Sputtering, like evaporation, is pe

Sputtering, like evaporation, is performated in a vacuum chamber. The source material and the substrate (wafer) and placed on opposing parallel plates connected to a high-voltage power supply as pictured in Fig.4.13

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สปัตเตอร์ เช่นระเหย performated ในห้องสุญญากาศได้ แหล่งวัสดุ และพื้นผิว (เวเฟอร์) และวางไว้บนแผ่นขนานตรงข้ามเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน Fig.4.13

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์เช่นการระเหยเป็น performated ในห้องสูญญากาศ วัสดุแหล่งที่มาและสารตั้งต้น (เวเฟอร์) และวางตรงข้ามแผ่นขนานเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน Fig.4.13

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สปัตเตอร์ริง เช่น การระเหย คือ performated ในสูญญากาศ . แหล่งวัสดุและพื้นผิว ( wafer ) และวางไว้บนจานตรงข้ามขนานเชื่อมต่อกับแหล่งจ่ายไฟแรงดันสูงเป็นภาพใน fig.4.13