2.2. Coating preparation The coatin

2.2. Coating preparation
The coatings were prepared by the low power plasma spraying system with Ar and N2 as plasma gases at a flow rate of 20 and 2 standard liters per minute (slpm), respectively. More details about the spraying parameters were shown in Table 1. The sprayed coatings with the thickness around 3 mm were produced on graphite substrates. After APS deposition, they were mechanically scratched from the substrates and thermally annealed at 300, 500, 900 ◦C in air and at 900 ◦C vacuum atmosphere. The heating rate and annealing time were fixed as 10 ◦C/min and 5 h, respectively. The composition of raw materials and annealing conditions are shown in Table 2.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

2.2. เคลือบเตรียม ณเคลือบพลาสม่าพลังงานต่ำฉีดพ่นระบบ Ar และ N2 เป็นก๊าซพลาสมาที่อัตราการไหล 20 และ 2 มาตรฐานลิตรต่อนาที (slpm), ตามลำดับ รายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับพารามิเตอร์การฉีดพ่นถูกแสดงในตารางที่ 1 มีผลิตพ่นเคลือบ มีความหนาประมาณ 3 มม.บนพื้นผิวของกราไฟท์ หลังจากสะสม APS พวกเขามีรอยขีดข่วนจากพื้นผิวกลไก และอบความร้อนที่ 300, 500, 900 ◦C ในอากาศ และบรรยากาศสูญญากาศ ◦C 900 ราคาเครื่องทำความร้อนและการหลอมครั้งได้รับการแก้ไขเป็น 10 นาที ◦C และ 5 h ตามลำดับ องค์ประกอบของวัตถุดิบและหลอมเงื่อนไขจะแสดงในตารางที่ 2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.2 การเตรียมความพร้อมการเคลือบผิว
เคลือบถูกจัดทำขึ้นโดยพลาสม่าพลังงานต่ำระบบที่มี Ar และ N2 เป็นก๊าซพลาสมาฉีดพ่นในอัตราการไหลของ 20 และ 2 ลิตรต่อนาทีมาตรฐาน (SLPM) ตามลำดับ รายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับพารามิเตอร์การฉีดพ่นที่แสดงในตารางที่ 1 เคลือบพ่นด้วยความหนาประมาณ 3 มิลลิเมตรผลิตบนพื้นผิวไฟท์ หลังจาก APS ทับถมพวกเขามีรอยขีดข่วนกลจากพื้นผิวและอบความร้อนที่ 300, 500, 900 ◦Cในอากาศและบรรยากาศที่ 900 ◦Cสูญญากาศ เวลาที่อัตราความร้อนและการอบได้รับการแก้ไขเป็น 10 ◦C / นาทีและ 5 ชั่วโมงตามลำดับ องค์ประกอบของวัสดุและเงื่อนไขการหลอมดิบจะแสดงในตารางที่ 2