

Figure 8.19.
Dressing process of lapping plate.


Figure options
8.4. Kinematic analysis of grind/lap
Analysis of Kinematic Path Type Under Different Lapping Coefficient N
The lapping coefficient N is given for several values to depict the relative motions between the lapping plate and workpiece holder. It represents the ratio of revolutions of the workpiece carrier holder to the revolutions of the lapping plate. In the process, the workpiece holder rotates not only around its own center in w2, but also around the lapping plate center at a speed equal to the rotation speed of the lapping plate, w1. A simplified description of the lapping coefficient N is:
equation(8.1)

Turn MathJaxon

where w1 is the rotational speed of the lapping plate and w2 is the rotational speed of the workpiece carrier holder.
The characteristic path types that a workpiece center point covers as a function of the rotational speed ratio N are investigated in both the same and opposite directions as that of the lapping plate.
Table 8.3 shows the characteristic path types when the absolute value of N is larger than 1. Negative means the revolutions of workpiece holder and the lapping plate are in different directions. This table indicates that the kinematic types of the workpiece differ from the relative rotation speed ratio between the workpiece holder and the lapping plate. Two conclusions can be made based on the traces obtained according toTable 8.3:
1.
The trace produced by a single grain is epicycloid when the rotation speed ration of the workpiece carrier holder moving relative to the lapping plate is negative; otherwise, the trace is hypocycloid.
2.
When the ratio increases to a certain value, the epicycloid trace becomes interlaced epicycloids while the hypocycloid trace transitions into interlaced hypocycloid, and as a ratio gets larger, the trace displays denser conditions.
Table 8.3.
Kinematical Trace of Workpiece When w2> w1

N = −2 N = −4 N = −8 N = −10
N = 2 N = 4 N = 8 N = 10

When the rotational speed of the lapping plate is greater than that of the workpiece holder, the lapping coefficient is changed:
equation(8.2)

Turn MathJaxon

Similar to Table 8.3, Table 8.4 shows the characteristic path types when the absolute value of N is less than 1. In such case, the trace produced by a single workpiece indicates the following:
1.
The trace type of workpiece is a stretched epicycloid when the two components rotate in the same or opposite direction.
2.
The traces in the two states become denser as the ratio gets smaller.
Table 8.4.
Kinematical Trace of Workpiece when w1 > w2

N = −2 N = −4 N = −8 N = −10
N = 2 N = 4 N = 8 N = 10

A common phenomenon can be seen from these two situations: when the ratio is larger than 1, the number of intercepts between the trace and the outer circle or between the trace and the inner circle equals the rotation speed ratio, otherwise, the intercept number equals the absolute value of the ratio minus one.
Kinematic Relation of UV Diamond Wheel and Lapping Machine
Based on the kinematic types discussed previously, the trace of workpiece on the face grinding process on a lapping machine was studied to indicate its influence on the abrasive tool and, hence, on the industrial machining.
The lapping machine used in this project was Lapmaster 12 (see Figure 8.20). The rotational speed of the lapping plate can be set with several values. Revolutions of the workpiece holder without or with different pressures are obtained versus certain speeds of lapping plate, and their relationships can be seen inFigure 8.21.

