Then, nanoclay was added to an aque

Then, nanoclay was added to an aqueous HPMC solution to obtain the HPMC þ Clay solution. The last formula involved first preparing the HPMC þ Beeswax solution and then nanoclay was added to obtain the HPMC þ Beeswax þ Clay solution. All mixture solutions were homogenized using a homogenizer (Polytron model PT 3100, Littau, Switzerland) at 20,000 rpm for 5 min. The solutions were degassed prior to forming film.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แล้ว nanoclay ถูกเพิ่มลงในโซลูชัน HPMC อควีรับþ HPMC ดินโซลูชั่น สูตรสุดท้ายเกี่ยวข้องแรก เตรียมþ HPMC ขี้โซลูชัน และ nanoclay ถูกเพิ่มเข้าไปรับ HPMC þþขี้ดินโซลูชั่น โซลูชั่นส่วนผสมทั้งหมดถูก homogenized เป็นกลุ่มใช้ homogenizer (ฝากระจกโค้งรุ่น PT 3100, Littau สวิตเซอร์แลนด์) ที่ 20000 rpm 5 นาที โซลูชั่นมี degassed ก่อนขึ้นรูปฟิล์ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จากนั้น nanoclay ถูกบันทึกอยู่ในวิธีการแก้ปัญหา HPMC น้ำเพื่อให้ได้ HPMC þแก้ปัญหาดิน สูตรที่ผ่านมาเป็นครั้งแรกที่เกี่ยวข้องกับการจัดทำ HPMC þขี้ผึ้งแก้ปัญหาแล้ว nanoclay ถูกเพิ่มเข้ามาจะได้รับ HPMC þขี้ผึ้งþแก้ปัญหาดิน โซลูชั่นส่วนผสมทั้งหมดถูกปั่นใช้โฮโมจีไน (Polytron รุ่น PT 3100 Littau วิตเซอร์แลนด์) 20,000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 5 นาที โซลูชั่นถูก degassed ก่อนที่จะมีการสร้างภาพยนตร์เรื่องนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แล้วนาโนเคลย์ได้เพิ่มโซลูชั่นซีซิลได้รับþดินซีโซลูชั่น สุดท้ายสูตรที่เกี่ยวข้องก่อนการเตรียมซีโซลูชั่นþขี้ผึ้งและนาโนเคลย์ถูกเพิ่มเพื่อให้ได้ซีþขี้ผึ้งþดินโซลูชั่น โซลูชั่นส่วนผสมทั้งหมดบดด้วยเครื่องปั่น ( แบบ polytron PT 3100 ลิททาว สวิตเซอร์แลนด์ ) ที่ 20 , 000 รอบต่อนาที เป็นเวลา 5 นาทีโซลูชั่นที่เป็น degassed ก่อนการขึ้นรูปฟิล์ม