Residue 662 is located on loop 5 be

Residue 662 is located on loop 5 between the 5 sheet and 5
helix of domain A, which is interesting for the substrate interaction
and active site reactivity [4]. Substituting of this residue by Arg may
introduce two new hydrogen bonds with Q664 and T667 (Fig. 6B).
These two additional hydrogen bonds may interfere with the ability
of loop 5 to assist in catalysis through hydrogen bonding to the
substrate, thereby affecting the catalytic efficiency of the mutant.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สารตกค้าง 662 อยู่วนรอบที่ 5 ระหว่าง 5 แผ่นและ 5เกลียวของโดเมน A ซึ่งเป็นที่น่าสนใจสำหรับการโต้ตอบของพื้นผิวและเกิดปฏิกิริยาใช้ [4] การแทนที่ของสารตกค้างนี้โดยอาร์กิวเมนต์ของค่าอาจแนะนำพันธบัตรไฮโดรเจนใหม่สอง Q664 และ T667 (Fig. 6B)พันธบัตรไฮโดรเจนเพิ่มเติมเหล่านี้สองอาจส่งผลต่อความสามารถในของวง 5 เพื่อช่วยในการเร่งปฏิกิริยาโดยไฮโดรเจนยึดเพื่อการพื้นผิว จึงมีผลต่อประสิทธิภาพของ mutant ตัวเร่งปฏิกิริยา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สารตกค้าง 662 ตั้งอยู่บนห่วง 5 ระหว่าง 5 แผ่นและ 5
ใบหูของโดเมนซึ่งเป็นที่น่าสนใจสำหรับการทำงานร่วมกันพื้นผิวและการเกิดปฏิกิริยาใช้งานเว็บไซต์ [4]
ทดแทนสารตกค้างนี้โดย Arg
อาจแนะนำสองพันธะไฮโดรเจนใหม่ที่มีQ664 และ T667 (รูป. 6B).
ทั้งสองพันธะไฮโดรเจนเพิ่มเติมอาจรบกวนการทำงานที่มีความสามารถของวง 5 เพื่อช่วยในการเร่งปฏิกิริยาผ่านพันธะไฮโดรเจนกับพื้นผิวจึงมีผลต่อตัวเร่งปฏิกิริยาประสิทธิภาพของการกลายพันธุ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กากแล้วตั้งอยู่บนห่วง 5 ระหว่าง  5 แผ่น และ  5
เกลียวของโดเมน ซึ่งเป็นที่น่าสนใจสำหรับการโต้ตอบและใช้งานเว็บไซต์ (
2 [ 4 ] แทนของกากนี้ไม่ดีอาจ
แนะนำสองใหม่และพันธะไฮโดรเจนกับ q664 t667 ( ภาพบน )
2 เพิ่มเติมพันธะไฮโดรเจนอาจรบกวนความสามารถ
วง 5 เพื่อช่วยในการเร่งปฏิกิริยาด้วยพันธะไฮโดรเจนกับ
ตั้งต้น จึงมีผลต่อประสิทธิภาพการเร่งปฏิกิริยาของพวกกลายพันธุ์