Figure 8.20.
Lapmaster 12.
Figure options

Figure 8.21.
Revolutions of workpiece under different pressures.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระบบบ่มผิว UV 100 มาพร้อมกับโคมไฟขนาดใหญ่ (รูปเวลา 8.15) ที่ครอบคลุมพื้นที่ขนาดใหญ่ไฟ UV การกระจายพลังงานสม่ำเสมอมากจึงเหมาะสำหรับการบ่มตัวอย่างขนาดใหญ่ โซนทำงานอยู่บนสายพานหมุนด้วยความเร็ว 10 และระบบมี 3 ระดับพลังงาน (125, 200 และ 300 W/ใน) เวลา 8.15 รูป หลอดไฟอัลตราไวโอเลตระบบบ่มผิว UV 100ตัวเลือกรูปวิธีการบ่มหมุนชิ้นตัวอย่างขนาดเล็กผสมเรซินทรายจะทำให้เนื่องจากพื้นที่เล็กจะง่ายต่อการควบคุม และแจกจ่ายพลังงานรังสีอัลตราไวโอเลตจะสม่ำเสมอมากขึ้น สำหรับพื้นที่ขนาดใหญ่ส่วนผสมยาง – ทรายที่ต้องการจะรักษา กระบวนการบ่มผิวมีความซับซ้อนมากขึ้น มีเสนอวิธีหมุนเคลือบในการศึกษาก่อนหน้านี้ และความคิดที่จะแสดงในรูปที่ 8.16 รูปที่ 8.16 การ วิธีหมุนเคลือบตัวเลือกรูปในกระบวนการเคลือบหมุน ส่วนผสมเรซิ่นเป็นแพร่กระจายบนแผ่นเหล็ก และหายในครั้งเดียว แม้ว่าดูเหมือนวิธีนี้จะลดเวลาในการบ่มผิว และกระจายสม่ำเสมอของผสม สร้างสองส่วนใหญ่ปัญหาที่เกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ ครั้งแรก ความร้อนมากจะถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวของฟิล์มผสมในกระบวนการบ่มผิว และแมพของพื้นผิว ใน waviness ผิวทำให้การดูดซึมความร้อนกระจายไม่สม่ำเสมอ Waviness จานทั้งกระดูกก่อนซัดสาดได้เกิดขึ้นได้ ที่สอง มันเป็นไปไม่ได้สำหรับหลอดไฟอัลตราไวโอเลตการกระจายพลังงานสม่ำเสมอเนื่องจากพื้นที่ขนาดใหญ่ของแผ่น ระยะห่างจากหลอดไฟ UV กับศูนย์กลางของจานจะแตกต่างจากระยะห่างจากหลอดไฟ UV เพื่อตั้งยสปริงจาน ดังนั้น ความลึกการรักษาอาจแตกต่างกันในหนึ่งจาน นอกจากปัญหาเหล่านี้สอง ว่าเป็นรักษาพื้นที่ติดต่อของส่วนผสมยาง – ทรายและแผ่นเหล็กยังคงไม่แน่นอน แม้ว่ามันจะหาย ว่าแรงกาวจะแข็งแรงพอที่จะจัดการการซัดยังคงเป็นปัญหาวิธีการบ่ม sliceในการทดลองนี้ เป็นนำวิธีบ่มผิวอื่นสร้างแผ่น ด้วยส่วนผสมของเรซิน – ทรายซัด จานแบ่งเท่า ๆ กัน 12 ชิ้น ขนาดของแต่ละชิ้นที่เหมาะสำหรับติดตั้งในระบบบ่มผิวรับกระจายเป็นรูปแบบพลังงานจากแสง UV รูปที่ 8.17 แสดงรูปเหล็กที่ใช้สำหรับบ่มผิวชิ้นจานซัด รูปที่ 8.17 การ รูปแบบบ่มผิวชิ้นจานที่ซัดมาตัวเลือกรูปชิ้นส่วนหายอยู่แล้ว agglutinated กันบนแผ่นเหล็กดังแสดงในรูปที่ 8.18 ซัดแผ่นสำเร็จรูปจำนวน 12 ชิ้น เนื่องจากกระบวนการ agglutinating จะทำด้วยมือ มันยากที่จะให้ความหนาของฟิล์มกาวตรงเหมือนกัน และกระบวนการแต่งตัวจำเป็นก่อนใช้แผ่นทดลองซัด (รูปที่ 8.19) บดล้อใช้กับหน้าจานให้มันเรียบ กระบวนการนี้ยังสามารถทำได้พร้อมวงแหวนปรับและสารละลาย ตามกระบวนการปกติซัด อย่างไรก็ตาม ประสิทธิภาพของการบดได้กว่าซัดสาด รูปที่ 8.18 ชิ้นที่ 12 ของจานตัวเลือกรูป รูปที่ 8.19 แต่งตัวกระบวนการซัดสาดจานตัวเลือกรูป8.4. จลน์วิเคราะห์ทรยศ/ตักการวิเคราะห์เส้นทางจลน์ชนิดภายใต้สัมประสิทธิ์ซัดแตกต่างกัน Nค่าสัมประสิทธิ์ซัด N ถูกกำหนดสำหรับค่าหลายค่าเพื่อแสดงการเคลื่อนไหวสัมพันธ์กันระหว่างจานซัดและเจ้าของเทคโนโลยี