Cathodic Arc Deposition: In which a

Cathodic Arc Deposition: In which a high-power electric arc discharged at the target (source) material blasts away some into highly ionized vapor to be deposited onto the workpiece.
Electron beam physical vapor deposition: In which the material to be deposited is heated to a high vapor pressure by electron bombardment in "high" vacuum and is transported by diffusion to be deposited by condensation on the (cooler) workpiece.
Evaporative deposition: In which the material to be deposited is heated to a high vapor pressure by electrical resistance heating in "high" vacuum.[6][7]
Pulsed laser deposition: In which a high-power laser ablates material from the target into a vapor.
Sputter deposition: In which a glow plasma discharge (usually localized around the "target" by a magnet) bombards the material sputtering some away as a vapor for subsequent deposition.
Sublimation sandwich method: Used for creating man-made crystals.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Cathodic Arc สะสม: ในการอาร์คไฟฟ้ากำลังสูงซึ่ง ปล่อยที่เป้าหมาย (แหล่ง) วัสดุ blasts ห่าง บางเข้าสูงแตกตัวเป็นไอออนไอที่จะฝากลงบนชิ้นงานสะสมไอจริงลำแสงอิเล็กตรอน: ซึ่ง วัสดุที่จะฝากร้อนทำให้ความดันไอสูง โดยระดมยิงอิเล็กตรอนในสุญญากาศ "สูง" และจะถูกส่ง โดยการแพร่จะนำฝาก โดยควบแน่นบนชิ้นงาน (เย็น)ฯลฯ สะสม: ในซึ่ง วัสดุที่จะฝากร้อนทำให้ความดันไอสูงโดยความต้านทานไฟฟ้าความร้อนในสุญญากาศ "สูง" [6] [7]พร้อมสะสมเลเซอร์: ซึ่งเลเซอร์กำลังแรงสูง ablates วัสดุจากเป้าหมายไปเป็นไอSputter สะสม: ซึ่งการปล่อยพลาเรืองแสง (มักจะเป็นภาษาท้องถิ่นรอบ "เป้าหมาย" โดยแม่เหล็ก) bombards วัสดุสปัตเตอร์บางส่วนออกไปเป็นไอสำหรับสะสมตามมาระเหิดแซนด์วิชวิธี: ใช้สำหรับการสร้างผลึกที่มนุษย์สร้างขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Cathodic Arc ทับถม: ซึ่งเป็นพลังงานสูงอาร์คไฟฟ้าออกจากโรงพยาบาลไปที่เป้าหมาย (ต้นฉบับ) เปลืองวัสดุออกไปบางส่วนเป็นไอไอออนอย่างมากที่จะนำมาฝากลงบนชิ้นงาน.
ลำแสงอิเล็กตรอนสะสมไอทางกายภาพซึ่งวัสดุที่นำมาฝากเป็นความร้อน ความดันไอสูงโดยการโจมตีของอิเล็กตรอนในสุญญากาศ "สูง" และจะถูกส่งโดยการแพร่นำมาฝากกันจากการควบแน่นบน (เย็น) ชิ้นงาน.
ทับถมระเหย: ซึ่งวัสดุที่นำมาฝากเป็นความร้อนที่มีความดันไอสูงโดยการต้านทานความร้อนไฟฟ้า ในสูญญากาศ "สูง" [6] [7].
ทับถม Pulsed เลเซอร์ซึ่งเป็นเลเซอร์พลังงานสูง ablates วัสดุจากเป้าหมายลงในไอ.
Sputter ทับถม: ซึ่งเป็นประกายพลาสม่า (โดยปกติจะมีการแปลไปรอบ ๆ "เป้าหมาย" โดย แม่เหล็ก) ยั้งวัสดุสปัตเตอร์บางส่วนออกไปเป็นไอทับถมตามมา.
วิธีการระเหิดแซนวิช: ใช้สำหรับการสร้างผลึกที่มนุษย์สร้างขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การกัดกร่อน Arc : ซึ่งสูงอาร์คไฟฟ้าไปที่เป้าหมาย ( แหล่ง ) วัสดุระเบิดออกไปบางส่วนในรุ่นสูง ไอน้ำจะฝากลงบนชิ้นงานลำแสงอิเล็กตรอนสะสมไอทางกายภาพ : ซึ่งในวัสดุจะฝาก คือ ความร้อนจะสูงความดันไอโจมตีโดยอิเล็กตรอนใน " สุญญากาศ " และจะขนส่งโดยการแพร่กระจายที่จะฝากจากการควบแน่น ( เย็น ) บนชิ้นงานการระเหยสะสม : ซึ่งในวัสดุจะฝาก คือ ความร้อนจะสูงความดันไอโดยความต้านทานความร้อนใน " สุญญากาศ " [ 6 ] [ 7 ]การสะสม : เลเซอร์ที่พลังงานสูง เลเซอร์ ablates วัสดุจากเป้าหมายลงในไอน้ำละล่ำละลักคำให้การของพยานในที่แสงพลาสม่าจำหน่าย ( โดยปกติถิ่นรอบ ๆ " เป้าหมาย " โดยแม่เหล็ก ) ระเบิดวัสดุสบางส่วนไปเป็นไอน้ำสำหรับภายหลังการวิธีแซนวิชระเหิด : ใช้สำหรับสร้างผลึกธรรมชาติ