3.1.2. Optical emission spectroscopy and plasma parametersFig. 6 (a) d การแปล - 3.1.2. Optical emission spectroscopy and plasma parametersFig. 6 (a) d ไทย วิธีการพูด

3.1.2. Optical emission spectroscop

3.1.2. Optical emission spectroscopy and plasma parameters
Fig. 6 (a) depicts the emission spectra of the glow discharge in 80%
H2+20% Ar and for the gas mixture containing 1.00% CH4. The spectra
present atomic emission lines of Ar and H, and molecular bands of
H2. The identification was done according to [28,29] and spectra are
similar to that presented by [30,31] in ArH2 and H2 discharges, respectively.
The addition of 1.00% CH4 in the glow discharge does not
imply in the appearance of new peaks or molecular bands due to
CH4, at least at sufficient intensity. So in the studied condition, the optical
emission spectroscopy cannot be applied to the process control,
as proposed by [32] for high temperature plasma carburizing.
Nevertheless, it is clear that the introduction of CH4 causes a global
reduction on the intensity of the peaks. In Fig. 6 (b) a detail of some
intense Ar and H atomic lines is presented. It can be noticed that
adding CH4 up to 0.50%, a reduction of the emission intensity is verified.
On the other hand, adding CH4 from 0.50 up to 1.00%, the intensity
reduction becomes insignificant.
As show in Fig. 7, it is necessary to increase tON to keep the treatment
temperature when additional CH4 is added to the gas mixture.
The RMS current remains approximately constant as expected, since
to keep the same temperature, the same mean power must be delivered
to the glow discharge. Considering that the excitation occurs
mainly be electron impact, the emission intensity reduction could
be attributed to a reduction on the plasma electron density and/or
0/5000
จาก: -
เป็น: -
ผลลัพธ์ (ไทย) 1: [สำเนา]
คัดลอก!
3.1.2. Optical emission spectroscopy and plasma parametersFig. 6 (a) depicts the emission spectra of the glow discharge in 80%H2+20% Ar and for the gas mixture containing 1.00% CH4. The spectrapresent atomic emission lines of Ar and H, and molecular bands ofH2. The identification was done according to [28,29] and spectra aresimilar to that presented by [30,31] in ArH2 and H2 discharges, respectively.The addition of 1.00% CH4 in the glow discharge does notimply in the appearance of new peaks or molecular bands due toCH4, at least at sufficient intensity. So in the studied condition, the opticalemission spectroscopy cannot be applied to the process control,as proposed by [32] for high temperature plasma carburizing.Nevertheless, it is clear that the introduction of CH4 causes a globalreduction on the intensity of the peaks. In Fig. 6 (b) a detail of someintense Ar and H atomic lines is presented. It can be noticed thatadding CH4 up to 0.50%, a reduction of the emission intensity is verified.On the other hand, adding CH4 from 