the average kinetic energy and flux

the average kinetic energy and flux of the deposited species depend on the sputter-gas pressure through collisions with gas atom.

Futhermore, if the target contains heavier elements, there is a signigicant probability that the sputter gas ions will be reflected as neautral atom. By increasing the sputter-gas pressure, a higher flux of reflected neautral will eventually hit the growing film and thereby effect the composition and film structure. Additionally, a higher flux of bommarding Ar ion from the plasma may arise as a result of increase sputter gas pressure if the substrate is kept at a floting potential or negatively bias

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พลังงานจลน์เฉลี่ยและฟลักซ์พันธุ์ฝากขึ้นอยู่กับความดันก๊าซ sputter ผ่านชนกับอะตอมของก๊าซอยู่ Futhermore ถ้าเป้าหมายประกอบด้วยองค์ประกอบที่หนัก มีความน่าเป็น signigicant ว่า sputter แก๊สไอออนจะปรากฏเป็น neautral อะตอม โดยการเพิ่มความดันก๊าซ sputter ฟลักซ์แบบสูงของ neautral สะท้อนจะตีฟิล์มเติบโตในที่สุด และจึงมีผลต่อองค์ประกอบและโครงสร้างของฟิล์ม นอกจากนี้ ฟลักซ์แบบสูงของพลาสม่าไอออน Ar bommarding อาจเกิดขึ้นเป็นผลมาจากแรงดันก๊าซ sputter เพิ่มขึ้นถ้าสารตั้งต้นจะอยู่ที่น้ำดำเนินสะดวกมีศักยภาพ หรือ bias ในเชิงลบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พลังงานจลน์เฉลี่ยและฟลักซ์ของสายพันธุ์ฝากขึ้นอยู่กับแรงดันพ่นก๊าซผ่านการชนกับอะตอมของก๊าซ. เอาอีกแล้วถ้าเป้าหมายมีองค์ประกอบหนักมีโอกาส signigicant ว่าไอออนก๊าซปะทุจะสะท้อนให้เห็นเป็นอะตอม neautral โดยการเพิ่มความดันปะทุ-ก๊าซไหลที่สูงขึ้นของ neautral สะท้อนให้เห็นในที่สุดก็จะตีภาพยนตร์การเจริญเติบโตและจึงมีผลกระทบต่อโครงสร้างองค์ประกอบและภาพยนตร์ นอกจากนี้ฟลักซ์ที่สูงขึ้นของ bommarding Ar ไอออนจากพลาสม่าอาจจะเกิดขึ้นเป็นผลมาจากการเพิ่มขึ้นของความดันแก๊สปะทุถ้าพื้นผิวจะถูกเก็บไว้ที่ floting ศักยภาพหรือลบอคติ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เฉลี่ยพลังงานจลน์และฟลักซ์ของฝากชนิดขึ้นอยู่กับละล่ำละลักความดันก๊าซผ่านการชนกับอะตอมของแก๊สยิ่งไปกว่านั้น ถ้าเป้าหมายมีธาตุที่หนัก มีความน่าจะเป็น signigicant ที่ปะทุก๊าซไอออนจะสะท้อนเป็นอะตอม neautral . โดยการเพิ่มความดันก๊าซพ่นออก , ฟลักซ์ของ neautral สะท้อนจะตีขึ้นฟิล์ม จึงมีผลต่อโครงสร้างองค์ประกอบและภาพยนตร์ นอกจากนี้ ฟลักซ์ของ bommarding AR ไอออนจากพลาสมาอาจเกิดขึ้นเป็นผลมาจากการเพิ่มความดันก๊าซ ถ้าพื้นผิวละล่ำละลักอยู่ในดอกบัวที่มีศักยภาพหรืออคติเชิงลบ