a seed layer was formed by thermal

a seed layer was formed by thermal oxidation of a
sputtered W film on an indium-doped tin oxide (ITO)-coated glass substrate.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ชั้นเมล็ดก่อตั้งขึ้น โดยออกซิเดชันความร้อนของการsputtered W ฟิล์มบนการเจืออินเดียมทินออกไซด์ (ITO) -เคลือบผิวกระจก

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชั้นเมล็ดถูกสร้างขึ้นโดยการเกิดออกซิเดชันความร้อนของ
ฟิล์ม W sputtered ในอินเดียมเจือดีบุกออกไซด์ (ITO) พื้นผิวกระจกเคลือบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เมล็ดพันธุ์ชั้นถูกสร้างขึ้นโดยการออกซิเดชันทางความร้อนของsputtered W ภาพยนตร์ในอินเดียมทินออกไซด์ ( ITO ) - ด้วยแผ่นแก้วเคลือบ