0.50 up to 1.00%, the intensityreduction becomes insignificant.As show in Fig. 7, it is necessary to increase tON to keep the treatmenttemperature when additional CH4 is added to the gas mixture.The RMS current remains approximately constant as expected, sinceto keep the same temperature, the same mean power must be deliveredto the glow discharge. Considering that the excitation occursmainly be electron impact, the emission intensity reduction couldbe attributed to a reduction on the plasma electron density and/or
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 2:[สำเนา]
คัดลอก!
3.1.2 สเปกโทรสโกการปล่อยแสงและพลาสม่าพารามิเตอร์
รูป 6 (ก) แสดงให้เห็นถึงการปล่อยสเปกตรัมของการปล่อยเรืองแสงใน 80%
H2 + 20% เท่และก๊าซผสมที่มี 1.00% CH4 สเปกตรัม
ปัจจุบันสายการปล่อยก๊าซเรือนกระจกของอะตอมเท่นและเอชและวงดนตรีระดับโมเลกุลของ
H2 บัตรประจำตัวที่ทำตาม [28,29] และสเปกตรัมเป็น
แบบเดียวกับที่นำเสนอโดย [30,31] ใน Ar H2 H2 และปล่อยตามลำดับ.
นอกเหนือจาก 1.00% ในการปฏิบัติ CH4 เรืองแสงไม่ได้
บ่งบอกในลักษณะที่ปรากฏ ของยอดเขาใหม่หรือวงดนตรีที่โมเลกุลเนื่องจาก
CH4 อย่างน้อยในความเข้มเพียงพอ ดังนั้นในสภาพการศึกษา, ออปติคอล
สเปกโทรสโกการปล่อยก๊าซไม่สามารถนำไปใช้กับการควบคุมกระบวนการ
ที่เสนอโดย [32] สำหรับอุณหภูมิสูง carburizing พลาสม่า.
แต่มันเป็นที่ชัดเจนว่าการแนะนำของ CH4 ทำให้ทั่วโลก
ลดความเข้มของยอดเขา . ในรูป 6 (ข) รายละเอียดของบางอย่าง
เท่และรุนแรง H เส้นอะตอมจะนำเสนอ ก็สามารถที่จะสังเกตเห็นว่า
การเพิ่ม CH4 ถึง 0.50% การลดลงของความเข้มการปล่อยก๊าซที่มีการยืนยัน.
ในทางกลับกันการเพิ่ม CH4 จาก 0.50 ถึง 1.00% ความเข้ม
ลดลงกลายเป็นที่ไม่มีนัยสำคัญ.
ในฐานะที่แสดงในรูป 7 ก็เป็นสิ่งจำเป็นที่จะเพิ่มขึ้นตันเพื่อให้การรักษาที่
อุณหภูมิเมื่อ CH4 เพิ่มเติมจะถูกเพิ่มส่วนผสมของก๊าซ.
ปัจจุบันอาร์ยังคงประมาณคงที่ตามที่คาดไว้เนื่องจาก
การรักษาอุณหภูมิเดียวกันพลังงานเฉลี่ยเดียวกันจะต้องถูกส่ง
ไปปล่อยเรืองแสง . พิจารณาว่าการกระตุ้นที่เกิดขึ้น
ส่วนใหญ่เป็นผลกระทบอิเล็กตรอนลดความเข้มการปล่อยก๊าซสามารถ
นำมาประกอบกับการลดความหนาแน่นของอิเล็กตรอนพลาสม่าและ / หรือ
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 3:[สำเนา]
คัดลอก!
3.1.2 . สเปกโทรสโกปีแสงเล็ดรอดและพลาสมาพารามิเตอร์
รูปที่ 6 ( ) แสดงให้เห็นการปล่อยสเปกตรัมของแสงจำหน่ายใน 80 %
% H2 20 AR และแก๊สผสมที่ประกอบด้วย 1.00% ร่าง . สเปกตรัมเส้นเปล่งแสง AR
ปัจจุบันอะตอมและโมเลกุล H และวงดนตรี
H2 . การกระทำตาม 28,29 ] และ [ สเปกตรัมเป็น
คล้ายกับที่นำเสนอโดย [ 30,31 ] ใน H2 AR และ discharges H2 ,2 .
เพิ่ม 1.00% ในร่างเรืองแสงปลดไม่ได้
บ่งบอกในลักษณะใหม่ของยอด หรือกลุ่มโมเลกุลเนื่องจาก
ร่างน้อยที่ความเข้มเพียงพอ ดังนั้นในการศึกษาสภาพแสง
ปล่อยสเปกโทรสโกปีไม่สามารถใช้เพื่อควบคุมกระบวนการ
ตามที่เสนอโดย [ 32 ] สำหรับ Carburizing พลาสมาอุณหภูมิสูง .
อย่างไรก็ตามเป็นที่ชัดเจนว่าสาเหตุเบื้องต้นของร่างการทั่วโลก
บนความเข้มของยอดเขา ในรูปที่ 6 ( ข ) รายละเอียดของบาง
เข้ม AR และ H สายอะตอมคือแสดง มันอาจจะสังเกตเห็นว่าร่าง
เพิ่มถึง 0.50% , การลดลงของการเข้มตรวจสอบ .
บนมืออื่น ๆ , การเพิ่มร่างตั้งแต่ 0.50 ถึง 1.00 % ความเข้ม

