SU-8 is a negative photoresist base

SU-8 is a negative photoresist based on EPON SU-8 epoxy resin for the near-UV
wavelengths from 365 nm to 436 nm. At these wavelengths the photoresist has very
low optical absorption, which makes photolithography of thick films with high aspect

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

SU-8 เป็น photoresist ลบที่ใช้เรซินแบบ EPON SU-8 สำหรับการใกล้-UVความยาวคลื่นจาก 365 nm ไป 436 nm ความยาวคลื่นเหล่านี้ photoresist มีมากดูดซึมแสงต่ำ ทำ photolithography ฟิล์มหนาด้วยกว้างยาวสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

SU-8 เป็น photoresist เชิงลบขึ้นอยู่กับ EPON SU-8
อีพอกซีเรซินสำหรับที่อยู่ใกล้รังสียูวีความยาวคลื่น365 นาโนเมตรจาก 436 นาโนเมตร ในช่วงความยาวคลื่น photoresist
เหล่านี้มีมากดูดกลืนแสงที่ต่ำซึ่งจะทำให้photolithography ของภาพยนตร์หนากับแง่มุมสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

SU-8 เป็นระบบลบจากอีพอกซีเรซินเกรดสำหรับ SU-8 wavelengths ยูวี
ใกล้จาก 365 nm ถึง 410 นาโนเมตร ที่ความยาวคลื่นระบบเหล่านี้มีมาก
ต่ำการดูดซึมแสงซึ่งทำให้ 43 ของฟิล์มหนา กับด้านสูง