Schematic overview of nanoimprint l

Schematic overview of nanoimprint lithography. The rigid master is usually prepared via e-beam lithography and has feature sizes in the 10–100
nm size range. After imprinting the polymer film, further etching can transfer the pattern into the underlying substrate. Alternatively, metal evaporation and
lift-off of the polymer mask produces nanopattern metal features

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพรวมแผนผังตัวอย่างของภาพพิมพ์หิน nanoimprint แบบแข็งมักจะเตรียมผ่านอีบีมภาพพิมพ์หิน และมีคุณลักษณะขนาด 10 – 100ช่วงขนาดนาโนเมตร หลังจาก imprinting ฟิล์มพอลิเมอร์ แกะสลักเพิ่มเติม สามารถโอนย้ายรูปแบบในขั้นต้น โลหะระเหยหรือ และlift-off รูปแบบพอลิเมอร์การสร้างคุณลักษณะโลหะ nanopattern

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพรวมของแผนผังของการพิมพ์หิน nanoimprint ต้นแบบแข็งได้จัดทำมักจะผ่านทาง e-พิมพ์หินลำแสงและมีคุณลักษณะในขนาด 10-100
นาโนเมตรช่วงขนาด หลังจาก imprinting ฟิล์มพอลิเมอ, แกะสลักยังสามารถถ่ายโอนรูปแบบการเข้าสู่พื้นผิวพื้นฐาน อีกวิธีหนึ่งคือการระเหยโลหะและ
ยกออกจากหน้ากากลิเมอร์ผลิตคุณสมบัติโลหะ nanopattern

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภาพรวมของแผนผังของ nanoimprint ภาพยนตร์จีน . เจ้านายเข้มงวดมักจะเตรียมผ่าน e-beam ภาพยนตร์จีน และมีคุณลักษณะขนาด 10 – 100
nm ขนาดช่วง หลังจากพิมพ์ฟิล์มโพลิเมอร์ , กัดเพิ่มเติมสามารถถ่ายโอนรูปแบบลงในต้นแบบหลากหลาย หรือโลหะที่ระเหยและ
ยกออกของพอลิเมอร์ คุณสมบัติ nanopattern หน้ากากผลิตโลหะ