Sputtering is the preferred industr

Sputtering is the preferred industrial thin film vacuum deposition technique, but it is also widely used in research laboratories. Sputtered films exhibit excellent, reproducibility, uniformity, density, purity and adhesion. It is possible to make oxides, nitrites, and other compounds of precise composition by reactive sputtering from metal targets [28, 30]. In dc sputtering, substrates are placed in the vacuum chamber, and it is evacuated to high vacuum before a low pressure (0.05–1 Pa) of the process gas, usually argon, is introduced. Sputtering
starts when a negative potential of a few hundred volts is applied to the target material to be deposited, causing a plasma or glow discharge. Positively charged Ar+ ions generated in the plasma collide with the negatively biased target. The momentum transfer ejects atomic-scale particles from the target, which traverse the chamber and are deposited as a thin film on the surface of the substrate. A magnetic field is usually created near the target surface bymeans of an arrangement of permanent magnets, known as a magnetron, in order to improve the ionization efficiency. Oxygen is mixed with the argon sputtering gas to produce oxides from metal targets. Alternatively, to make oxide or other insulating films directly, the radio-frequency method of rf sputtering is employed. Here the power supply commonly operates at 13.56 MHz. For part of the cycle, Ar ions bombard the target; for the rest of the cycle, electrons neutralize the build up of positive charge. Electrons also ionize the argon to create the plasma. Sputtering systems often have multiple targets, which permit the fabrication of complex thin film stacks used for
spin electronic applications. An argon pressure of 0.02 Pa is usually sufficient to maintain a radio-frequency discharge.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สปัตเตอร์เป็นเทคนิคดูดสะสมฟิล์มบางอุตสาหกรรมที่ต้องการ แต่มันยังถูกใช้ในห้องปฏิบัติการวิจัย จัดแสดง sputtered ภาพยนตร์ยอดเยี่ยม แสดง สม่ำเสมอ ความหนาแน่น ความบริสุทธิ์ และยึดเกาะ เป็นไปได้ที่จะทำให้ออกไซด์ ไนไตรท์ และสารประกอบอื่น ๆ ขององค์ประกอบที่แม่นยำ โดยสปัตเตอร์ปฏิกิริยาจากชิ้นงานโลหะ [28, 30] ในดีซีสปัตเตอร์ พื้นผิวที่อยู่ในห้องสุญญากาศ และมันจะอพยพไปดูดสูงก่อนที่จะมีแรงดันต่ำ (0.05 – 1 Pa) ของก๊าซกระบวนการ มักจะ อาร์กอนถูกนำมาใช้ สปัตเตอร์เริ่มเมื่อมีใช้ศักยภาพเชิงลบกี่ร้อยโวลต์วัสดุเป้าหมายที่จะฝาก ก่อให้เกิดการปล่อยพลาสมาหรือเรืองแสง มีประจุบวก Ar + ไอออนในพลาสมาสร้างชนกับเป้าหมายลำเอียงในเชิงลบ การถ่ายโอนโมเมนตัมพ่นจ่ายออกขนาดอะตอมอนุภาคจากเป้าหมาย ที่ข้ามห้อง และฝากเป็นฟิล์มบนพื้นผิวของพื้นผิว มักจะมีสร้างสนามแม่เหล็กใกล้ bymeans พื้นผิวเป้าหมายของการจัดเรียงของแม่เหล็กถาวร เป็นการผลิตกล่องจากกระดาษ เพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการไอออไนซ์ ออกซิเจนมีผสมกับก๊าซอาร์กอนสปัตเตอร์ผลิตจากชิ้นงานโลหะออกไซด์ อีกวิธีหนึ่งคือ จะทำให้ออกไซด์หรือภาพยนตร์อื่น ๆ ฉนวน โดยตรง วิธีการความถี่วิทยุ rf สปัตเตอร์เป็นลูกจ้าง ที่นี่ไฟฟ้าทั่วไปทำงานที่ 13.56 MHz สำหรับส่วนของวงจร Ar ไอออนแห่งเป้าหมาย สำหรับส่วนเหลือของรอบ อิเล็กตรอนแก้สร้างค่าบวกค่าใช้จ่าย อิเล็กตรอนยัง ionize อาร์กอนเพื่อสร้างพลาสม่า ระบบสปัตเตอร์มักจะมีเป้าหมายหลาย