A mathematical model of atomic laye

A mathematical model of atomic layer deposition of alumina is developed using a TMA + H2O ALD operation as a physical base. The model coherently bridges the process dynamics of ALD reactor with the detailed surface chemical kinetics, where the time-dependent variations of surface species are modeled during each precursor pulse. The model is validated by the experimental data. Upon the validation, continuous ALD cycling operation is simulated under different operating conditions. Results show that temperature rising can reduce the surface reaction time in two half cycles, and meanwhile intensify the desorption rate of precursors and backward surface reactions. Suitably increasing the system pressure can improve the completion of surface reactions and film formation in the cycling. The sensitivity analysis shows that surface species variations of |–OH, |–Al(CH3)2 and |–Al(CH3)2 have different degree of sensitivities to the surface reaction steps, and reveals the rate-limiting steps in two precursor treatment cycles. 2014 Published by Elsevier B.V.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พัฒนาแบบจำลองทางคณิตศาสตร์ของสะสมชั้นอะตอมของอลูมินาใช้ TMA + H2O ALD ดำเนินการเป็นฐานทางกายภาพ แบบศิลปินกลุ่นนี้สะพานกระบวนการเปลี่ยนแปลงของเครื่องปฏิกรณ์ ALD กับรายละเอียดพื้นผิวจลนพลศาสตร์เคมี ที่จำลองรูปแบบขึ้นอยู่กับเวลาของผิวพันธุ์ระหว่างชีพจรแต่ละสารตั้งต้น แบบจำลองจะถูกตรวจสอบ โดยข้อมูลทดลอง เมื่อตรวจสอบ ดำเนินการขี่จักรยานต่อเนื่อง ALD เป็นจำลองภายใต้เงื่อนไขการปฏิบัติงานแตกต่างกัน ผลลัพธ์แสดงว่า อุณหภูมิที่เพิ่มขึ้นสามารถลดเวลาตอบสนองผิวสองรอบครึ่ง และกระชับในขณะเดียวกัน อัตราการ desorption precursors และปฏิกิริยาผิวย้อนหลัง เหมาะสมเพิ่มความดันระบบจะปรับปรุงความสมบูรณ์ของปฏิกิริยาที่ผิวและก่อตัว film ในการขี่จักรยาน แสดงการวิเคราะห์ความไวที่พื้นผิวรูปแบบชนิดของ | – OH, | – อัล (CH3) 2 และ | – อัล (CH3) 2 มีความแตกต่างของรัฐเพื่อขั้นตอนปฏิกิริยาผิว และอัตราจำกัดแสดงถึงขั้นตอนในวงจรรักษาสารตั้งต้น 2 2014 ที่เผยแพร่ โดย Elsevier b.v

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แบบจำลองทางคณิตศาสตร์ของการสะสมชั้นอะตอมของอลูมิเนียมได้รับการพัฒนาโดยใช้การดำเนินการ ALD TMA + H2O เป็นฐานทางกายภาพ รูปแบบเป็นตุเป็นตะสะพานพลศาสตร์กระบวนการของเครื่องปฏิกรณ์ ALD ที่มีรายละเอียดพื้นผิวจลนพลศาสตร์เคมีที่แตกต่างกันขึ้นกับเวลาของชนิดพื้นผิวที่มีรูปแบบในแต่ละชีพจรปูชนียบุคคล รูปแบบจะถูกตรวจสอบโดยการทดลอง เมื่อตรวจสอบการดำเนินการขี่จักรยานอย่างต่อเนื่องมรกตจำลองภายใต้สภาวะที่แตกต่างกัน ผลปรากฏว่าอุณหภูมิที่เพิ่มขึ้นสามารถลดเวลาตอบสนองพื้นผิวในสองรอบครึ่งและในขณะเดียวกันอัตราการดูดซับมากขึ้นของสารตั้งต้นและปฏิกิริยาย้อนหลังพื้นผิว เหมาะสมการเพิ่มความดันระบบสามารถปรับปรุงความสมบูรณ์ของปฏิกิริยาพื้นผิวและการสร้าง LM Fi ในการขี่จักรยาน การวิเคราะห์ความไวแสดงให้เห็นว่าสายพันธุ์พื้นผิวรูปแบบของ | -OH, | -Al (CH3) 2 และ | -Al (CH3) 2 มีระดับที่แตกต่างกันของความไวต่อปฏิกิริยาขั้นตอนพื้นผิวและเผยให้เห็นขั้นตอนการ จำกัด อัตราในการรักษาผู้นำสอง รอบ 2014 จัดพิมพ์โดยเอลส์เวียร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แบบจำลองทางคณิตศาสตร์ของการสะสมชั้นอะตอมของอลูมินาถูกพัฒนาขึ้นโดยใช้ TMA H2O ald ปฏิบัติการเป็นฐานทางกายภาพ แบบติดแน่นสะพานกระบวนการพลวัตของเครื่องปฏิกรณ์ ald กับรายละเอียดพื้นผิว จลนศาสตร์เคมี ซึ่งการเปลี่ยนแปลงเวลาของสปีชีส์บนพื้นผิวเป็นแบบตั้งต้นในแต่ละจังหวะ รูปแบบการตรวจสอบโดยการทดลอง เมื่อการตรวจสอบงานจักรยาน ald อย่างต่อเนื่อง ) ภายใต้เงื่อนไขที่แตกต่างกัน . พบว่าอุณหภูมิที่เพิ่มขึ้นจะสามารถลดเวลาปฏิกิริยาในพื้นผิวสองครึ่ง รอบ และในขณะเดียวกันอัตราการคายสารกระชับผิว และปฏิกิริยาย้อนกลับ สามารถเพิ่มแรงดันระบบสามารถปรับปรุงความสมบูรณ์ของปฏิกิริยาและพื้นผิวจึง LM การพัฒนาในการขี่จักรยานการวิเคราะห์ความอ่อนไหว พบว่า รูปแบบของพื้นผิวชนิด | –โอ้ | –อัล ( CH3 ) 2 และ | –อัล ( CH3 ) 2 มีองศาที่แตกต่างกันของความไวต่อพื้นผิวปฏิกิริยาขั้นตอน และพบอัตราการขั้นตอนในการรักษาสารสองรอบ . ได้รับการตีพิมพ์โดยเอลส์ในปี 2014 นอกจากนี้