The microstructure characterization

The microstructure characterization disclosed that the post-annealing treatment drastically changed the microstructure of the films by instigating the development of a strong c-axis oriented texture. The electron mobility and Seebeck coefficient increase significantly, leading to a strong improvement in power factor from 3.3 μW/K2 cm for the as-deposited sample to 24.1 μW/K2 cm for the 200 oC-annealed sample.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลักษณะจุลภาคเปิดเผยว่าการรักษาหลังการเปลี่ยนแปลงอย่างเห็นได้ชัดหลอมจุลภาคของภาพยนตร์โดย instigating การพัฒนาที่แข็งแกร่งมุ่งเน้นเนื้อคแกน การเคลื่อนไหวของอิเล็กตรอนและการเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญค่าสัมประสิทธิ์ Seebeck ที่นำไปสู่​​การพัฒนาที่แข็งแกร่งในปัจจัยอำนาจจาก 3.3 μW / K2 ซม. สำหรับตัวอย่างตามที่ฝาก 24.1 μW / K2 ซม. สำหรับกลุ่มตัวอย่าง 200 องศาเซลเซียสอบ-

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โครงสร้างจุลภาคสมบัติเปิดเผยว่าหลังการอบการเปลี่ยนแปลงอย่างมาก โครงสร้างของฟิล์มยุยงการพัฒนา c-axis แข็งแรงเชิงพื้นผิว อิเล็กตรอนเคลื่อนที่ วัดค่าและเพิ่มสถิติที่นำไปสู่การปรับปรุงที่แข็งแกร่งในด้านพลังงาน จาก 3.3 μ w / K2 ซม. สำหรับเป็นฝากตัวอย่าง 241 μ w / K2 ซม. 200 องศาเซลเซียสอบตัวอย่าง