In particular, die ridges formed on

In particular, die ridges formed on the discharge craters determine the MRR of the material. Figure 6 lists the results concerning the rapidly resolidified layer following EDM under a specified EDM condition, pulse duration: 350. Figures 6(a)-(d) display the EDMed surfaces of specimens with the hypoeutectic composition in which die microstructure contains acicular eutectic silicon particles. Figures 6(e) - (h) display the EDMed surfaces of specimens in which the microstructure contains rod-like and massive primary silicon particles.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โดยเฉพาะอย่างยิ่ง สันเขาตายที่เกิดขึ้นบนลังปล่อยกำหนด MRR ของวัสดุ รูปที่ 6 แสดงผลเกี่ยวกับชั้น resolidified อย่างรวดเร็วต่อ EDM ภายใต้เงื่อนไขการระบุ EDM ชีพจรระยะเวลา: 350 ตัวเลขแสดง 6(a)-(d) EDMed พื้นผิวของไว้เป็นตัวอย่างกับองค์ประกอบ hypoeutectic ในที่ตายต่อโครงสร้างจุลภาคประกอบด้วยซิลิคอน acicular eutectic อนุภาค ตัวเลข 6(e) - จอแสดงผล (h) EDMed พื้นผิวของอนุภาคซิลิกอนหลักใหญ่และไว้เป็นตัวอย่างในการต่อโครงสร้างจุลภาคจะประกอบด้วยแกนเหมือน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยเฉพาะอย่างยิ่งแนวตายเกิดขึ้นบนหลุมปล่อยกำหนด MRR ของวัสดุ รูปที่ 6 รายการผลการเกี่ยวกับชั้นก้อนที่ละลายอย่างรวดเร็วต่อไปนี้ EDM ภายใต้เงื่อนไขที่ระบุไว้ EDM ระยะเวลาชีพจร: 350 ตัวเลข 6 (ก) - (ง) แสดงพื้นผิวของตัวอย่าง EDMed กับองค์ประกอบ hypoeutectic ที่ตายจุลภาคมีซิลิกอนยูเทคติกเข็ม อนุภาค รูปที่ 6 (จ) - (ซ) แสดงพื้นผิวของตัวอย่าง EDMed ซึ่งจุลภาคมีก้านเหมือนและขนาดใหญ่อนุภาคซิลิกอนหลัก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยเฉพาะตายร่องที่เกิดขึ้นออกจากหลุมตรวจสอบสูงสุดของวัสดุ รูปที่ 6 แสดงผลเกี่ยวกับอย่างรวดเร็ว resolidified ชั้นต่อไปภายใต้เงื่อนไขที่กำหนดด้วย EDM , ระยะเวลาชีพจร : 350 เลข 6 ( ) - ( D ) แสดง edmed พื้นผิวของชิ้นงาน ด้วยองค์ประกอบของไฮโปยูเทคติกที่ตาย โครงสร้างประกอบด้วยเข็มเทคติคซิลิคอนอนุภาคเลข 6 ( E ) - ( H ) แสดง edmed พื้นผิวของชิ้นงาน ซึ่งโครงสร้างประกอบด้วยเหล็กและหลักใหญ่เช่นซิลิคอนอนุภาค