แสดงอัตราส่วนของการปฏิวัติของผู้ขนส่งเทคโนโลยีการปฏิวัติของแผ่นซัด ในกระบวนการ ยึดเทคโนโลยีหมุนไม่เพียง แต่ รอบศูนย์กลางเองใน w2 แต่ยังซัดกลางแผ่นที่ความเร็วเท่ากับความเร็วหมุนจานซัด w1 เป็นคำอธิบายที่เรียบง่ายของสัมประสิทธิ์ซัด N:equation(8.1) เปิด MathJaxon ความเร็วในการหมุนของจานและ w2 ซัด w1 เป็นความเร็วในการหมุนของเจ้าของผู้ให้บริการเทคโนโลยีชนิดลักษณะเส้นทางที่จุดศูนย์กลางเทคโนโลยีครอบคลุมเป็นฟังก์ชันของอัตราความเร็วในการหมุน N จะสอบสวนทั้งสองเหมือนกัน และตรงข้าม กับทิศทางรวมของจานซัดตาราง 8.3 แสดงลักษณะเส้นชนิดเมื่อค่าสัมบูรณ์ของ N มีขนาดใหญ่กว่า 1 ลบหมายถึง การปฏิวัติของเทคโนโลยียึดและแผ่นซัดอยู่ในทิศทางที่แตกต่างกัน ตารางนี้บ่งชี้ว่า ชนิดจลน์ของเทคโนโลยีแตกต่างจากอัตราส่วนความเร็วในการหมุนสัมพันธ์ระหว่างยึดเทคโนโลยีและจานซัด บทสรุปของทั้งสองสามารถทำอยู่ในร่องรอยที่ได้รับตาม toTable 8.3:1ติดตามการผลิต โดยเม็ดเดียวเป็นเอพิไซคลอยด์เมื่ออาหารความเร็วในการหมุนของผู้ขนส่งเทคโนโลยีที่ย้ายเทียบจานซัดเป็นค่าลบ อื่น การสืบค้นกลับเป็นไฮโพไซคลอยด์2เมื่ออัตราส่วนเพิ่มขึ้น ค่าติดตามเอพิไซคลอยด์กลายเป็น กราฟิก epicycloids ติดตามไฮโพไซคลอยด์เปลี่ยนเป็นไฮโพไซคลอยด์กราฟิก และเป็นอัตราส่วนมีขนาดใหญ่ การติดตามแสดงเงื่อนไข denserตาราง 8.3ติดตามของเทคโนโลยีเมื่อ w2 kinematical > w1 N = −2 N = −4 N = −8 N = −10N = 2 N = 4 N = 8 N = 10 เมื่อความเร็วในการหมุนของจานซัดเป็นมากกว่าที่ใส่เทคโนโลยี มีการเปลี่ยนแปลงค่าสัมประสิทธิ์ซัด:equation(8.2) เปิด MathJaxon เช่นเดียวกับตาราง 8.3, 8.4 ตารางแสดงชนิดเส้นทางลักษณะเมื่อค่าสัมบูรณ์ของ N น้อยกว่า 1 ในกรณีดังกล่าว การสืบค้นกลับที่ผลิต โดยเทคโนโลยีเดียวระบุต่อไปนี้:1ติดตามชนิดของเทคโนโลยีได้เป็นเอพิไซคลอยด์ยืดเมื่อคอมโพเนนต์ที่สองหมุนเดียวกัน หรือตรงข้าม กับทิศทาง2ร่องรอยในอเมริกาสองเป็น denser ตามอัตราส่วนได้รับมีขนาดเล็กตาราง 8.4Kinematical ติดตามเทคโนโลยีเมื่อ w1 > w2 N = −2 N = −4 N = −8 N = −10N = 2 N = 4 N = 8 N = 10 สามารถมองเห็นปรากฏการณ์ทั่วไปเหล่านี้สองสถานการณ์: เมื่ออัตราส่วนมีขนาดใหญ่กว่า 1, intercepts ระหว่างการสืบค้นกลับและวงกลมด้านนอก หรือ ระหว่างการสืบค้นกลับและภายในวงกลมจำนวนเท่ากับอัตราส่วนความเร็วในการหมุน มิฉะนั้น จุดตัดแกนจำนวนเท่ากับค่าสัมบูรณ์ของอัตราส่วนลบหนึ่งความสัมพันธ์ทางจลน์ล้อเพชร UV และเครื่องซัดตามแบบจลน์ที่กล่าวถึงก่อนหน้านี้ การติดตามเทคโนโลยีหน้าบดกระบวนการเครื่องซัดถูกศึกษาเพื่อบ่งชี้อิทธิพลมือ abrasive และ จึง เครื่องจักรอุตสาหกรรมเครื่องซัดที่ใช้ในโครงการนี้คือ Lapmaster (ดูรูปที่ 8.20) 12 สามารถตั้งความเร็วในการหมุนของจานซัด ด้วยค่าหลายค่า การปฏิวัติยึดเทคโนโลยีไม่มี หรือ มีแรงกดดันต่าง ๆ จะได้รับเมื่อเทียบกับความเร็วในการเคลื่อนตัวสู่แผ่นบาง และความสัมพันธ์ของพวกเขาสามารถเห็น inFigure 8.21 รูปที่ 8.20 การ Lapmaster 12ตัวเลือกรูป รูปที่ 8.21 การปฏิวัติของเทคโนโลยีภายใต้ความดันที่แตกต่างกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

