Plasma enhanced atomic layer deposi

Plasma enhanced atomic layer deposition of Fe2O3 thin films

Atomic layer deposition of Fe2O3 is generally performed at temperatures above 350 °C. In this work, Fe2O3 thin films were deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition using tertiary butyl ferrocene (TBF) and O2 plasma in a broad temperature range starting from 150 to 400 °C. A maximum growth rate of 1.2 Å per cycle was achieved between 300 and 350 °C. Below 300 °C, the saturated growth per cycle was found to depend on the temperature of the sample. All the deposited films were pure with no significant amount of carbon contamination. Films deposited at 250 °C and above were crystalline with an α-Fe2O3 crystal structure, while the low temperature films were crystallized by a post-deposition annealing in He. Annealing in H2 induced the formation of metallic iron.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พลาสม่าเพิ่มสะสมชั้นอะตอมของ Fe2O3 ฟิล์มบางโดยทั่วไปดำเนินการสะสมชั้นอะตอมของ Fe2O3 ที่อุณหภูมิ 350 องศาเซลเซียส ในงานนี้ Fe2O3 ฟิล์มบางได้ฝาก ด้วยพลาสม่าไกลเพิ่มสะสมชั้นอะตอมใช้เฟอร์โรซีนด...ระดับตติยภูมิ (TBF) และพลาสม่า O2 ในช่วงอุณหภูมิกว้างตั้งแต่ 150 ถึง 400 องศาเซลเซียส อัตราเติบโตสูงสุด 1.2 Åต่อวงจรสำเร็จระหว่าง 300 และ 350 ° c ต่ำกว่า 300 ° C การเจริญเติบโตอิ่มตัวต่อวงจรถูกพบขึ้นอยู่กับอุณหภูมิของตัวอย่าง ภาพยนตร์ที่นำฝากได้บริสุทธิ์ มีคาร์บอนปนจำนวนไม่สำคัญ ฟิล์มฝากที่ 250 ° C และเหนือมีผลึกที่ มีโครงสร้างเป็นผลึกα-Fe2O3 ในขณะที่ฟิล์มอุณหภูมิต่ำถูกตกผลึก โดยการการอบเหนียวสะสมหลังในเขา การอบเหนียวใน H2 เกิดการก่อตัวของโลหะเหล็ก

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พลาสม่าเพิ่มการสะสมชั้นอะตอมของ Fe2O3 ฟิล์มบางทับถมอะตอมชั้นของ Fe2O3 จะดำเนินการโดยทั่วไปที่อุณหภูมิสูงกว่า 350 องศาเซลเซียส ในงานนี้ Fe2O3 ฟิล์มบางมีเงินจากพลาสม่าระยะไกลเพิ่มการสะสมชั้นอะตอมโดยใช้เฟอโรซีนบิวทิลตติยภูมิ (TBF) และ O2 พลาสม่าในช่วงอุณหภูมิที่กว้างเริ่มต้นที่ 150-400 องศาเซลเซียส อัตราการเติบโตสูงสุดถึง 1.2 ต่อวงจรก็ประสบความสำเร็จระหว่าง 300 และ 350 องศาเซลเซียส ต่ำกว่า 300 องศาเซลเซียสการเจริญเติบโตอิ่มตัวต่อรอบก็พบว่าขึ้นอยู่กับอุณหภูมิของตัวอย่าง ทั้งหมดภาพยนตร์ฝากบริสุทธิ์ที่ไม่มีจำนวนเงินที่สำคัญของการปนเปื้อนคาร์บอน ภาพยนตร์ฝากที่ 250 องศาเซลเซียสและสูงกว่าเป็นผลึกที่มีโครงสร้างผลึกα-Fe2O3 ในขณะที่ภาพยนตร์อุณหภูมิต่ำถูกตกผลึกโดยการหลอมโพสต์ในการสะสมเขา หลอมใน H2 เหนี่ยวนำให้เกิดการก่อตัวของโลหะเหล็ก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พลาสมาอะตอม โดยเพิ่มชั้นฟิล์มของฟิล์มบาง

อะตอมสะสมชั้นของ โดยทั่วไปดำเนินการที่อุณหภูมิสูงกว่า 350 องศา ในการทำงาน โดยฟิล์มบางถูกฝากโดยระยะไกลพลาสมาเพิ่มสะสมชั้นอะตอมโดยใช้บิวทิลตติยเฟอร์โรซีน ( ชนิดหนา ) และออกซิเจนพลาสมาในช่วงอุณหภูมิที่กว้าง ตั้งแต่ 150 - 400 องศา C . อัตราการเจริญเติบโตสูงสุดของ 1•ต่อรอบ 2 พบว่าระหว่าง 300 และ 350 องศา ต่ำกว่า 300 ° C ที่อิ่มตัว การต่อวงจร พบว่าขึ้นอยู่กับอุณหภูมิของตัวอย่าง ทั้งหมดฝากภาพยนตร์ที่บริสุทธิ์ไม่มีปริมาณการปนเปื้อนคาร์บอน ภาพยนตร์ที่ฝากไว้ที่ 250 องศา C และข้างบนเป็นผลึกที่มีโครงสร้างผลึกโดยแอลฟา ,ในขณะที่ภาพยนตร์ที่อุณหภูมิต่ำได้ตกผลึกโดยโพสต์ในการตอบเขา การอบในการก่อตัวของราคาโลหะเหล็ก