The deposition rate in reactive spu

The deposition rate in reactive sputtering is significantly reduced when the target surface is oxidized

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อัตราการสะสมสปัตเตอร์ในการทำปฏิกิริยาจะลดลงอย่างมีนัยสำคัญเมื่อพื้นผิวเป้าหมายถูกออกซิไดซ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อัตราสะสมในปฏิกิริยาพ่นอย่างมีนัยสำคัญลดลงเมื่อมีการออกซิไดซ์ผิวเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อัตราคำให้การในเชิงรับเพื่อละล่ำละลักคือลดลงอย่างเห็นได้ชัดเมื่อพื้นที่เป้าหมายที่มีสองหน้าสลดผละจากกัน