ซึ่งอนุญาตให้มีการผลิตของฟิล์มบางที่ซับซ้อนกองใช้สำหรับใช้ไฟฟ้าหมุน มีแรงดันอาร์กอน 0.02 Pa เป็นปกติจะเพียงพอในการรักษาที่ปล่อยคลื่นความถี่วิทยุ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์เป็นอุตสาหกรรมภาพยนตร์สูญญากาศเทคนิคการสะสมที่ต้องการบาง แต่ก็ยังใช้กันอย่างแพร่หลายในห้องปฏิบัติการวิจัย ภาพยนตร์ sputtered แสดงที่ยอดเยี่ยมในการทำซ้ำสม่ำเสมอ, ความหนาแน่นของความบริสุทธิ์และการยึดเกาะ มันเป็นไปได้ที่จะทำให้ออกไซด์, ไนไตรต์และสารประกอบอื่น ๆ ขององค์ประกอบที่แม่นยำโดยสปัตเตอร์ปฏิกิริยาจากเป้าหมายโลหะ [28 30] ใน DC สปัตเตอร์, พื้นผิวจะถูกวางไว้ในห้องสูญญากาศและจะมีการอพยพไปสูญญากาศสูงก่อนที่ความดันต่ำ (0.05-1 PA) ของก๊าซกระบวนการที่มักจะอาร์กอนเป็นที่รู้จัก สปัตเตอร์
เริ่มต้นเมื่อมีศักยภาพเชิงลบของการไม่กี่ร้อยโวลต์ถูกนำไปใช้วัสดุเป้าหมายที่จะนำมาฝากกันทำให้เกิดการเรืองแสงพลาสม่าหรือปล่อย ไอออนประจุบวกเท่ + สร้างขึ้นในพลาสม่าชนกับเป้าหมายลำเอียงในเชิงลบ การถ่ายโอนโมเมนตัมสำรอกอนุภาคอะตอมขนาดจากเป้าหมายซึ่งสำรวจห้องและจะฝากเป็นฟิล์มบาง ๆ บนพื้นผิวของพื้นผิว สนามแม่เหล็กมักจะถูกสร้างขึ้นใกล้พื้นผิว bymeans เป้าหมายของการจัดเรียงของแม่เหล็กถาวรที่รู้จักในฐานะแมกหนึ่งในการที่จะปรับปรุงประสิทธิภาพไอออนไนซ์ ออกซิเจนผสมกับก๊าซอาร์กอนสปัตเตอร์ในการผลิตออกไซด์จากเป้าหมายโลหะ หรืออีกวิธีหนึ่งที่จะทำให้ออกไซด์หรืออื่น ๆ ที่ภาพยนตร์ฉนวนโดยตรงวิธีการใช้คลื่นความถี่วิทยุของ RF สปัตเตอร์เป็นลูกจ้าง นี่คือแหล่งจ่ายไฟทั่วไปทำงานที่ 13.56 MHz เพื่อเป็นส่วนหนึ่งของวงจรเท่ไอออนถล่มเป้าหมาย; สำหรับส่วนที่เหลือของวงจรอิเล็กตรอนต่อต้านการสร้างขึ้นของประจุบวก อิเล็กตรอนยังละอองอาร์กอนเพื่อสร้างพลาสม่า ระบบสปัตเตอร์มักจะมีเป้าหมายหลาย
ซึ่งอนุญาตให้มีการผลิตที่ซับซ้อนกองฟิล์มบางที่ใช้สำหรับ การใช้งานอิเล็กทรอนิกส์ปั่น ความดันอาร์กอน 0.02 ป่ามักจะเพียงพอที่จะรักษาปล่อยคลื่นความถี่วิทยุ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สปัตเตอร์ที่เป็นที่ต้องการอุตสาหกรรมสูญญากาศเทคนิคการเคลือบแบบฟิล์มบาง แต่ยังเป็นที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในห้องปฏิบัติการวิจัย sputtered ภาพยนตร์แสดงยอดเยี่ยม ตรวจสอบความ หนาแน่น ความบริสุทธิ์ และการยึดเกาะ มันเป็นไปได้ที่จะทำให้ออกไซด์ สารประกอบไนเตรท และ อื่น ๆ , องค์ประกอบที่ชัดเจน โดยปฏิกิริยาทำงานจากชิ้นงานโลหะ [ 28 , 30 ] ดีซีสปัตเตอริง พื้นผิว จะอยู่ในช่วงสุญญากาศ และเป็นการอพยพสูญญากาศสูงก่อนที่แรงดันต่ำ ( 0.05 ( 1 ) ) ของกระบวนการก๊าซมักจะอาร์กอน , เป็นที่รู้จัก สปัตเตอริงเริ่มเมื่อเชิงลบที่อาจเกิดขึ้นเพียงไม่กี่ร้อยโวลต์ที่ใช้กับวัสดุเป้าหมายที่จะฝากให้พลาสมา หรือเรืองแสงได้ปล่อย มีประจุบวก AR + ไอออนที่สร้างขึ้นในพลาสมาชนกับลำเอียงไปทางซ้ายของเป้าหมาย โมเมนตัมการ ejects อนุภาคขนาดอะตอมจากเป้าหมาย ซึ่งเข้าไปในห้องและจะฝากเป็นฟิล์มบาง ๆบนพื้นผิวของพื้นผิว สนามแม่เหล็กคือมักจะสร้างใกล้พื้นผิวของชิ้นงานโดยการจัดเรียงของแม่เหล็กถาวรที่รู้จักกันเป็นโลหะเพื่อปรับปรุงไออย่างมีประสิทธิภาพ ออกซิเจนผสมกับก๊าซอาร์กอนไนโตรเจนออกไซด์ จากเป้าหมายที่จะผลิตโลหะ อีกวิธีหนึ่งคือ การทำให้ออกไซด์หรือฉนวนอื่น ๆภาพยนตร์โดยตรง ด้วยวิธีสปัตเตอริงโดยใช้คลื่นความถี่วิทยุ RF . ที่นี่ไฟมักทำงานที่ 13.56 MHz . ในส่วนของรอบไอออน AR ถล่มเป้าหมาย ส่วนที่เหลือของรอบ ตัวแก้ สร้างขึ้นจากประจุบวก เปลี่ยนเป็นอิออน อิเล็กตรอนก็จะสร้างอาร์กอนพลาสมา ระบบสปัตเตอริงมักจะมีเป้าหมายหลาย ซึ่งอนุญาตให้มีการใช้ฟิล์มบางกองที่ซับซ้อนปั่นงานอิเล็กทรอนิกส์ . เป็นก๊าซความดัน 0.02 PA มักจะเพียงพอที่จะรักษาคลื่นความถี่วิทยุปล่อย