Figure 11 also shows the phosphor f

Figure 11 also shows the phosphor formation process by photolithographic method. Photosensitive phosphor paste is
made of photo resists in which phosphor particle of specified colors are evenly dispersed. The prepared paste is coated to
the entire surface of a rear substrate with barrier ribs. This substrate is then dried to evaporate the solvents in the paste at
100-120 'C. Any remaining paste on top of the barrier ribs does not cause any problems. Next, the dried film is exposed by
UV light through a photo mask. The exposure and development of this paste produces a phosphor paste layers for the three
primary colors. Finally, the substrate is fired to bum out all organic ingredients remaining in the phosphor paste layers and
ensure that the phosphor layers consist of only phosphor particles. The primary issue of using this method this method is on
the recycling of removed phosphor material. Figure 12 shows SEM images of phosphor layers made using screen printing
method and photolithographic method.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 11 แสดงกระบวนการก่อตัวของสารเรืองแสง โดยวิธี photolithographic ด้วย วางแสงฟอสเฟอร์เป็นทำจากภาพในฟอสเฟอร์ซึ่งอนุภาคของสีที่ระบุจะกระจายความต้านทานต่อ วางเตรียมการเคลือบพื้นผิวทั้งหมดของพื้นผิวด้านหลังอุปสรรคซี่โครง พื้นผิวนี้แล้วตากแห้งการระเหยตัวทำละลายในการวางที่100-120 ' C วางใด ๆ เหลืออยู่ด้านบนของซี่โครงอุปสรรคทำให้เกิดปัญหาใด ๆ ถัดไป ฟิล์มแห้งถูกเปิดเผยโดยUV แสงผ่านหน้ากากภาพ แสงและการวางนี้ผลิตชั้นวางฟอสเฟอร์ที่สามสีหลัก ในที่สุด พื้นผิว fired ตูดออกสารอินทรีย์ทั้งหมดที่เหลืออยู่ในชั้นวางสารเรืองแสง และให้แน่ใจว่า ชั้นฟอสเฟอร์ที่ประกอบด้วยอนุภาคสารเรืองแสงเท่านั้น ปัญหาหลักของการใช้วิธีนี้วิธีการนี้อยู่รีไซเคิลเอาวัสดุสารเรืองแสง รูปภาพ 12 แสดงภาพ SEM ของชั้นฟอสเฟอร์ที่ทำใช้พิมพ์หน้าจอวิธีและวิธี photolithographic

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 11 ยังแสดงให้เห็นขั้นตอนการก่อตัวของสารเรืองแสงโดยวิธี photolithographic วางสารเรืองแสงจะ
ทำจากทนทานต่อภาพในการที่อนุภาคของสารเรืองแสงของสีที่ระบุจะแยกย้ายกันไปอย่างสม่ำเสมอ วางเตรียมที่จะเคลือบ
พื้นผิวทั้งหมดของพื้นผิวด้านหลังที่มีซี่โครงอุปสรรค พื้นผิวนี้จะแห้งแล้วจะระเหยตัวทำละลายในการวางที่
100-120 'ซี ใด ๆ ที่เหลือวางอยู่ด้านบนของกระดูกซี่โครงอุปสรรคไม่ก่อให้เกิดปัญหาใด ๆ ถัดไปฟิล์มแห้งมีการเปิดเผยโดย
แสงยูวีผ่านหน้ากากรูปภาพ การเปิดรับและการพัฒนาของวางนี้ก่อให้เกิดสารเรืองแสงวางชั้นสำหรับสาม
สีหลัก ในที่สุดพื้นผิวที่จะยิงก้นออกสารอินทรีย์ทั้งหมดที่เหลืออยู่ในชั้นวางของสารเรืองแสงและ
ให้มั่นใจว่าชั้นสารเรืองแสงประกอบด้วยเพียงอนุภาคสารเรืองแสง ปัญหาหลักของการใช้วิธีการนี้เป็นวิธีการนี้ใน
การรีไซเคิลวัสดุสารเรืองแสงที่นำออก รูปที่ 12 แสดงให้เห็นภาพ SEM ของชั้นสารเรืองแสงที่ทำโดยใช้การพิมพ์หน้าจอ
วิธีการและวิธีการ photolithographic

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 11 แสดงให้เห็นขั้นตอนการสร้างสารโดยวิธี photolithographic . แสงที่วางเป็นสารเรืองแสงทำให้ภาพถ่ายต่อต้านซึ่งอนุภาคของสารสีที่ระบุไว้จะกระจายอย่างทั่วถึง . เตรียมวางเคลือบพื้นผิวทั้งหมดของพื้นผิวด้านหลังกับซี่โครงกั้น พื้นผิวนี้เป็นแห้งเพื่อระเหยตัวทำละลายในการวางที่100-120 ' C เหลือวางด้านบนของกำแพง ซี่โครง ไม่ก่อให้เกิดปัญหาใด ๆ ถัดไป , ฟิล์มแห้งตากโดยแสงยูวีผ่านภาพหน้ากาก การเปิดรับและพัฒนาวางนี้ผลิตสารเรืองแสงเพื่อวางชั้นสามแม่สี ในที่สุดพื้นผิวถูกไล่ออกไป บอมออกทั้งหมดอินทรีย์ส่วนผสมที่เหลือในชั้นวางและสารเรืองแสงให้แน่ใจว่าชั้นประกอบด้วยอนุภาคสารเรืองแสง สารเรืองแสงเท่านั้น ปัญหาหลักของการใช้วิธีนี้ วิธีนี้เป็นวิธีที่บนรีไซเคิลของวัสดุสารเรืองแสงออก . รูปที่ 12 แสดงภาพ SEM ของฟอสเฟอร์ชั้นสร้างด้วยการพิมพ์หน้าจอวิธี photolithographic .