UV-100 ระบบบ่มมาพร้อมกับโคมไฟขนาดใหญ่ (รูปที่ 8.15) ที่ครอบคลุมพื้นที่ขนาดใหญ่ที่มีแสงไฟยูวี ดังนั้นการกระจายพลังงานที่สม่ำเสมอมากขึ้นที่จะเหมาะสำหรับการบ่มตัวอย่างที่มีขนาดใหญ่ โซนการทำงานจะขึ้นอยู่กับเข็มขัดหมุนด้วยความเร็ว 10 และระบบการมีสามระดับพลังงาน (125, 200, และ 300 W / ใน.). รูปที่ 8.15. โคมไฟอัลตราไวโอเลตระบบบ่ม UV-100. รูปที่ตัวเลือกSpin-บ่ม วิธีชิ้นตัวอย่างขนาดเล็กผสมเรซินขัดเป็นเรื่องง่ายที่จะทำให้พื้นที่ขนาดเล็กเพราะง่ายต่อการควบคุมและการกระจายพลังงานรังสีอัลตราไวโอเลตเป็นสม่ำเสมอมากขึ้น สำหรับพื้นที่ขนาดใหญ่ของผสมเรซินขัดที่ต้องการที่จะรักษาให้หายขาดกระบวนการบ่มเป็นความซับซ้อนมากขึ้น วิธีการหมุนเคลือบมีการเสนอในการศึกษาก่อนหน้านี้และความคิดที่จะแสดงในรูปที่ 8.16. รูปที่ 8.16. วิธีการหมุนเคลือบ. เลือกรูปในกระบวนการปั่นเคลือบผสมเรซินจะถูกกระจายไปบนแผ่นเหล็กและหายที่ ครั้งหนึ่ง แม้ว่ามันจะดูเหมือนว่าวิธีการนี้จะช่วยลดเวลาในการรักษาและสร้างการกระจายชุดของส่วนผสมสองส่วนใหญ่ปัญหาที่เกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ; ประการแรกการจัดการที่ดีของความร้อนจะถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวของฟิล์มผสมในกระบวนการบ่มและกระจายไม่สม่ำเสมอของการดูดซึมความร้อนที่ทำให้เกิดความผิดปกติของผิวส่งผลให้พื้นผิว waviness waviness ของแผ่นทั้งหมดเป็นเรื่องยากที่จะจัดการกับความขัดก่อนที่จะเกิดขึ้น ประการที่สองมันเป็นไปไม่ได้สำหรับหลอดไฟยูวีในการผลิตการกระจายพลังงานสม่ำเสมอเนื่องจากพื้นที่ขนาดใหญ่ของแผ่น ระยะทางจากหลอดไฟยูวีไปยังศูนย์กลางของแผ่นจะแตกต่างจากระยะทางจากหลอดไฟยูวีไปยังพื้นที่รอบนอกของแผ่น; ดังนั้นการรักษาความลึกอาจแตกต่างกันในหนึ่งจาน นอกจากนี้สองปัญหาไม่ว่าจะเป็นพื้นที่ติดต่อของผสมเรซินขัดและแผ่นเหล็กโยนจะหายยังคงไม่แน่นอน ถึงแม้ว่ามันจะหายไม่ว่าจะมีผลบังคับใช้กาวที่มีความแข็งแรงพอที่จะจัดการขั้นตอนการขัดก็ยังคงเป็นปัญหาที่เกิดขึ้น. Slice-บ่มวิธีในการทดลองนี้วิธีการบ่มอื่นในการสร้างแผ่นขัดที่มีส่วนผสมเรซินขัดเป็นที่รู้จัก จานแบ่งเท่า ๆ กันเป็น 12 ชิ้นที่มีขนาดของแต่ละชิ้นเหมาะสำหรับการติดตั้งในระบบของการบ่มที่จะได้รับการกระจายพลังงานที่สม่ำเสมอจากแสงยูวี รูปที่ 8.17 แสดงให้เห็นถึงรูปแบบเหล็กที่ใช้สำหรับชิ้นบ่มของแผ่นขัดรูปที่ 8.17. รูปแบบการบ่มที่ออกแบบมาสำหรับชิ้นของแผ่นขัด. เลือกรูปชิ้นหายจะติดเป็นก้อนแล้วร่วมกันบนแผ่นเหล็กดังแสดงในรูปที่ 8.18 แผ่นขัดเสร็จประกอบด้วย 12 ชิ้น เนื่องจากกระบวนการ agglutinating ทำด้วยมือมันเป็นเรื่องยากที่จะทำให้ความหนาของฟิล์มกาวตรงเดียวกันและขั้นตอนการแต่งกายเป็นสิ่งที่จำเป็นก่อนที่แผ่นที่ใช้สำหรับการทดลองขัด (รูปที่ 8.19) บดล้อถูกนำไปใช้กับใบหน้าของแผ่นเพื่อให้แน่ใจว่ามันเรียบ กระบวนการนี้ยังสามารถทำได้ด้วยแหวนเครื่องและสารละลายขึ้นอยู่กับขั้นตอนการขัดธรรมดา แต่ประสิทธิภาพในการบดเป็นที่นิยมในการขัด. รูปที่ 8.18. 