ลดกลายเป็นเล็กน้อย ตามที่แสดงในรูปที่ 7มันเป็นสิ่งที่จำเป็นเพื่อเพิ่มตันเพื่อรักษาอุณหภูมิร่างการรักษา
เมื่อเพิ่มกับแก๊สผสม
RMS ปัจจุบันยังคงประมาณคงที่ตามที่คาดไว้ เนื่องจาก
เพื่อรักษาอุณหภูมิเดียวกัน พลังหมายถึงเดียวกันจะต้องส่ง
การเรืองแสงปล่อย พิจารณาว่า ความตื่นเต้นเกิดขึ้น
ส่วนใหญ่เป็นอิเล็กตรอนที่มีการปล่อยความเข้มลดลงอาจ
จะเกิดจากการลดความหนาแน่นของอิเล็กตรอนในพลาสมา และ / หรือ
การแปล กรุณารอสักครู่..
 
ภาษาอื่น ๆ
การสนับสนุนเครื่องมือแปลภาษา: กรีก, กันนาดา, กาลิเชียน, คลิงออน, คอร์สิกา, คาซัค, คาตาลัน, คินยารวันดา, คีร์กิซ, คุชราต, จอร์เจีย, จีน, จีนดั้งเดิม, ชวา, ชิเชวา, ซามัว, ซีบัวโน, ซุนดา, ซูลู, ญี่ปุ่น, ดัตช์, ตรวจหาภาษา, ตุรกี, ทมิฬ, ทาจิก, ทาทาร์, นอร์เวย์, บอสเนีย, บัลแกเรีย, บาสก์, ปัญจาป, ฝรั่งเศส, พาชตู, ฟริเชียน, ฟินแลนด์, ฟิลิปปินส์, ภาษาอินโดนีเซี, มองโกเลีย, มัลทีส, มาซีโดเนีย, มาราฐี, มาลากาซี, มาลายาลัม, มาเลย์, ม้ง, ยิดดิช, ยูเครน, รัสเซีย, ละติน, ลักเซมเบิร์ก, ลัตเวีย, ลาว, ลิทัวเนีย, สวาฮิลี, สวีเดน, สิงหล, สินธี, สเปน, สโลวัก, สโลวีเนีย, อังกฤษ, อัมฮาริก, อาร์เซอร์ไบจัน, อาร์เมเนีย, อาหรับ, อิกโบ, อิตาลี, อุยกูร์, อุสเบกิสถาน, อูรดู, ฮังการี, ฮัวซา, ฮาวาย, ฮินดี, ฮีบรู, เกลิกสกอต, เกาหลี, เขมร, เคิร์ด, เช็ก, เซอร์เบียน, เซโซโท, เดนมาร์ก, เตลูกู, เติร์กเมน, เนปาล, เบงกอล, เบลารุส, เปอร์เซีย, เมารี, เมียนมา (พม่า), เยอรมัน, เวลส์, เวียดนาม, เอสเปอแรนโต, เอสโทเนีย, เฮติครีโอล, แอฟริกา, แอลเบเนีย, โคซา, โครเอเชีย, โชนา, โซมาลี, โปรตุเกส, โปแลนด์, โยรูบา, โรมาเนีย, โอเดีย (โอริยา), ไทย, ไอซ์แลนด์, ไอร์แลนด์, การแปลภาษา.

Copyright ©2025 I Love Translation. All reserved.

E-mail: