Lithography in combination with an

Lithography in combination with an etching process based on substrates such as Ni or silicon wafers has been used in the design and fabrication of miniature or µ-SOFCs.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพพิมพ์หินร่วมกับกระบวนการกัดตามพื้นผิวเช่น Ni หรือซิลิคอนรับถูกใช้ในการออกแบบและประดิษฐ์ของจิ๋วหรือเขต SOFCs

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พิมพ์หินร่วมกับกระบวนการแกะสลักอยู่บนพื้นฐานของพื้นผิวเช่น Ni หรือซิลิคอนเวเฟอร์ถูกนำมาใช้ในการออกแบบและการผลิตขนาดเล็กหรือμ-SOFCs

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หินในการรวมกันกับกระบวนการกัดตามพื้นผิวเช่นผมหรือซิลิกอนเวเฟอร์ได้ถูกใช้ในการออกแบบและผลิตของจิ๋ว หรือµ - แบบ .