12 ชิ้นของแผ่น. เลือกรูปที่รูปที่ 8.19. ขั้นตอนการแต่งเนื้อของแผ่นขัด. เลือกรูปที่8.4 การวิเคราะห์จลนศาสตร์ของบด / ตักวิเคราะห์จลนศาสตร์ประเภทเส้นทางที่แตกต่างกันภายใต้การห่อหุ้มค่าสัมประสิทธิ์ไม่มีค่าสัมประสิทธิ์ยังไม่มีการทับจะได้รับค่าหลายอย่างเพื่อแสดงให้เห็นถึงความสัมพันธ์ระหว่างการเคลื่อนไหวของแผ่นขัดและเจ้าของชิ้นงาน เพราะมันหมายถึงอัตราส่วนของการปฏิวัติของผู้ถือชิ้นงานของผู้ให้บริการในการปฏิวัติของแผ่นขัด ในการที่ผู้ถือชิ้นงานไม่เพียง แต่หมุนรอบศูนย์กลางของตัวเองใน w2 แต่ยังรอบศูนย์แผ่นขัดที่ความเร็วเท่ากับความเร็วในการหมุนของแผ่นขัด, w1 คำอธิบายที่เรียบง่ายของค่าสัมประสิทธิ์การขัดไม่มีคือสมการ (8.1) เปิด MathJaxon ที่ w1 คือความเร็วในการหมุนของแผ่นขัดและ w2 คือความเร็วในการหมุนของผู้ให้บริการผู้ถือชิ้นงาน. ประเภทลักษณะเส้นทางที่จุดกึ่งกลางชิ้นงานครอบคลุมเป็น ฟังก์ชั่นของอัตราส่วนความเร็วในการหมุนไม่มีข้อความจะถูกตรวจสอบทั้งในทิศทางเดียวกันและตรงข้ามกับที่ของแผ่นขัด. ตารางที่ 8.3 แสดงให้เห็นถึงลักษณะประเภทเส้นทางเมื่อค่าสัมบูรณ์ของ N คือขนาดใหญ่กว่า 1 ลบหมายถึงการปฏิวัติของผู้ถือชิ้นงานและ แผ่นขัดอยู่ในทิศทางที่แตกต่าง ตารางนี้แสดงให้เห็นว่าประเภทจลนศาสตร์ของชิ้นงานที่แตกต่างจากอัตราส่วนความเร็วในการหมุนความสัมพันธ์ระหว่างเจ้าของชิ้นงานและแผ่นขัด สองข้อสรุปที่สามารถทำขึ้นอยู่กับร่องรอยที่ได้รับตาม toTable 8.3: 1 ร่องรอยผลิตโดยเม็ดเดียวคือเอพิไซคลอยด์เมื่อปันส่วนความเร็วในการหมุนของเจ้าของชิ้นงานให้บริการเคลื่อนย้ายเมื่อเทียบกับแผ่นขัดเป็นลบ; อื่นร่องรอยเป็น hypocycloid. 2. เมื่ออัตราการเพิ่มขึ้นค่าบางร่องรอยเอพิไซคลอยด์จะกลายเป็น epicycloids interlaced ในขณะที่การเปลี่ยนร่องรอย hypocycloid เข้า hypocycloid interlaced และเป็นอัตราส่วนที่ได้รับขนาดใหญ่ร่องรอยแสดงเงื่อนไขหนาแน่น. ตารางที่ 8.3. Kinematical ร่องรอยของชิ้นงานเมื่อ w2> w1 N = -2 -4 = ไม่มีไม่มีไม่มี -8 = = -10 N = 2 = 4 N = 8 N = 10 เมื่อความเร็วในการหมุนของแผ่นขัดที่มีค่ามากกว่าที่ของชิ้นงาน ผู้ถือสัมประสิทธิ์ขัดที่มีการเปลี่ยนแปลง: สมการ (8.2) เปิด MathJaxon คล้ายกับตารางที่ 8.3 ตารางที่ 8.4 แสดงให้เห็นถึงลักษณะประเภทเส้นทางเมื่อค่าสัมบูรณ์ของ N คือน้อยกว่า 1 ในกรณีเช่นร่องรอยที่เกิดจากชิ้นงานเดียวที่แสดงให้เห็น ดังต่อไปนี้1. ประเภทร่องรอยของชิ้นงานเป็นเอพิไซคลอยด์ยืดเมื่อทั้งสองส่วนประกอบหมุนไปในทิศทางเดียวกันหรือตรงข้าม. 2. ร่องรอยในสองรัฐกลายเป็นทึบเป็นอัตราส่วนที่มีขนาดเล็กได้รับ. ตารางที่ 8.4. Kinematical ติดตามของชิ้นงานเมื่อ w1 > w2 N = -2 -4 = ไม่มีไม่มีไม่มี -8 = = -10 N = 2 = 4 N = 8 = 10 ไม่มีปรากฏการณ์ที่พบบ่อยสามารถมองเห็นได้จากทั้งสองสถานการณ์เมื่ออัตราส่วนที่มีขนาดใหญ่กว่า 1, จำนวนดักระหว่างร่องรอยและนอกวงกลมหรือระหว่างร่องรอยและวงในอัตราส่วนเท่ากับความเร็วในการหมุนมิฉะนั้นตัดจำนวนเท่ากับค่าสัมบูรณ์ของอัตราการลบหนึ่ง. Kinematic ความสัมพันธ์ของล้อเพชรยูวีและเครื่องขัดจาก ประเภทจลนศาสตร์กล่าวก่อนหน้านี้ร่องรอยของชิ้นงานบนใบหน้าขั้นตอนการบดในเครื่องขัดศึกษาเพื่อบ่งชี้ถึงอิทธิพลที่มีต่อเครื่องมือขัดและดังนั้นในอุตสาหกรรมเครื่องจักรกล. เครื่องขัดที่ใช้ในโครงการนี้เป็น Lapmaster 12 (ดู รูปที่ 8.20) ความเร็วในการหมุนของแผ่นขัดที่สามารถตั้งค่าที่มีค่าหลาย การปฏิวัติของผู้ถือชิ้นงานโดยไม่ต้องหรือกับแรงกดดันที่แตกต่างกันจะได้รับเมื่อเทียบกับความเร็วที่แน่นอนของแผ่นขัดและความสัมพันธ์ของพวกเขาสามารถมองเห็นได้ inFigure 8.21. รูปที่ 8.20. Lapmaster 12. เลือกรูปที่รูปที่ 8.21. การปฏิวัติของชิ้นงานภายใต้แรงกดดันที่แตกต่างกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

