In this research a relatively large area of nano-hole arrays is recons การแปล - In this research a relatively large area of nano-hole arrays is recons ไทย วิธีการพูด

In this research a relatively large

In this research a relatively large area of nano-hole arrays is reconstructed in 3D and the surface properties computed from the DEM are analysed as shown in Table 1. The results show that two kinds of imperfections make the surface different from the ideal shape. First, the surface has a wavy shape with peaks and valleys which cannot be detected using a single SEM image. Valleys are due to the embedment of nanospheres to the photoresist by dozens of nanometres. This is obtained from the comparison of nanosphere’s diameter and the height difference between top surface of nanospheres and the bottom surface, which is presented in Fig. 5. In addition to the waviness of the surface, some areas are up and down which could be a result of uneven UV exposure in the fabrication process. These ups and downs are illustrated in Fig. 6. These two kinds of imperfections are likely to have influence to subsequent nano-manufacturing processes, especially to nanoimprinting. In nano-imprinting, an uneven surface will cause uneven pressure and result in uneven patterns. The irregularities of the master will also be copied to the subsequent products. These problems will effectively compromise the quality of subsequent fabrication.
0/5000
จาก: -
เป็น: -
ผลลัพธ์ (ไทย) 1: [สำเนา]
คัดลอก!
ในงานวิจัยนี้เป็นเชิดพื้นที่ขนาดค่อนข้างใหญ่ของอาร์เรย์นาโนหลุมใน 3D และคุณสมบัติผิวคำนวณจาก DEM มี analysed ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลลัพธ์แสดงว่า สองชนิดของข้อบกพร่องทำให้ผิวที่แตกต่างจากรูปร่างเหมาะ ก่อน พื้นผิวมีรูปร่างหยัก ด้วยยอดเขาและหุบเขาซึ่งไม่พบการใช้ SEM ภาพเดียว หุบเขาเนื่องจาก embedment ของ nanospheres เพื่อ photoresist nanometres ด้วยได้ นี้ได้รับมาจากการเปรียบเทียบของ nanosphere เส้นผ่าศูนย์กลางและความแตกต่างสูงระหว่างผิวด้านบนของ nanospheres และพื้นผิวล่าง ซึ่งนำเสนอใน Fig. 5 นอกจาก waviness ของพื้นผิว บางพื้นที่จะขึ้น และ ลงซึ่งอาจเป็นผลของรังสีที่ไม่สม่ำเสมอในกระบวนการผลิต ดอน ๆ เหล่านี้ดังรายละเอียดใน Fig. 6 ข้อบกพร่องต่าง ๆ เหล่านี้ทั้งสองมีแนวโน้มที่มีอิทธิพลต่อการต่อนาโนกระบวนการผลิต โดยเฉพาะอย่างยิ่งกับ nanoimprinting ในนาโน-imprinting พื้นผิวไม่สม่ำเสมอจะทำให้เกิดความดันที่ไม่สม่ำเสมอ และทำให้ลายไม่สม่ำเสมอ ความผิดปกติของต้นแบบจะถูกคัดลอกสินค้าภายหลัง ปัญหาเหล่านี้จะมีประสิทธิภาพประนีประนอมคุณภาพของผลิตตามมา
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 2:[สำเนา]
คัดลอก!
ในงานวิจัยนี้มีพื้นที่ค่อนข้างใหญ่ของอาร์เรย์นาโนหลุมสร้างขึ้นใหม่ในแบบ 3 มิติและคุณสมบัติพื้นผิวที่คำนวณจาก DEM มีการวิเคราะห์ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลปรากฏว่าสองชนิดของความไม่สมบูรณ์ทำให้พื้นผิวที่แตกต่างจากรูปทรงที่เหมาะ ก่อนที่พื้นผิวมีรูปร่างหยักกับยอดเขาและหุบเขาซึ่งไม่สามารถตรวจพบโดยใช้ภาพ SEM เดียว หุบเขาเนื่องจากการฝังของ nanospheres เพื่อ photoresist โดยหลายสิบนาโนเมตร นี้จะได้รับจากการเปรียบเทียบของเส้นผ่านศูนย์กลาง Nanosphere และแตกต่างความสูงระหว่างพื้นผิวด้านบนของ nanospheres และพื้นผิวด้านล่างซึ่งเป็นการนำเสนอในรูป 5. นอกจาก waviness ของพื้นผิวที่บางพื้นที่มีขึ้นและลงซึ่งอาจจะเป็นผลมาจากการสัมผัสรังสียูวีที่ไม่สม่ำเสมอในขั้นตอนการประดิษฐ์ อัพและดาวน์เหล่านี้จะแสดงให้เห็นในรูป 6. ทั้งสองชนิดไม่สมบูรณ์มีแนวโน้มที่จะมีอิทธิพลต่อกระบวนการผลิตนาโนที่ตามมาโดยเฉพาะอย่างยิ่ง nanoimprinting ในนาโนประทับ, ผิวไม่สม่ำเสมอจะทำให้เกิดความดันไม่สม่ำเสมอและผลในรูปแบบที่ไม่สม่ำเสมอ ความผิดปกติของต้นแบบก็จะถูกคัดลอกไปยังผลิตภัณฑ์ที่ตามมา ปัญหาเหล​​่านี้ได้อย่างมีประสิทธิภาพจะมีผลต่อคุณภาพของการผลิตที่ตามมา
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 3:[สำเนา]
คัดลอก!
ในการวิจัยนี้มีพื้นที่ที่ค่อนข้างใหญ่ของรูเรย์ นาโน คือสร้างใน 3 มิติและคุณสมบัติของพื้นผิวที่คำนวณจาก DEM มีการวิเคราะห์ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลที่ได้แสดงให้เห็นว่าสองชนิดที่ไม่สมบูรณ์ทำให้พื้นผิวแตกต่างจากรูปร่างในอุดมคติ ครั้งแรก พื้นผิวมีรูปร่างหยักด้วยยอดเขาและหุบเขาซึ่งไม่สามารถตรวจพบการใช้ภาพแบบเดียวหุบเขาเนื่องจากการฝังตัวของ nanospheres กับระบบโดยนับสิบนาโนเมตร . นี้จะได้รับจากการ nanosphere เส้นผ่าศูนย์กลางและความสูงระหว่างพื้นผิวด้านบนของ nanospheres และพื้นผิวด้านล่าง ซึ่งได้แสดงไว้ในรูปที่ 5 นอกจากจะเป็นคลื่นของพื้นผิวบางพื้นที่มีขึ้นและลง ซึ่งอาจเป็นผลจากแสง UV ไม่สม่ำเสมอในกระบวนการผลิต ups และดาวน์ในรูปนี้เป็นภาพประกอบ 6 เหล่านี้สองชนิดของความไม่สมบูรณ์มีแนวโน้มที่จะมีอิทธิพลต่อกระบวนการผลิตนาโนที่ตามมา โดยเฉพาะ nanoimprinting . ในนาโน Imprinting , ผิวไม่เรียบ จะทำให้ความดันไม่สม่ำเสมอและผลในรูปแบบไม่สม่ำเสมอการผิดปกติของอาจารย์จะถูกคัดลอกไปยังผลิตภัณฑ์ที่ตามมา ปัญหาเหล่านี้จะตามมาได้อย่างประนีประนอมคุณภาพของผลิต
การแปล กรุณารอสักครู่..
 
