The resistance versus time for 2 nm

The resistance versus time for 2 nm Pt film sensor at 150°C exposed to H2 concentration interval of 0.1–1% is
shown in Fig. 4a.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความต้านทานเทียบกับเวลาสำหรับเซ็นเซอร์ภาพยนตร์ Pt 2 nm ที่ 150° C สัมผัสกับ H2 ช่วงความเข้มข้น 0.1-1% คือแสดงในรูปที่ 4a

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความต้านทานเมื่อเทียบกับเวลาสำหรับ 2 นาโนเมตรเซ็นเซอร์ภาพยนตร์ Pt ที่ 150 ° C สัมผัสกับ H2 ช่วงความเข้มข้นของ 0.1-1% จะ
แสดงในรูป 4A