uv-100 ระบบการบ่มด้วยโคมไฟขนาดใหญ่ ( รูปที่ 8.15 ) ที่ครอบคลุมพื้นที่ขนาดใหญ่ที่มีไฟยูวี ดังนั้น การกระจายพลังงานของชุดมากขึ้นเหมาะสำหรับการบ่มตัวอย่างขนาดใหญ่ โซนทำงานตามสายพานหมุนด้วยความเร็ว 10 , และระบบมี 3 ระดับพลังงาน ( 125 , 200 และ 300 w / ค่ะ )

รูปที่ 8.15 .
uv-100 ระบบบ่มโคมไฟอัลตราไวโอเลต .

รูปที่เลือกใช้วิธีปั่น
ตัวอย่างเล็กชิ้นยาง–ขัดผสมทําได้ง่าย เพราะพื้นที่ขนาดเล็กง่ายต่อการควบคุม และการกระจายพลังงานแสงเป็นชุดมากขึ้น สำหรับพื้นที่ขนาดใหญ่ของเม็ด abrasive และส่วนผสมที่จำเป็นต้องรักษา บ่มกระบวนการที่ซับซ้อนมากขึ้น เคลือบหมุนเป็นวิธีการที่เสนอในงานวิจัย และความคิดที่แสดงในรูปที่ 8.16 .

รูป 8.16 .

