DC deposition is limited primarily

DC deposition is limited primarily to targets of essentially
metallic composition. The deposition of insulating materials by
conventional dc presents obvious issues. Insulating targets cannot quickly
drain the positive charge and as a result, build up a surface charge of
positive ions on the front surface of the target. This positive sheath
repels most of the positive ions, preventing further bombardment and
deposition.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

DC สะสมถูกจำกัดเพื่อเป้าหมายของหลักบทประพันธ์โลหะ สะสมของฉนวนวัสดุโดยdc ปกติแสดงปัญหาที่ชัดเจน ฉนวนไม่เป้าหมายอย่างรวดเร็วท่อระบายน้ำค่าบวก และเป็นผล สร้างประจุพื้นผิวกันบนผิวหน้าของเป้าหมาย Sheath นี้บวกrepels ของกัน ป้องกันการระดมยิงต่อไป และสะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมซีส่วนใหญ่เป้าหมายหลักขององค์ประกอบโลหะ การสะสมของวัสดุฉนวนโดยทั่วไป dc นำเสนอประเด็นที่เห็นได้ชัด ฉนวนเป้าหมายได้อย่างรวดเร็วไม่สามารถระบายประจุบวกและเป็นผลให้สร้างขึ้นในค่าใช้จ่ายที่พื้นผิวของประจุบวกบนพื้นผิวด้านหน้าของเป้าหมาย นี้ฝักบวกไล่มากที่สุดของประจุบวก, การป้องกันการโจมตีต่อไปและการสะสม