After that, a solution of ethanol a

After that, a solution of ethanol and
demineralized water for 5 min was used to clean the surface. A subsequent
treatment was carried out by immersion in a solution of
demineralized water and hydrofluoric acid (HF) for 1 min (first acid
etching). After one washing in demineralized water, the samples were
put in a second hot solution of H2O, sulfuric acid (H2SO4) and hydrochloric
acid (HCl) for 8 min (second acid etching). A final washing
with ethanol and demineralized water was performed

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากนั้น โซลูชั่นของเอทานอล และ5 นาทีน้ำ demineralized ที่ใช้ทำความสะอาดพื้นผิว ที่ตามมารักษาถูกดำเนิน โดยแช่ในโซลูชันของdemineralized น้ำและกรดไฮโดรฟลูออริก (HF) ใน 1 นาที (กรดแรกการแกะสลัก) หลังจากหนึ่งซักผ้าในน้ำ demineralized ตัวอย่างดีใส่ในโซลูชันร้อนสองของ H2O กรดกำมะถัน (กำมะถัน) และไฮโดรคลอริกกรด (HCl) สำหรับ 8 นาที (สองกรดกัด) ล้างขั้นสุดท้ายเอทานอลและน้ำ demineralized ทำ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากนั้นการแก้ปัญหาเอทานอลและน้ำปราศจากแร่ธาตุเป็นเวลา 5 นาทีถูกใช้ในการทำความสะอาดผิวหน้า ต่อมารักษาที่ได้ดำเนินการโดยการแช่ในสารละลายของน้ำปราศจากแร่ธาตุและกรดไฮโดรฟลูออริก(HF) เป็นเวลา 1 นาที (กรดแรกที่แกะสลัก) หลังจากหนึ่งซักผ้าในน้ำปราศจากแร่ธาตุตัวอย่างที่ถูกใส่ในการแก้ปัญหาร้อนที่สองของ H2O กรดกำมะถัน (H2SO4) และไฮโดรคลอริกกรด(HCl) เป็นเวลา 8 นาที (กรดกัดวินาที) ซักผ้าสุดท้ายกับเอทานอลและน้ำปราศจากแร่ธาตุที่ได้ดำเนินการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากนั้น สารละลายเอทานอลและน้ำ
เปอร์เซนต์เป็นเวลา 5 นาที ใช้ทำความสะอาดผิวหน้า การรักษาตามมา
กระทำโดยการแช่ในสารละลาย
เปอร์เซนต์น้ำและกรดกัดแก้ว ( HF ) 1 นาทีแรก ( กรด
etching ) หลังจากซักหนึ่งในเปอร์เซนต์น้ำจำนวน
ใส่ในสารละลายร้อนที่สองของ H2O , กรดกำมะถัน ( กรดซัลฟิวริก ) และกรดไฮโดรคลอริก
กรด ( กรดไฮโดรคลอริก ) 8 นาที ( สองกัดกรด ) สุดท้ายล้างด้วยน้ำและเอทานอล
เปอร์เซนต์การ