Prior to the deposition of SiOx, al

Prior to the deposition of SiOx, all of the substrate films were plasma treated using oxygen gas with a flow rate of 20 sccm

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ก่อนสะสมของ SiOx ฟิล์มพื้นผิวทั้งหมดได้รับก๊าซออกซิเจนด้วยอัตราการไหลของ 20 sccm พลาสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ก่อนที่จะมีการสะสมของ SiOx ทั้งหมดของภาพยนตร์พื้นผิวที่ถูกพลาสม่าได้รับการรักษาโดยใช้ก๊าซออกซิเจนที่มีอัตราการไหลของ 20 SCCM

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ก่อนที่จะมีการสะสมของ siox ทุกพื้นผิวฟิล์มพลาสมาถือว่าใช้แก๊สออกซิเจนที่มีอัตราการไหล 20 sccm