รูปตัวเลือกวิธีเคลือบหมุน หมุน
ในกระบวนการเคลือบผิว , เรซินผสมกระจายบนเหล็กแผ่นและรักษาได้ในครั้งเดียว ถึงแม้ว่ามันดูเหมือนว่าวิธีนี้จะช่วยลดระยะเวลาและสร้างการแจกแจงของส่วนผสม สอง ส่วนใหญ่ปัญหาที่เกิดขึ้นในระหว่างกระบวนการ ; ก่อนจัดการที่ดีของความร้อนถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวของฟิล์มผสมในขั้นตอนการบ่มและการกระจายไม่สม่ำเสมอของการดูดซับความร้อนสาเหตุความผิดปกติของพื้นผิวซึ่งเป็นคลื่นพื้นผิว ซึ่งเป็นคลื่นของทั้งจานเป็นเรื่องยากที่จะจัดการกับก่อนที่จะซัดได้เกิดขึ้น ประการที่สองมันเป็นไปไม่ได้สำหรับรังสีอัลตราไวโอเลตหลอดไฟเพื่อผลิตพลังงานที่กระจายสม่ำเสมอเนื่องจากมีขนาดใหญ่พื้นที่ผิวของแผ่น ระยะทางจากหลอด UV ในศูนย์กลางของจานจะแตกต่างจากระยะห่างจากหลอด UV กับรอบนอกพื้นที่ของแผ่น ดังนั้น การรักษาความลึกสามารถแตกต่างกันในหนึ่งจาน นอกจากนี้เหล่านี้สองปัญหาไม่ว่าพื้นที่สัมผัสของเรซินและผสม abrasive และเหล็กแผ่นหายยังคงไม่แน่ใจ แม้ว่าจะหาย ไม่ว่าจะกาวมีพลังแข็งแกร่งพอที่จะจัดการซัดกระบวนการยังคงเป็นปัญหา ใช้วิธี

ฝานในการทดลองนี้ใช้วิธีอื่นเพื่อสร้างจานขัดและขัดด้วยเรซินผสมเป็นที่รู้จัก จานแบ่งเท่า ๆ กัน เป็น 12 ชิ้นกับขนาดของแต่ละชิ้นเหมาะสำหรับการติดตั้งในระบบบ่มเพื่อให้ได้พลังงานที่กระจายสม่ำเสมอจากแสง UV รูปแสดงแบบแผนที่ใช้เหล็กเพียง 30.5 การบ่มชิ้นของจานขัด

รูปเพียง 30.5 . รูปแบบการออกแบบสำหรับ
บ่มแผ่นจานขัด .

ตัวเลือกรูปหายชิ้นแล้ว agglutinated ด้วยกันบนเหล็กแผ่นดังแสดงในรูปที่ 8.18 .เสร็จแล้วจานขัดประกอบด้วย 12 ชิ้น เพราะสิงสถิตย์เสร็จสิ้นกระบวนการด้วยมือ ก็ยากที่จะให้ความหนาของฟิล์มกาวเหมือนกัน และการแต่งกายกระบวนการจำเป็นก่อนที่แผ่นจะใช้สำหรับงานทดลอง ( รูปที่ 8.19 ) บดล้อที่ใช้กับหน้าจานเพื่อให้มีความเรียบกระบวนการนี้ยังสามารถทำได้กับแหวนปรับค่าตามแบบงานกระบวนการ อย่างไรก็ตาม ประสิทธิภาพของการบดขัดดีกว่า

รูปที่ 8.18 .
12 ชิ้นของจาน


รูปที่ 8.19 คิดตัวเลือก . กระบวนการของจานขัดแต่ง




รูปที่เลือก 4 . การวิเคราะห์เชิงวิเคราะห์ / ตัก
บดเชิงเส้นทางประเภทภายใต้ที่แตกต่างกันค่า n
ห่อหุ้มการขัดแบบ N ให้คุณค่าหลายเพื่อแสดงถึงการเคลื่อนที่สัมพัทธ์ระหว่างจานขัดชิ้นงานและผู้ถือ มันแสดงถึงอัตราส่วนของการปฏิวัติของชิ้นงานขนส่งยึดกับการปฏิวัติของจานขัด . ในกระบวนการผลิตชิ้นงานยึดหมุนไม่ได้รอบศูนย์ของตัวเองใน W2แต่ยังมีรอบจานขัดกลางที่ความเร็วเท่ากับความเร็วรอบของจานขัด W1 . แบบรายละเอียดของงาน 1 n :
สมการ ( 1 )