ภาษาอื่น ๆ
การสนับสนุนเครื่องมือแปลภาษา: กรีก, กันนาดา, กาลิเชียน, คลิงออน, คอร์สิกา, คาซัค, คาตาลัน, คินยารวันดา, คีร์กิซ, คุชราต, จอร์เจีย, จีน, จีนดั้งเดิม, ชวา, ชิเชวา, ซามัว, ซีบัวโน, ซุนดา, ซูลู, ญี่ปุ่น, ดัตช์, ตรวจหาภาษา, ตุรกี, ทมิฬ, ทาจิก, ทาทาร์, นอร์เวย์, บอสเนีย, บัลแกเรีย, บาสก์, ปัญจาป, ฝรั่งเศส, พาชตู, ฟริเชียน, ฟินแลนด์, ฟิลิปปินส์, ภาษาอินโดนีเซี, มองโกเลีย, มัลทีส, มาซีโดเนีย, มาราฐี, มาลากาซี, มาลายาลัม, มาเลย์, ม้ง, ยิดดิช, ยูเครน, รัสเซีย, ละติน, ลักเซมเบิร์ก, ลัตเวีย, ลาว, ลิทัวเนีย, สวาฮิลี, สวีเดน, สิงหล, สินธี, สเปน, สโลวัก, สโลวีเนีย, อังกฤษ, อัมฮาริก, อาร์เซอร์ไบจัน, อาร์เมเนีย, อาหรับ, อิกโบ, อิตาลี, อุยกูร์, อุสเบกิสถาน, อูรดู, ฮังการี, ฮัวซา, ฮาวาย, ฮินดี, ฮีบรู, เกลิกสกอต, เกาหลี, เขมร, เคิร์ด, เช็ก, เซอร์เบียน, เซโซโท, เดนมาร์ก, เตลูกู, เติร์กเมน, เนปาล, เบงกอล, เบลารุส, เปอร์เซีย, เมารี, เมียนมา (พม่า), เยอรมัน, เวลส์, เวียดนาม, เอสเปอแรนโต, เอสโทเนีย, เฮติครีโอล, แอฟริกา, แอลเบเนีย, โคซา, โครเอเชีย, โชนา, โซมาลี, โปรตุเกส, โปแลนด์, โยรูบา, โรมาเนีย, โอเดีย (โอริยา), ไทย, ไอซ์แลนด์, ไอร์แลนด์, การแปลภาษา.

Copyright ©2026 I Love Translation. All reserved.

E-mail: