In both RESS-WTS and RESS-BFB coati

In both RESS-WTS and RESS-BFB coating procedures the distance between the nozzle and MCC particles in the bed was kept to a minimum, i.e. the fluidized bed was in direct contact with the surface of the gas distributor plate, into which the nozzle was inserted, so that its tip was slightly countersunk (∼15 mm) into the plate. The intention here is to capture the active particles close to their point of origin, so restricting subsequent particle growth and aggregation before capture and maintaining them in their nucleated nano-size.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ใน RESS WTS และขั้นตอนเคลือบ RESS BFB ระยะห่างระหว่างหัวฉีดและอนุภาค MCC ในนอนถูกเก็บต่ำ เช่นเบด fluidized ถูกติดต่อโดยตรงกับพื้นผิวของจานรองจำหน่าย ก๊าซที่หัวฉีดถูกแทรก ให้คำแนะนำของถูกเล็กน้อย countersunk (∼15 mm) เป็นแผ่น ความตั้งใจที่นี่คือการ จับอนุภาคใช้งานอยู่ใกล้กับจุดการกำเนิด ดังนั้นการจำกัดการเจริญเติบโตต่อมาอนุภาคและรวมก่อนจับ และรักษาพวกเขาในนาโน nucleated-ขนาดของ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทั้งในขั้นตอนการเคลือบ RESS-WTS และ RESS-BFB ระยะห่างระหว่างหัวฉีดและ MCC อนุภาคในเตียงถูกเก็บไว้ให้น้อยที่สุดคือเตียง fluidized อยู่ในการติดต่อโดยตรงกับพื้นผิวของแผ่นจำหน่ายก๊าซเป็นที่หัวฉีดเป็น แทรกเพื่อให้ปลายของมันฝังเล็กน้อย (~15 มม) ลงในจาน ความตั้งใจของที่นี่คือการจับอนุภาคที่ใช้งานอยู่ใกล้กับจุดของพวกเขามาเพื่อ จำกัด การเจริญเติบโตของอนุภาคตามมาและการรวมตัวก่อนที่จะจับภาพและการรักษาพวกเขาในนาโนขนาด nucleated ของพวกเขา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ทั้งในและ ress-wts ress-bfb เคลือบขั้นตอนระยะห่างระหว่างหัวฉีดและอนุภาค MCC ในเตียงถูกเก็บไว้ให้น้อยที่สุด ได้แก่ ฟลูอิดไดซ์เบดอยู่ในการติดต่อโดยตรงกับพื้นผิวของผู้จัดจำหน่ายก๊าซที่หัวฉีดแผ่น , เข้าแทรก เพื่อให้ปลายเล็กน้อย countersunk ( ∼ 15 มม. ) ลงในจานเจตนาคือการจับอนุภาคปราดเปรียวใกล้เคียงกับจุดของประเทศ ดังนั้น การเติบโตของอนุภาคที่ตามมา และการรวมก่อนที่จะจับและรักษาพวกเขาในแบบนาโนขนาด