3.1.3. Step IIIThe ZnO nanorods wer

3.1.3. Step III
The ZnO nanorods were grown by heating a glass vial containing
precursory solutions with the seed layers at different temperatures
in a box oven for 30 min. The glass vials were loosely capped, such
that only temperature was a variable parameter for the hydrothermal
conditions in the ZnO nanocrystal growths in Step III. Fig. 5 shows the
SEM images of ZnO nanorods developed on the ZnO seed films at different
temperatures starting from 30 to 95 °C with a gap of 5 °C. It is
noticed that the ZnO nanorods start growing on the ZnO seed films
and ZnO flower-like structures on the surface of the ZnO nanorods.
The average size of the ZnO nanorods is ~350 nm in length and
~50 nm in diameter, which is the grain size of the ZnO films grown
in Step II. Therefore, the nanorods must have grown from the top of
the ZnO nanoparticles in the films and kept growing to the c-axis of
the crystals. The cross-section images of the ZnO nanorods and
nanoflowers synthesized by the hydrothermal method on Si substrates
covered with ZnO seed films are presented in Fig. 5 (o and p). The
cross-section images illustrate that the nanoflowers are composed of
numerous petal-like ZnO nanorods which may have grown from a randomly
dispersed nucleation of ZnO on the surface of ZnO nanorods.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป็น 3.1.3 ขั้นตอน IIIZnO nanorods ได้เติบโตขึ้น โดยแก้วคอนแทคประกอบด้วยความร้อนโซลูชั่น precursory ชั้นเมล็ดที่อุณหภูมิแตกต่างกันด้วยในเตาอบกล่องสำหรับ 30 นาที Vials แก้วได้ซึ่ง capped เช่นที่อุณหภูมิเฉพาะเป็นพารามิเตอร์ตัวแปรสำหรับการ hydrothermalเงื่อนไขในการเจริญเติบโต nanocrystal ZnO ในขั้นตอนที่ III Fig. 5 แสดงภาพใน SEM ของ ZnO nanorods พัฒนาบนฟิล์มเมล็ด ZnO ที่แตกต่างกันอุณหภูมิตั้งแต่ 30 ถึง 95 ° C มีช่องว่างของ 5 องศาเซลเซียส จึงสังเกตว่า ZnO nanorods เริ่มต้นเติบโตบนฟิล์มเมล็ด ZnOและโครงสร้างของดอกไม้เช่น ZnO บนพื้นผิวของ ZnO nanorodsขนาดเฉลี่ยของ ZnO nanorods เป็น ~ 350 nm ความยาว และ~ 50 นาโนเมตรเส้นผ่านศูนย์กลาง ซึ่งเป็นเมล็ดขนาดของฟิล์ม ZnO โตในขั้นตอน II ดังนั้น nanorods ต้องมีโตจากด้านบนของเก็บกัก ZnO ในภาพยนตร์ และยังคงเติบโตกับแกน c ของรัตนากร ภาพระหว่างส่วนของ ZnO nanorods และnanoflowers ที่สังเคราะห์ โดยวิธี hydrothermal บนพื้นผิวศรีปกคลุม ด้วย ZnO จะแสดงภาพยนตร์เมล็ด 5 Fig. (o และ p) ที่ระหว่างส่วนภาพแสดงว่า nanoflowers ที่ประกอบด้วยnanorods ZnO เหมือนกลีบดอกไม้จำนวนมากซึ่งอาจมีโตจากการสุ่มกระจาย nucleation ของ ZnO บนพื้นผิวของ ZnO nanorods

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3.1.3 . ขั้นตอนที่ 3
ZnO nanorods เติบโตโดยร้อนขวดแก้วที่มีโซลูชั่นที่เป็นขั้นเริ่มต้นด้วยเมล็ดพันธุ์ชั้น

ในกล่องที่แตกต่างกันอุณหภูมิเตาอบเป็นเวลา 30 นาที แก้วขวดถูกปกคลุมอย่างหลวมๆ เช่น ที่อุณหภูมิเดียวคือ
ตัวแปรพารามิเตอร์สำหรับเงื่อนไขในซิงค์ออกไซด์ด้วย
nanocrystal การเจริญเติบโตในขั้นตอนที่ III . ภาพที่ 5 แสดง
ภาพ SEM ของ ZnO nanorods พัฒนาบนซิงค์ออกไซด์ฟิล์มที่อุณหภูมิแตกต่างกัน
เมล็ดเริ่มต้นจาก 30 ถึง 95 องศา C กับช่องว่าง 5 ° C . มัน
สังเกตเห็นว่า ZnO nanorods เริ่มเติบโตบนซิงค์ออกไซด์ฟิล์ม ZnO และเมล็ดพันธุ์
ดอกไม้เช่นโครงสร้างบนพื้นผิวของ ZnO nanorods .
ขนาดเฉลี่ยของ ซิงค์ออกไซด์ nanorods ~ 350 nm และความยาว
~ 50 nm ในเส้นผ่าศูนย์กลางซึ่งมีขนาดเกรนของฟิล์ม ZnO ปลูก
ในขั้นตอนที่ 2 ดังนั้น nanorods ต้องโตขึ้นจากด้านบนของซิงค์ออกไซด์นาโน
ในภาพยนตร์และเก็บเพิ่มขึ้นเพื่อ c-axis ของ
ผลึก ขนาดของซิงค์ออกไซด์และภาพ nanorods
nanoflowers ที่สังเคราะห์โดยวิธีไฮโดรเทอร์มอลบนพื้นผิวปกคลุมด้วยเมล็ดพันธุ์ศรี
ฟิล์ม ZnO จะแสดงในรูปที่ 5 ( o P )
ภาพตัดขวางแสดงให้เห็นว่า nanoflowers ประกอบด้วย
กลีบดอกไม้มากมายเช่นซิงค์ออกไซด์ nanorods ซึ่งอาจได้เติบโตขึ้นจากการสุ่ม
กระจายขนาดของซิงค์ออกไซด์บนพื้นผิวของ ZnO nanorods .