were utilized since they are mechan

were utilized since they are mechanically adequate for heat treatments,
and they permit realization of annealingwithout atomic diffusion at the
interface between thin films and substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีใช้เนื่องจากมีกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อนและพวกเขาอนุญาตให้สำนึกที่แพร่อะตอม annealingwithout การอินเตอร์เฟซระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ถูกนำมาใช้ตั้งแต่พวกเขาเป็นกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อน
และพวกเขาอนุญาตให้มีการก่อให้เกิดการแพร่กระจาย annealingwithout อะตอมที่
เชื่อมต่อระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เคยใช้ตั้งแต่พวกเขาเป็นกลไกที่เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อนและพวกเขาอนุญาตให้มีการกระจาย annealingwithout อะตอมที่รอยต่อระหว่างพื้นผิวและฟิล์มบาง