The gooey photo resist is completel

The gooey photo resist is completely dissolved by a solvent. This reveals a pattern of photo resist made by the mask.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ต่อต้านภาพ gooey จะสังเกต โดยเป็นตัวทำละลาย นี้พบว่า รูปแบบของการต่อต้านภาพโดยรูปแบบการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพเหนอะหนะต่อต้านละลายอย่างสมบูรณ์โดยตัวทำละลาย นี้แสดงให้เห็นรูปแบบของภาพต่อต้านทำโดยหน้ากาก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปถ่ายเหนียวเหนอะหนะต่อต้านเป็นสมบูรณ์ละลายด้วยตัวทำละลาย นี้แสดงรูปแบบของภาพถ่ายต่อต้านโดยหน้ากาก