Dispense some of this solution onto

Dispense some of this solution onto a silicon or glass substrate to cover roughly 75% of the surface, and spin coat at 4,000 r.p.m. for 40 s to generate a uniform film of 100-nm thickness.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ป้ายสินค้าของโซลูชันนี้ลงบนพื้นผิวที่ซิลิคอนหรือแก้วครอบคลุมประมาณ 75% ของพื้นผิว และหมุนตราที่ 4000 รอบต่อนาที. สำหรับ 40 s เพื่อสร้างฟิล์มที่สม่ำเสมอของความหนา 100 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จ่ายบางส่วนของการแก้ปัญหานี้บนซิลิกอนหรือพื้นผิวแก้วที่จะครอบคลุมประมาณ 75% ของพื้นผิวและหมุนเสื้อที่ 4,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 40 วินาทีในการสร้างภาพยนตร์เรื่องนี้เหมือนกันมีความหนา 100 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ให้บางส่วนของโซลูชั่นนี้ลงบนแผ่นซิลิคอนหรือแก้วครอบคลุมประมาณ 75% ของพื้นผิวและหมุนเสื้อใน 4000 r.p.m. 40 s เพื่อสร้างชุดของฟิล์มหนา 100 นาโนเมตร