This was followed by soft exposure

This was followed by soft exposure bake at 65 deg C for 1 minute and 95 deg C for 1 minute. The pattern was directly written on the sample by ‘Microtech LW 405 Laser Writer’.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นี้ถูกตาม ด้วยแสงนุ่มอบที่ 65 องศาเซลเซียสใน 1 นาที และ 95 องศาเซลเซียส 1 นาที ตรงลวดลายที่เขียนบนตัวอย่าง โดย 'Microtech LW 405 เลเซอร์เขียน'

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นี้ตามด้วยการสัมผัสที่อ่อนนุ่มอบที่อุณหภูมิ 65 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 นาทีและ 95 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 นาที รูปแบบที่ถูกเขียนโดยตรงบนตัวอย่างโดย 'Microtech LW 405 เลเซอร์นักเขียน'

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นี้ตามด้วยอ่อนแสงอบที่อุณหภูมิ 65 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 นาทีและ 95 องศาเซลเซียส นาน 1 นาที รูปแบบโดยตรงเขียนตัวอย่างด้วยไมโครเทค LW 405 เลเซอร์ ' นักเขียน '