ที่ W1 เปิด mathjaxon คือความเร็วรอบของจานขัด และ W2 คือความเร็วรอบของชิ้นงาน
ผู้ให้บริการ ผู้ถือเส้นทาง ลักษณะแบบ ชิ้นงานจุดศูนย์ครอบคลุมเป็นฟังก์ชันของความเร็วรอบสัดส่วน N สืบสวนทั้งในทิศทางเดียวกันและตรงข้ามกับที่ของจานขัด .
โต๊ะ 8.3 แสดงประเภทเส้นทางลักษณะเมื่อประมาณค่าของ n มีขนาดใหญ่กว่า 1 ลบหมายถึงการปฏิวัติยึดชิ้นงานและจานขัดอยู่ในทิศทางที่แตกต่างกันตารางนี้แสดงให้เห็นว่าการเมืองประเภทของชิ้นงานแตกต่างจากความเร็วในการหมุนเทียบอัตราส่วนระหว่างชิ้นงานและซัดใส่จาน สรุปสองสามารถทำตามได้ตามร่องรอย totable 8.3 :

1ร่องรอยที่ผลิตโดยเมล็ดเดียวคือ เอมี่ อดัมส์ เมื่อความเร็วรอบหมุน ส่วนชิ้นงานผู้ให้บริการถือไปเทียบกับจานขัดเป็นลบ หรือ ติดตาม คือ เป็นเอก รัตนเรือง .
2
เมื่ออัตราส่วนเพิ่มค่าบางอย่าง ร่องรอยเอพิไซคลอยด์จะ interlaced epicycloids ในขณะที่เป็นเอก รัตนเรืองติดตามการเปลี่ยนเป็น interlaced เป็นเอก รัตนเรือง , และ เป็นส่วนที่ได้รับขนาดใหญ่ร่องรอยแสดงตารางที่มีเงื่อนไข . . . .

kinematical 8.3 ร่องรอยของชิ้นงานเมื่อ W2 > W1

n = − 2 N = − 4 n = − 8 n = − 10
n = 2 n = 4 n = 8 n = 10

เมื่อความเร็วรอบการหมุนของจานขัดมากกว่าว่า ของชิ้นงานยึด , ขัดโดยเปลี่ยนสมการ ( 8.2 ) :




เปิด mathjaxon คล้ายกับตารางที่ 8.3 , ตารางที่ 84 แสดงประเภทเส้นทางลักษณะเมื่อค่าของ N สัมบูรณ์น้อยกว่า 1 ในกรณีเช่นนี้ ร่องรอยที่ผลิตโดยชิ้นงานเดี่ยวบ่งชี้ดังต่อไปนี้ :
1
ติดตามชนิดของชิ้นงานเป็นยืด เอมี่ อดัมส์ เมื่อองค์ประกอบทั้งสองหมุนในทิศทางเดียวกันหรือ .
2
ร่องรอยในประเทศทั้งสองกลายเป็นหนาแน่นเป็นสัดส่วนจะเล็กลง ตารางที่ 8.4

.kinematical ร่องรอยของชิ้นงานเมื่อ W1 > W2

n = − 2 N = − 4 n = − 8 n = − 10
n = 2 n = 4 n = 8 n = 10

เป็นปรากฏการณ์ทั่วไปที่สามารถเห็นได้จากสองสถานการณ์ : เมื่ออัตราส่วนมีขนาดใหญ่กว่า 1 , จํานวนของ intercepts ระหว่างการติดตามและนอกวงกลม หรือระหว่างการติดตามและวงในเท่ากับอัตราส่วนหมุนเร็ว มิฉะนั้นการตัดจำนวนเท่ากับค่าสัมบูรณ์ของอัตราส่วนลบหนึ่ง .
เชิงความสัมพันธ์ของล้อเพชร UV และเครื่องขัด
ตามเชิงประเภทที่กล่าวถึงก่อนหน้า ร่องรอยของชิ้นงานในกระบวนการบดหน้าในเครื่องห่อหุ้ม ศึกษาถึงอิทธิพลที่มีต่อเครื่องมือ abrasive และดังนั้นในเครื่องจักรอุตสาหกรรม
การห่อหุ้ม เครื่องจักรที่ใช้ในโครงการนี้ lapmaster 12 ( ดูรูปที่ 8.20 ) ความเร็วในการหมุนของจานขัดสามารถตั้งค่าหลาย การปฏิวัติของชิ้นงานยึดโดยไม่ต้องหรือมีแรงกดดันที่แตกต่างกันจะได้รับเมื่อเทียบกับความเร็วของบางจานขัด และความสัมพันธ์ของพวกเขาสามารถเห็นได้ infigure 8.20 8.21

รูป .

รูป lapmaster 12 ตัวเลือก

รูป 8.21 .
การปฏิวัติของชิ้นงานภายใต้แรงกดดันที่แตกต่างกัน .